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公开(公告)号：CN103201232A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201180054499.9
申请日：2011-11-11
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C04B35/453 , C04B35/00 , C04B35/457 , C23C14/34
CPC classification number: H01B1/08 , C04B35/453 , C04B35/457 , C04B35/6261 , C04B35/62695 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/3293 , C04B2235/6567 , C04B2235/6585 , C04B2235/77 , C04B2235/80 , C23C14/086 , C23C14/3414
Abstract: 本发明的氧化物烧结体是将氧化锌、氧化锡和氧化铟的各粉末混合并烧结而得到的氧化物烧结体，在对氧化物烧结体进行X射线衍射时，以Zn2SnO4相为主相，具有在ZnSnO3中固溶有In和/或In2O3的In/In2O3-ZnSnO3固溶体，且未检测到ZnxInyOz相(x、y、z为任意的正整数)。根据本发明，能够提供一种适合用于制造显示装置用氧化物半导体膜的氧化物烧结体，所述氧化物烧结体兼具高导电性和高相对密度，能够使具有高载流子迁移率的氧化物半导体膜成膜。
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公开(公告)号：CN101995496B
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201010247383.4
申请日：2010-08-05
CPC classification number: H01R13/22 , G01R1/06738 , G01R1/06761 , H01R13/03 , Y10T428/30
Abstract: 本发明提供一种兼具导电性和耐久性并能够实现被检测体(特别是其所含的Sn)的低附着性和长期保持稳定的电接触的接触探针。本发明涉及的接触探针具有基材、和含有金属及其碳化物中的至少一种的碳被膜，该碳被膜连续地形成在接触探针的前端部到侧面部的表面上，碳被膜中的金属及其碳化物中的至少一种的含量从所述前端部朝向侧面部连续或者间断地减少。
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公开(公告)号：CN102985358A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201180031772.6
申请日：2011-06-27
CPC classification number: C23C14/14 , C01B19/002 , C01P2002/72 , C01P2002/85 , C01P2004/61 , C04B35/547 , C04B35/62655 , C04B35/645 , C04B2235/40 , C04B2235/407 , C04B2235/446 , C04B2235/656 , C04B2235/77 , C22C1/0491 , C22C9/00 , C22C28/00 , C22C30/00 , C22C30/02 , C23C14/0623 , C23C14/3414
Abstract: 本发明提供一种在烧结时或加工时不会发生破损的、含有Cu、In、Ga及Se的Cu-In-Ga-Se系粉末、以及使用该粉末的烧结体及溅射靶。本发明涉及含有Cu、In、Ga及Se元素的粉末，其中，Cu-In-Ga-Se系化合物和/或Cu-In-Se系化合物共计含有60质量％以上。本发明的粉末优选含有20质量％以下的In-Se系化合物和/或20质量％以下的Cu-In系化合物。
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公开(公告)号：CN102884437A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201180023166.X
申请日：2011-05-10
IPC: G01R1/067
CPC classification number: G01R1/06761 , G01R3/00 , G01R35/00
Abstract: 提供一种能够实现与被测器件(特别是被测器件中含有的Sn)的低附着性，并且能够长期保持稳定接触电阻的接触式探针和具有它的连接装置。本发明涉及一种与电极反复接触的接触式探针，其中，在与电极接触的所述接触式探针的表面，形成有含有金属元件的碳被膜，所述金属元素在碳被膜表面的浓度比碳被膜整体的平均浓度低。
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公开(公告)号：CN101898263B
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201010165145.9
申请日：2010-04-19
Applicant: 株式会社钢臂功科研
CPC classification number: B24B27/0633
Abstract: 本发明提供一种耐磨耗性优异的被覆锯丝，其是在基底丝的表面被覆有机被膜或无机被膜，作为在一边喷射磨粒一边进行切割时使用的被覆锯丝。另外，提供一种能够使工件切割面的精度良好的被覆锯丝。是一种在基底丝的表面被覆有有机被膜或无机被膜的锯丝，该被覆锯丝以纳米压痕法测定时，被膜表面的杨氏模量(GPa)与被膜表面的硬度(GPa)之比(杨氏模量/硬度)为6～25。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102051504A
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN201010529527.5
申请日：2010-10-28
Abstract: 本发明提供一种Al基合金溅射靶，其对于形成低布线电阻和抗小丘性优异的金属薄膜有用，优选还能够抑制溅射时的飞溅发生。本发明涉及Al基合金溅射靶，其含有Fe为0.0010～0.4质量％和Si为0.0010～0.50质量％。
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公开(公告)号：CN101995496A
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN201010247383.4
申请日：2010-08-05
CPC classification number: H01R13/22 , G01R1/06738 , G01R1/06761 , H01R13/03 , Y10T428/30
Abstract: 本发明提供一种兼具导电性和耐久性并能够实现被检测体(特别是其所含的Sn)的低附着性和长期保持稳定的电接触的接触探针。本发明涉及的接触探针具有基材、和含有金属及其碳化物中的至少一种的碳被膜，该碳被膜连续地形成在接触探针的前端部到侧面部的表面上，碳被膜中的金属及其碳化物中的至少一种的含量从所述前端部朝向侧面部连续或者间断地减少。
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公开(公告)号：CN101353779B
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN200810134033.X
申请日：2008-07-22
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F2998/10 , C22C1/0491 , C22C21/00 , C22F1/04 , B22F9/082 , B22F3/115 , B22F3/15 , B22F3/17 , B22F3/18
Abstract: 本发明涉及一种含有Ni、La和Si的Al-Ni-La-Si体系Al-基合金溅射靶，其中当使用扫描电子显微镜以2000倍的放大倍数观察在垂直于所述溅射靶的平面的横截面中从(1/4)t至(3/4)t(t：厚度)的截面时，(1)按面积分数计，平均粒径为0.3μm至3μm的Al-Ni体系金属间化合物的总面积相对于全部Al-Ni体系金属间化合物的总面积为70％以上，所述Al-Ni体系金属间化合物主要由Al和Ni组成；并且(2)按面积分数计，平均粒径为0.2μm至2μm的Al-Ni-La-Si体系金属间化合物的总面积相对于全部Al-Ni-La-Si体系金属间化合物的总面积为70％以上，所述Al-Ni-La-Si体系金属间化合物主要由Al、Ni、La和Si组成。
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公开(公告)号：CN101898263A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN201010165145.9
申请日：2010-04-19
Applicant: 株式会社钢臂功科研
CPC classification number: B24B27/0633
Abstract: 本发明提供一种耐磨耗性优异的被覆锯丝，其是在基底丝的表面被覆有机被膜或无机被膜，作为在一边喷射磨粒一边进行切割时使用的被覆锯丝。另外，提供一种能够使工件切割面的精度良好的被覆锯丝。是一种在基底丝的表面被覆有有机被膜或无机被膜的锯丝，该被覆锯丝以纳米压痕法测定时，被膜表面的杨氏模量(GPa)与被膜表面的硬度(GPa)之比(杨氏模量/硬度)为6～25。
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公开(公告)号：CN100523277C
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200480009107.7
申请日：2004-03-22
Applicant: 株式会社钢臂功科研
CPC classification number: B23K20/22 , C23C14/3407 , C23C14/3414
Abstract: 一种由相同材料制成的金属薄片的对接制成的溅射靶被提供，其中连接部分中的金属间化合物具有的平均颗粒直径是非连接部分中的金属间化合物平均颗粒直径的60%至130%。在溅射靶中，连接部分中的金属间化合物的平均颗粒直径与非连接部分中的近似相同。
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