一种用于氢化物气相外延的反应器

    公开(公告)号:CN103806092A

    公开(公告)日:2014-05-21

    申请号:CN201410031343.4

    申请日:2014-01-23

    Abstract: 本发明公开一种用于立式氢化物气相外延(HVPE)的反应器,包括轴对称圆柱型腔体、前驱物通道、衬底、石墨圆盘及支撑杆;其中前驱物通道从上至下依次由第一圆筒、过渡段、第二圆筒、裙体扩展段、第三圆筒组成;该反应器还包括设置在第二圆筒中间位置的第二整流板,设置在第三圆筒内部具有周向阵列折流板的第一折流装置;包括设置在通道第一、第二、第三圆筒内部的第一、第二、第三整流板,以及设置在石墨盘径向外围的第二折流装置;包括对反应式腔体外壁进行径向扩充;包括设置在通道第一、第二圆筒内部的第一、第二整流板,设置在第三圆筒内部与石墨盘径向外围的第一、第二折流装置,以及反应气体的径向出口。

    一种多夹头晶片夹具
    112.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103094173A

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN201210559394.5

    申请日:2012-12-21

    Abstract: 本发明公开了一种多夹头晶片夹具,通过施力于夹臂控制夹头,减小各夹头之间距使其合拢并接触晶片的侧边缘,来完成夹片操作。本发明包含有四个及以上夹头,夹头安装在夹臂末端,在其一个及以上夹臂末端上可安装多个夹头,形成多夹头夹具,部分夹臂相对固定,其余夹臂可定向移动带动夹头靠拢、接触晶片侧边缘实施夹取操作,夹臂之间形成有夹角。本发明的多夹头夹具,仅需其中三个夹头作用在晶片上,便能达到夹具的作用,从而降低对夹头的控制精确度的要求及夹持晶片的操控难度,提高安全性。

    半导体及微电子行业耐高温防滑夹具

    公开(公告)号:CN103094172A

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN201210559378.6

    申请日:2012-12-21

    Abstract: 本发明公开了半导体及微电子行业耐高温防滑夹具,通过夹头与夹臂的安装组合方式,使用时施力于夹臂,用卡槽卡住所夹持晶片,有效防止夹持过程中晶片的掉落。本发明包含有第一夹臂、第二夹臂,第一夹臂另一端安装第一夹头,第二夹臂另一端安装第二夹头,第一夹头与第二夹头之间形成卡槽夹持部,通过作用第一夹臂、第二夹臂控制第一夹头、第二夹头的运动作用于样品。本发明根据使用温度的不用,夹臂和夹头可选择适当的耐高温材料制成,达到高温条件下取放晶片的目的。

    一种高温环境下使用的液位控制装置

    公开(公告)号:CN103034252A

    公开(公告)日:2013-04-10

    申请号:CN201210559376.7

    申请日:2012-12-21

    Abstract: 本发明公开了一种高温环境下使用的液位控制装置,其耐高温,结构简单,成本低廉。本发明包含有液源容纳区,液源容纳区通过进液通道连通液槽,液源容纳区的液面高于液槽的液面,进液通道内设有密封模块,密封模块与进液通道可密闭配合,密封模块连接控制模块,控制模块位于液槽内,控制模块将液位信息转化为信号传递到密封模块,控制模块传递给密封模块的的信号是力信号、位置信号、形变信号,控制模块上设有一个及以上可增减或更换的重块。本发明通过选材、原理结构和密封面处理,实现了对高温液体的液位控制。

    一种增强SOG工艺微结构键合强度的方法

    公开(公告)号:CN103011056A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201210501839.4

    申请日:2012-11-29

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开一种增强SOG工艺微结构键合强度的方法,该方法采用由多个锚点构成的组合式锚点结构进行微结构键合。该组合式锚点优选为阵列形式。可以通过拉伸或者剪切断裂试验确定使组合式锚点结构的键合强度最大的锚点数目,并作为组合式锚点中锚点的数目。可以通过光刻允许的最小间距、保持有利于应力释放的极限间距两个因素确定组合式锚点中锚点间的间隙尺寸。本发明还提供一种采用所述组合式锚点结构MEMS器件;本发明通过对锚点的分布进行合理的设计以减小工艺过程中带来的热失配应力,从而增强基于SOG工艺制造的微结构的键合强度,能够显著提高工艺成品率,提高基于SOG工艺制造的MEMS器件的可靠性。

    一种施加垂直于悬臂梁的作用力的方法及装置

    公开(公告)号:CN102967510A

    公开(公告)日:2013-03-13

    申请号:CN201210397912.8

    申请日:2012-10-18

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明涉及一种施加垂直于悬臂梁的作用力的方法和装置,通过探针台探针向具有曲面探针头的片上力学微探针施加负载力;片上力学微探针通过曲面探针头向悬臂梁施加作用力,同时该片上力学微探针进行转动以使该悬臂梁在弯曲过程中受到的作用力始终垂直于该悬臂梁。本发明在对被测悬臂梁施加作用力的过程中不会产生沿悬臂梁方向上的弹力,也不会产生摩擦力;并且由于力学微探针的缓冲作用使得负载力的施加更稳定,测量结果更准确。

    一种实时确定牺牲层腐蚀时间的方法

    公开(公告)号:CN102963861A

    公开(公告)日:2013-03-13

    申请号:CN201210450745.9

    申请日:2012-11-12

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开一种实时确定牺牲层腐蚀时间的方法,其步骤包括:采用表面牺牲层工艺在基片上制作牺牲层和MEMS器件的结构层;在所述结构层上淀积金属层;湿法腐蚀所述牺牲层,通过观测所述金属层中金属的脱落情况确定腐蚀完成时间。本发明可以通过肉眼观测的方式,非接触非破坏地确定牺牲层腐蚀时间,能够提高MEMS工艺质量和成品率。

    用于改良外延过程中衬底晶片表面温场的方法

    公开(公告)号:CN102828238A

    公开(公告)日:2012-12-19

    申请号:CN201210303314.X

    申请日:2012-08-24

    Abstract: 本发明一种用于改良外延过程中衬底晶片表面温场的方法,首先选取复合衬底晶片,在初始温度和外延起始温度不同时,计算出复合衬底晶片中第一种材料的体积变化和第二种材料的体积变化,然后根据第一种材料的体积变化和第二种材料的体积变化计算出复合衬底晶片变形后的球面半径;再根据计算得出的R0值在载体上开设衬底球径结构;然后把复合衬底晶片置放到衬底球径结构中,在HVPE中进行半导体材料生长。本发明改善了半导体材料外延过程起始阶段衬底晶片表面温场的均匀性,提高外延起始层与原有材料的衔接质量,降低了工艺调试难度,提高了外延半导体材料的质量。

    一种MEMS集成化方法
    120.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102515089A

    公开(公告)日:2012-06-27

    申请号:CN201110433579.7

    申请日:2011-12-21

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种MEMS集成化方法,在基片上先刻蚀出MEMS区域凹槽,在凹槽以外的区域制作CMOS电路,完成除金属互连以外的所有IC工艺;然后淀积IC保护层,在凹槽内采用MEMS表面牺牲层工艺制作MEMS结构;再刻蚀形成IC区域的引线孔,淀积并图形化金属形成金属互连;最后用光刻胶保护凹槽以外的区域,去除牺牲层,释放MEMS可动结构,制得单片集成芯片。本发明采用MEMS-IC-MEMS交叉制作工艺完成MEMS和IC的单片集成,通过凹槽降低了MEMS结构和IC之间的高度差,减小了集成化工艺对光刻的压力,同时通过调整工艺顺序避免了金属脱落,提高了工艺质量和成品率。

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