一种网络诱骗与反攻击的主动防御方法

    公开(公告)号:CN103457931B

    公开(公告)日:2016-08-10

    申请号:CN201310355000.9

    申请日:2013-08-15

    Abstract: 本发明公开了一种网络诱骗与反攻击的主动防御方法,包括以下步骤:通信双方设置多台主机进行数据的发送和接收,并通过一个地址和端口跳变服务器动态随机选择一台主机作为通信主机;发送方选择一条或多条传输链路发送诱骗报文,以检测传输链路的安全性和信道质量,如果链路安全就构造并发送带反攻击性的真实数据,与此同时,发送方继续发送诱骗报文进行链路探测;中间节点负责检测传输链路的安全状况并反馈给网络管理员;网络管理员根据节点的安全状况来更新传输路径,并采取安全防御措施。本发明能有效地预防与检测网络通信中常见的安全攻击,并能对攻击方进行一定的反向攻击。

    一种网络诱骗与反攻击的主动防御方法

    公开(公告)号:CN103457931A

    公开(公告)日:2013-12-18

    申请号:CN201310355000.9

    申请日:2013-08-15

    Abstract: 本发明公开了一种网络诱骗与反攻击的主动防御方法,包括以下步骤:通信双方设置多台主机进行数据的发送和接收,并通过一个地址和端口跳变服务器动态随机选择一台主机作为通信主机;发送方选择一条或多条传输链路发送诱骗报文,以检测传输链路的安全性和信道质量,如果链路安全就构造并发送带反攻击性的真实数据,与此同时,发送方继续发送诱骗报文进行链路探测;中间节点负责检测传输链路的安全状况并反馈给网络管理员;网络管理员根据节点的安全状况来更新传输路径,并采取安全防御措施。本发明能有效地预防与检测网络通信中常见的安全攻击,并能对攻击方进行一定的反向攻击。

    一种光寻址像素化空间光调制器与空间光场调制方法

    公开(公告)号:CN117687129B

    公开(公告)日:2024-12-06

    申请号:CN202311847795.5

    申请日:2023-12-29

    Abstract: 本发明公开了一种光寻址像素化空间光调制器与空间光场调制方法,属于微纳光学领域,本发明根据调控方式设计超像素超表面器件;计算光场调控量的空间分布并将其编码为结构光场分布;利用结构光场编码投影模块生成对应结构光束作用于超像素超表面器件,从而实现目标光场调制;能够实现高精度、高速度的像素化复杂光场调控;本发明提供的超像素超表面器件,借助于晶胞单元的小结构尺寸和优异的光场调控能力,能够实现高精度光场调控;借助于超晶胞的器件设计概念,结合结构光场编码投影模块可以实现像素化的任意光场调控。通过同时照射多个子结构以及对子结构进行复用设计,可增强器件的调制能力如实现复振幅调控等,具有较大的优化和功能挖掘潜力。

    一种基于激光直写的金属氧化物微纳结构、其制备和应用

    公开(公告)号:CN112028013B

    公开(公告)日:2024-03-19

    申请号:CN202011076055.2

    申请日:2020-10-10

    Abstract: 本发明属于激光应用技术领域,更具体地,涉及一种基于飞秒激光直写的金属氧化物微纳结构、其制备和应用。本发明首先将金属氧化物前驱体与溶剂混合制备得到金属氧化物前驱体溶胶凝胶,接着将该溶胶凝胶涂覆于衬底表面得到凝胶薄膜,进行飞秒激光直写,利用飞秒激光高峰值功率产生的能量使金属氧化物前驱体发生反应生成金属氧化物微纳结构。本发明通过飞秒激光直写技术直接实现金属氧化物微纳结构的制备,由于飞秒激光峰值功率高,可直接烧结出金属氧化物,不需要其他处理,方便快捷。适用于任意亲疏水基底,可实现高精度、跨尺度、高定向的任意金属氧化物微纳结构的制备。

    一种高均匀性低衬底损伤表面选择性金属化工艺

    公开(公告)号:CN117637486A

    公开(公告)日:2024-03-01

    申请号:CN202311611969.8

    申请日:2023-11-29

    Abstract: 本发明提出了一种高均匀性低衬底损伤表面选择性金属化工艺,包括以下步骤:S1、将金属盐、络合剂以及溶剂混合制备油墨前驱体;S2、将油墨前驱体在衬底上进行图案化印刷处理,并在50~80℃下烘干5~15min,得到固态油墨图案;S3、通过超快激光后处理工艺对固态油墨图案进行后处理金属化,得到金属微图案结构。本申请通过将油墨前驱体进行图案化处理,促使液态的油墨前驱体制备成均匀的固态油墨图案化薄膜,通过采用超快激光后处理工艺进行表面选择性金属化处理,并结合光束整形技术,与图案化印刷处理相协同作用,进一步提高金属微图案结构的形貌和质量分布均匀性,提高导电性能。

    一种声光动态调焦模块及三维扫描系统

    公开(公告)号:CN117600647A

    公开(公告)日:2024-02-27

    申请号:CN202311445722.3

    申请日:2023-11-01

    Abstract: 本发明公开了一种声光动态调焦模块及三维扫描系统。所述声光动态调焦模块包括依次沿光路设置的多个光学组件以及聚焦场镜,所述多个光学组件包括第一声光偏转器、第一凹面抛物面镜、第二凹面抛物面镜以及第二声光偏转器;所述第一凹面抛物面镜以及第二凹面抛物面镜的凹面相对设置;在任意两个光学组件之间设置有像差校正镜组;在任意两个光学组件之间设置有像差校正镜组;所述第一声光偏转器和所述第二声光偏转器用于通过自身的折射率变化,使经聚焦场镜聚焦后的激光的焦点沿光路方向发生偏转。本发明由于采取声光偏转器进行动态调焦,沿光路方向的调焦频率可提高到MHz级别,提高了三维扫描的速度,从而大幅提高了系统的调焦性能。

    一种基于多焦点超透镜的飞秒激光直写系统

    公开(公告)号:CN116430678B

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202310286115.0

    申请日:2023-03-23

    Abstract: 本发明公开了一种基于多焦点超透镜的飞秒激光直写系统,属于激光加工技术领域,包括:飞秒激光器,用于出射飞秒激光;光路调制组件,对飞秒激光的偏振态、功率和偏转方向进行调制,得到调制激光;多焦点超透镜,用于聚焦调制激光并在光刻胶内部产生多个焦点,同时具有消色差和消像差功能,得到目标激光;工作台组件,用于平移样品以使其处于目标激光的照射区域并利用目标激光进行三维微纳结构加工;观察组件,用于对样品的三维微纳结构加工过程激提供实时观察。本发明利用多焦点超透镜直接替代传统的聚焦物镜实现紧聚焦,实现对任意微纳结构的高通量、高精度、大视场加工,由此解决现有激光直写系统复杂度高、操作繁琐和不易维护的技术问题。

    一种基于激光直写的金属微纳3D打印方法

    公开(公告)号:CN115106537A

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN202210693822.7

    申请日:2022-06-19

    Abstract: 本发明提供了一种基于激光直写的金属微纳3D打印方法,属于激光加工技术领域,包括:S1配置光固化前驱体,该光固化前驱体包括材料单体、交联剂、光敏剂和引发剂,材料单体、交联剂、光敏剂和引发剂的质量比为1:(0.1~0.9):(0.05~0.8):(0.01~0.1),材料单体为能与金属离子形成配位键的有机化合物,S2利用激光直写方式在光固化前驱体中成形预定义的微纳三维结构,并将其浸入金属离子溶液中吸附金属离子,S3将吸附金属离子的预定义的微纳三维结构进行化学还原,S4对化学还原后的预定义的微纳三维结构退火。本发明方法能提高金属微纳3D打印制造的速度,产品致密度和精度,可以实现多种金属材料的打印。

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