衬底清洗方法
    101.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102349137B

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201080011571.5

    申请日:2010-03-10

    CPC classification number: H01L21/67051 H01L21/02057

    Abstract: 本发明提供一种衬底清洗方法,将形成有微细图案的衬底以不会对其细微图案带来不良影响的方式在短时间内进行清洗。关于形成有具有代表长度为0.1μm以下的槽或者孔的微细图案的晶圆(W),以在含有水分的空间内隔着配置在规定位置上的对置电极(46)并隔着固定间隔与具有锐角状的前端部的冷却自由的放电电极(45)的前端部相对置的方式,配置晶圆(W),使放电电极(45)进行冷却使放电电极(45)产生结露,并且在放电电极(45)与对置电极(46)之间施加固定电压。在施加该固定电压时,在放电电极(45)的前端部产生含有直径10nm以下的水微粒子的气溶胶,通过将气溶胶喷射到晶圆(W)来清洗晶圆(W)。

    气密模块以及该气密模块的排气方法

    公开(公告)号:CN101777487B

    公开(公告)日:2013-01-23

    申请号:CN201010126106.8

    申请日:2008-07-25

    Inventor: 守屋刚

    CPC classification number: H01L21/67201

    Abstract: 本发明提供一种气密模块以及该气密模块的排气方法,能够不降低生产效率地防止在基板的主面形成的图案发生倾倒。基板处理系统的负载锁定模块(5)具有移载臂(31)、腔室(32)以及负载锁定模块排气系统(34),在腔室(32)内以与搬入到腔室(32)内的晶片(W)的主面相对的方式配置有板状部件(36),在晶片(W)的主面的正上方,通过晶片(W)的主面和板状部件(36)划分成与腔室(32)的剩余部分隔离的排气流路,该排气流路的截面积比腔室(32)的剩余部分的截面积小。

    基板收纳装置
    104.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102714169A

    公开(公告)日:2012-10-03

    申请号:CN201180006564.0

    申请日:2011-02-21

    Inventor: 守屋刚

    CPC classification number: H01L21/67359 H01L21/67393 Y10T137/86035

    Abstract: 本发明提供一种基板收纳装置。该基板收纳装置根据使用环境有效地防止异物附着在被收纳的基板上。基板收纳装置包括:供气部(110),其用于向基板收纳装置(100)内引入外部空气;排气部(120),其与供气部相对配置;基板载置板(140),其设在供气部与排气部之间,具有连通该供气部和该排气部的连通孔(142);供气过滤器(112),其设在供气部;鼓风机(122),其设在供气部或排气部,该基板收纳装置将状态传感器、微粒带电装置和调温装置中的任一个或状态传感器、微粒带电装置和调温装置中的两个以上的组合装卸自如地设于安装孔(150),该状态传感器用于检测基板收纳装置(100)内的状态(图2)。

    气密模块以及该气密模块的排气方法

    公开(公告)号:CN101355018B

    公开(公告)日:2012-06-13

    申请号:CN200810144215.5

    申请日:2008-07-25

    Inventor: 守屋刚

    CPC classification number: H01L21/67201

    Abstract: 本发明提供一种气密模块以及该气密模块的排气方法,能够不降低生产效率地防止在基板的主面形成的图案发生倾倒。基板处理系统的负载锁定模块(5)具有移载臂(31)、腔室(32)以及负载锁定模块排气系统(34),在腔室(32)内以与搬入到腔室(32)内的晶片(W)的主面相对的方式配置有板状部件(36),在晶片(W)的主面的正上方,通过晶片(W)的主面和板状部件(36)划分成与腔室(32)的剩余部分隔离的排气流路,该排气流路的截面积比腔室(32)的剩余部分的截面积小。

    衬底清洗方法
    107.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102349137A

    公开(公告)日:2012-02-08

    申请号:CN201080011571.5

    申请日:2010-03-10

    CPC classification number: H01L21/67051 H01L21/02057

    Abstract: 本发明提供一种衬底清洗方法,将形成有微细图案的衬底以不会对其细微图案带来不良影响的方式在短时间内进行清洗。关于形成有具有代表长度为0.1μm以下的槽或者孔的微细图案的晶圆(W),以在含有水分的空间内隔着配置在规定位置上的对置电极(46)并隔着固定间隔与具有锐角状的前端部的冷却自由的放电电极(45)的前端部相对置的方式,配置晶圆(W),使放电电极(45)进行冷却使放电电极(45)产生结露,并且在放电电极(45)与对置电极(46)之间施加固定电压。在施加该固定电压时,在放电电极(45)的前端部产生含有直径10nm以下的水微粒子的气溶胶,通过将气溶胶喷射到晶圆(W)来清洗晶圆(W)。

    减压处理室内的部件清洁方法和基板处理装置

    公开(公告)号:CN101320677B

    公开(公告)日:2012-02-01

    申请号:CN200810128050.2

    申请日:2004-08-25

    Abstract: 本发明涉及减压处理室内的部件清洁方法和基板处理装置。为了使附着在减压处理室内的部件上的微颗粒飞散,清洁部件,采用将电压加在部件上,利用麦克斯韦应力使微颗粒飞散的方法;使微颗粒带电,利用库仑力飞散的方法,将气体导入减压处理室中,使气体冲击波到达附着有微颗粒的部件,使微颗粒飞散的方法;使部件温度上升,利用热应力和热泳动力,使微颗粒飞散的方法;或将机械振动给与部件,使微颗粒飞散的方法。另外,使飞散的微颗粒在较高压的气氛下被气体流夹带除去。

    涡轮分子泵及涡轮分子泵用颗粒捕集器

    公开(公告)号:CN102326002A

    公开(公告)日:2012-01-18

    申请号:CN201080009031.3

    申请日:2010-02-05

    CPC classification number: F04D29/701 F04D19/042

    Abstract: 本发明提供一种涡轮分子泵,其包括:转子(30),其形成有多层旋转叶片(32)且能够进行高速旋转;多个固定叶片(33),它们在泵轴线方向上与旋转叶片(32)交替配置;泵外壳(34),其用于容纳旋转叶片(32)及固定叶片(33)且形成有进气口(21a);圆盘(150),其设在靠近转子(30)的进气口侧的位置上且以与比转子(30)的旋转叶片根部靠近内径侧的面相面对的方式进行配置;圆筒状的网眼结构体(153a、153b),其配置在进气口(21a)和转子(30)之间且由细线编织而成,将被转子弹起的颗粒捕捉到网眼结构体(153a、153b)的内部。

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