坩埚及采用该坩埚的类单晶铸锭方法

    公开(公告)号:CN108977876A

    公开(公告)日:2018-12-11

    申请号:CN201810983636.0

    申请日:2018-08-27

    IPC分类号: C30B11/00 C30B29/06

    CPC分类号: C30B11/002 C30B29/06

    摘要: 本发明提供一种坩埚及采用该坩埚的类单晶铸锭方法,所述坩埚包括坩埚本体,还包括设于所述坩埚本体内底部上的若干条状的隔离块,所有的所述隔离块纵横交错布置,以隔离出若干籽晶放置区域,所述隔离块的热导率低于所述坩埚本体底部的热导率,所述隔离块的宽度位于1mm至3mm之间。本发明中的坩埚及类单晶铸锭方法方法,由于类单晶籽晶块被隔离块隔离开,这样在长晶过程当中,类单晶籽晶块之间就不会产生挤压,同时单晶硅片能够很好的填补隔离块隔离出的籽晶间隙,整体实现无缝拼接,这样很好的避免籽晶缝隙形成多晶的同时又很好的消除了籽晶拼接处的挤压,从而降低接缝间缺陷,提升成型后的类单晶品质。

    一种用于人工晶体的生长装置
    94.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107236986A

    公开(公告)日:2017-10-10

    申请号:CN201710561557.6

    申请日:2017-07-11

    发明人: 李留臣 周正星

    IPC分类号: C30B11/00

    CPC分类号: C30B11/002

    摘要: 本发明公开了一种用于人工晶体的生长装置,包括托盘、多个沿圆周方向环绕的设于托盘上的坩埚、设于托盘上方的具有用于容纳多个坩埚的中空腔体的保温机构、设于保温机构中的位于多个坩埚外侧周部的外加热器、设于保温机构中的位于多个坩埚环绕中心的中心加热器。本发明一种用于人工晶体的生长装置,通过在多个坩埚的环绕中心设置中心加热器,对热场中心区域进行加热温度补偿,从而形成一个具有内、外共同加热的均匀热场区域,提高了大直径热场中温度的均匀性,提高了生产效率,降低了生产成本,使生长后的人工晶体的质量较好。

    制备基板上晶体岛的方法
    95.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107068545A

    公开(公告)日:2017-08-18

    申请号:CN201710167835.X

    申请日:2017-03-20

    IPC分类号: H01L21/02

    摘要: 某些电子应用,例如,有机发光二极管显示背板,要求在大面积上分布高品质半导体材料小岛。该面积超出了利用传统的基于晶锭的技术所能够制造的晶体半导体晶片的面积。本申请提供了一种岛状材料晶体岛的制造方法,该方法包括将岛状材料颗粒沉积在基板上,加热基板和岛状材料颗粒以熔化和融合颗粒从而形成熔球,然后冷却基板和熔球使熔球结晶,从而将岛状材料晶体岛固定在基板上。该方法可以用于在大面积范围内制造晶体岛阵列,远超基于传统晶锭技术所能制造的晶体半导体晶片面积。

    多晶硅锭的制造方法
    98.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106191992A

    公开(公告)日:2016-12-07

    申请号:CN201510479377.4

    申请日:2015-08-03

    IPC分类号: C30B28/04 C30B29/06

    摘要: 一种多晶硅锭的制造方法包含以下步骤:(A)将一个装有一硅料并具有一个底壁及一个围绕该底壁的围壁的坩埚设置于一热场内,令该坩埚内的硅料受该热场所加热以熔融成一硅熔汤;(B)于该步骤(A)后,控制该热场由该坩埚的一上方加热,以令接触于该坩埚的底壁处及至少接触邻近该底壁的围壁处的一部分硅熔汤,固化成一个固态硅晶隔离层从而令一剩余硅熔汤的一底部是由该固态硅晶隔离层所包围;及(C)于该步骤(B)后,控制该热场由该坩埚的上方持续加热,且令该坩埚内的剩余硅熔汤由该剩余硅熔汤的底部向上逐渐固化结晶成一个多晶硅锭。因此,在制造多晶硅锭过程中,预先固化形成该固态硅晶隔离层,可以降低最终的多晶硅锭内的氧含量。