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公开(公告)号:CN101807545B
公开(公告)日:2013-04-24
申请号:CN201010130588.4
申请日:2010-03-22
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L21/8222 , H01L21/329 , H01L21/324 , H01L21/82
Abstract: 本发明提供一种二极管及电阻转换存储器的制造方法,其中的单晶硅的制备是通过在特定金属上沉积多晶硅薄膜,采用退火工艺,利用特定金属对多晶硅结晶的诱导作用,在较低温度下使多晶硅薄膜结晶形成单晶硅,随后采用半导体工艺制造二极管阵列及基于该种二极管的电阻转换存储器。本发明的特点在于可在较低的温度下制造二极管,且能在多层堆叠的集成电路中获得应用。
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公开(公告)号:CN102117823B
公开(公告)日:2013-02-13
申请号:CN201010532660.6
申请日:2010-11-04
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
Abstract: 本发明揭示了一种电阻转换存储纳米结构及其自对准制造方法,该纳米结构是柱状的,柱状结构中包含具有开关特性的选通管和电阻转换存储单元,此外还可包含电极。本发明提出的自带选通管的电阻转换存储纳米结构及其制造方法.解决超小尺寸电阻转换纳米线与大尺寸选通管的矛盾,避开低效率、高难度集成问题,实现电阻转换纳米线与选通管的无缝对接,最终通过低成本的方法实现超高密度、高性能的电阻转换存储器阵列的高效制造。
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公开(公告)号:CN101430930B
公开(公告)日:2012-06-27
申请号:CN200810200269.9
申请日:2008-09-23
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种电阻转换存储单元及其方法,其结构包括:阈值电压可调的场效应晶体管及其阈值电压调节电路;以及至少一个与上述每个场效应晶体管对应连接的电阻转换存储单元。在存储器写、擦编程需要大电流时,通过晶体管体端电压的调整将晶体管的阈值电压调低,从而获得较大的输出电流;而在读操作或者存储器待机时,则不调整阈值电压或将晶体管的阈值电压调高,此外待机时还可获得较低的漏电流,提升存储器在待机时的稳定性,避免串扰。通过阈值电压的降低,在RESET和SET编程时调低阈值电压;采用该发明选通相变存储器,可以减小场效应晶体管的长度,即提升了场效应晶体管选通相变存储器芯片的密度。
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公开(公告)号:CN102487119A
公开(公告)日:2012-06-06
申请号:CN201010569991.7
申请日:2010-12-02
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L45/00
Abstract: 本发明公开了一种用于相变存储器的-纳米复合相变材料,该材料由相变材料与复合而成,其化学式为,其中,。本发明通过在相变材料中掺入,使得具有可逆相变能力的相变材料被非晶态隔离成纳米尺度的区域,形成复合结构;提升了相变材料的电阻率和结晶温度,降低了相变材料热导率。相变材料的晶态电阻的增加,可以降低相变存储器件的Reset电流,从而克服了相变材料Reset电流过大的障碍;结晶温度的升高可以提升-相变材料器件的稳定性,熔化温度的下降则有效降低了其功耗;而热导率的降低,则可以提高能量的利用率。
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公开(公告)号:CN102386067A
公开(公告)日:2012-03-21
申请号:CN201010271287.3
申请日:2010-08-31
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L21/20 , H01L21/205
CPC classification number: C30B25/186 , C30B23/025 , C30B25/02 , C30B29/06 , H01L21/02381 , H01L21/02532 , H01L21/02576 , H01L21/0262 , H01L21/02661
Abstract: 本发明涉及了一种有效抑制自掺杂效应的外延生长方法,其首先清除含有重掺杂埋层区域的半导体衬底和待使用的反应腔室内壁的杂质,然后将半导体衬底载入被清洗过的反应腔室,在真空条件下对其进行预烘烤,以去除所述半导体衬底表面的湿气及氧化物,随后抽出半导体衬底表面被解吸附的掺杂原子,接着在高温和低气体流量条件下,在已抽出掺杂原子的所述半导体衬底表面生长第一本征外延层;然后在低温和高气体流量条件下,在已生长有本征外延层的结构表面继续生长所需厚度的第二外延层,最后冷却载出硅片。该方法能够抑制半导体衬底外延生长过程中的自掺杂效应,从而确保周边电路区器件的性能,以增加器件的可靠性。
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公开(公告)号:CN101388401B
公开(公告)日:2012-01-25
申请号:CN200810201901.1
申请日:2008-10-29
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种二极管驱动电阻转换存储器单元及其制造方法,包括基底、设置在基底上的第一导电类型半导体、设置在半导体上的具有电阻转换能力的存储单元以及设置在电阻转换存储单元上的电极;所述第一导电类型半导体与存储单元相邻的表面具有第二导电类型掺杂,所述第二导电类型掺杂与未被掺杂的第一导电类型半导体构成驱动二极管结构,进而对上方的存储单元进行选通和驱动。本发明通过扩散工艺使存储器材料扩散到半导体中形成二极管结构,从而大幅度提高存储器的存储密度,而且本发明的工艺简便,成本低,能够增强二极管驱动电阻转换存储器单元的市场竞争能力。
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公开(公告)号:CN101882617B
公开(公告)日:2011-11-30
申请号:CN201010199669.X
申请日:2010-06-12
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L27/08 , H01L27/24 , H01L21/82 , H01L21/762
Abstract: 本发明揭示了一种肖特基二极管、半导体存储器及其制造工艺,所述存储器包含字/位线、半导体层、第一金属层、第二金属层、绝缘材料、电阻转换存储单元;字/位线之间的隔离依靠第一浅沟槽实现,而同一字/位线上方的肖特基二极管单元的隔离依靠第二浅沟槽实现;所述第一浅沟槽深于第二浅沟槽。本发明采用新型结构的肖特基二极管,可通过简单的工艺制造出存储器装置,实现存储器器件成本的大幅降低。
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公开(公告)号:CN101315811B
公开(公告)日:2011-06-01
申请号:CN200810040851.3
申请日:2008-07-22
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
Abstract: 本发明揭示了一种动态相变存储器,所述存储器的存储介质采用具有较低熔点和较低结晶温度的相变材料;所述相变材料的熔点在200℃到640℃之间,且其结晶温度在40℃到120℃之间。所述存储器还包括定期刷新模块,用以定期地对存储有高电阻态的存储单元进行数据刷新,将电阻下降的存储单元重新设定到高电阻态。所述存储器用较低的功耗对器件进行编程。本发明提出的动态相变存储器使动态随机存储器件大大降低了所需要刷新的次数,并且与传统的PCRAM相比具有更低的功耗;同时由于采用小信号进行编程,所以动态相变存储器的疲劳特性大为改善。
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公开(公告)号:CN101262004B
公开(公告)日:2011-04-20
申请号:CN200810035939.6
申请日:2008-04-11
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L27/24 , H01L23/522 , H01L21/822 , H01L21/762 , H01L21/768 , G11C11/56 , G11C16/02
Abstract: 本发明提供了一种双浅沟道隔离的双极型晶体管选通的相变存储单元结构及其制造方法。在p型或n型导电的第一导电类型的基底上,利用低电阻的第二导电类型位线作为双极型晶体管的集电极,位线相互之间用较深的浅沟道隔离(STI)隔开;在位线上方制备基极和第一导电类型的发射极,在同一位线上形成的双极型晶体管之间用较浅的STI隔开;最后在双极型晶体管上制备相变存储单元。主要通过离子注入和常规半导体工艺制造出上述双极型晶体管,并在双极型晶体管上制备存储单元,通过双极型晶体管对存储单元进行选通和操作。跟以往结构的相变存储单元相比,本发明提供的结构密度高,制造成本低廉,且一个双极型晶体管还可以对应着多个相变存储单元。
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公开(公告)号:CN101984512A
公开(公告)日:2011-03-09
申请号:CN201010275460.7
申请日:2010-09-07
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: H01L45/00
Abstract: 本发明揭示了一种复合相变存储材料及其制备方法,所述复合相变存储材料由氮化物和相变材料复合而成,该复合相变存储材料能够在外部的能量作用下实现可逆的相变和可逆的电阻值转换;在所述复合相变存储材料内,氮化物和相变材料互相分散,使材料内存在两个以上的相。本发明提出的氮化物复合相变存储材料是由氮化物与相变材料复合而成,通过互不相溶的分散作用,氮化物的引入能够限制相变材料晶粒的生长,提高了材料的结晶温度,提升了数据保持能力。由于氮化物较高的电阻率和较好的绝热性,材料的加热效率显著提升,而热扩散比例显著减少,提高了器件工作的效率,从而降低了功耗。
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