公开(公告)号：CN1353140A

公开(公告)日：2002-06-12

申请号：CN01137879.4

申请日：2001-11-07

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 熊泽明 ,  水泽竜马 ,  中里俊二 ,  带谷洋之

IPC: C08L75/14 ,  C08J5/14

CPC classification number: G03F7/027 ,  G03F7/033

Abstract: 一种砂磨用光敏组合物,它含有下列组分:(A)可光致聚合的具有(甲基)丙烯酰基团的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物;(B)一种丙烯酸类共聚物;和(C)光致聚合引发剂;其中组分(B)包括含有苯环和环己基基团中的一种的可共聚单体作为单体单元。

公开(公告)号：CN1245300A

公开(公告)日：2000-02-23

申请号：CN99118105.0

申请日：1999-08-17

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 水泽龙马 ,  朝日伸吉 ,  中里俊二 ,  带谷洋之

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/09

CPC classification number: C08G18/3206 ,  B24C1/04 ,  C08G18/6492 ,  C08G18/672 ,  G03F7/027 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/112 ,  Y10S430/114

Abstract: 公开了一种砂磨用光敏组合物和具有包括该光敏组合物的光敏层的光敏膜层压物。所述光敏组合物包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团并具有如右结构单元的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物,(B)碱溶性化合物,和(C)光致聚合引发剂。