公开(公告)号：CN1183422C

公开(公告)日：2005-01-05

申请号：CN01137879.4

申请日：2001-11-07

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 熊泽明 ,  水泽竜马 ,  中里俊二 ,  带谷洋之

IPC: G03F7/027 ,  C08L75/14 ,  C08L33/00

CPC classification number: G03F7/027 ,  G03F7/033

Abstract: 一种砂磨用光敏组合物，它含有下列组分：(A)可光致聚合的具有(甲基)丙烯酰基团的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物；(B)一种丙烯酸类共聚物；和(C)光致聚合引发剂；其中组分(B)包括含有苯环和环己基基团中的一种的可共聚单体作为单体单元。

公开(公告)号：CN1353140A

公开(公告)日：2002-06-12

申请号：CN01137879.4

申请日：2001-11-07

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 熊泽明 ,  水泽竜马 ,  中里俊二 ,  带谷洋之

IPC: C08L75/14 ,  C08J5/14

CPC classification number: G03F7/027 ,  G03F7/033

Abstract: 一种砂磨用光敏组合物,它含有下列组分:(A)可光致聚合的具有(甲基)丙烯酰基团的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物;(B)一种丙烯酸类共聚物;和(C)光致聚合引发剂;其中组分(B)包括含有苯环和环己基基团中的一种的可共聚单体作为单体单元。