涂布装置及涂布方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117244753A

    公开(公告)日:2023-12-19

    申请号:CN202310699827.5

    申请日:2023-06-13

    Abstract: 本发明的涂布装置(1000)具备在一个画面中拍摄多个照射点的摄像头(7)和控制用计算机(10)。控制用计算机(10)根据从多个照射点各自的对焦位置和XY坐标得到的平面的方程式,计算基板(100)的表面的多个涂布点(103)的空间坐标。控制用计算机(10)基于对应的空间坐标,由定位机构(11)定位涂布针(24)前端的位置的XY坐标,并且由定位机构(11)及涂布机构(4)定位涂布针(24)前端的位置的Z坐标,以使液体材料附着在基板(100)的表面。由此,能够提供即使在基板的表面倾斜的情况下也能够稳定且高速地将涂布材料涂布在基板表面的涂布装置。

    形状测定装置及搭载有形状测定装置的涂布装置

    公开(公告)号:CN107709923B

    公开(公告)日:2020-11-03

    申请号:CN201680035681.2

    申请日:2016-06-09

    Inventor: 大庭博明

    Abstract: 形状测定装置的控制装置(6)对压电平台(5)和拍摄装置(4)进行控制,一边使干涉仪(3)沿光轴方向进行移动,一边在多个位置(h)对各个图像进行拍摄,关于各图像的像素的亮度直方图利用判别分析法求出分离度(R),将压电平台(5)配置于与多个图像中的分离度(R)成为最大值(Rmax)的图像相对应的位置(hf),从而将干涉仪(3)的焦点(P1)配置于对象物(7)的表面。因此,能容易地使干涉仪(3)的焦点(P1)对准对象物(7)的表面。

    涂布装置以及高度检测方法

    公开(公告)号:CN105247318B

    公开(公告)日:2018-10-12

    申请号:CN201480030007.6

    申请日:2014-06-13

    Inventor: 大庭博明

    Abstract: 本缺陷修正装置(1)(涂布装置)的控制用计算机(11)是在将物镜(16)定位于由涂布在基板(7)表面上的墨水形成的墨水涂布部的上方之后,一边移动Z平台(8)一边拍摄图像,针对构成所拍摄图像的多个像素分别求出对比度C达到峰值的Z平台位置(该像素的焦点位置),根据求出的Z平台位置求出墨水涂布部的高度。因此,能够定量地检测出墨水涂布部的高度。

    涂布方法及涂布装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107073513B

    公开(公告)日:2021-06-22

    申请号:CN201580050407.8

    申请日:2015-09-07

    Inventor: 大庭博明

    Abstract: 在该墨水涂布方法中,使墨水(22)附着于涂布针(24)的前端部(24a),将涂布针(24)配置在MEMS(40)的机构部(40a)的上方,使涂布针(24)下降而使前端部(24a)与机构部(40a)的表面接触并待机一定时间。接下来,一边使涂布针(24)与MEMS(40)沿水平方向相对移动,一边使涂布针(24)上升而使涂布针(24)的前端部(24a)从机构部(40a)的表面脱离,在机构部(40a)的表面形成墨水层(22a)。与仅使涂布针(24)沿垂直方向上升的情况相比,能减轻机构部(40a)被墨水(22)的粘着力拉伸的力。

    高度检测装置及搭载该高度检测装置的涂敷装置

    公开(公告)号:CN108291802A

    公开(公告)日:2018-07-17

    申请号:CN201680066070.4

    申请日:2016-11-08

    Inventor: 大庭博明

    Abstract: 高度检测装置(1)一边相对于膏膜(53)在光轴方向上移动双光束干涉物镜(4)一边根据Z载台(7)的位置依次将白光的亮度从第一等级变化为第二等级,并拍摄干涉光的图像,针对拍摄到的图像的每个像素,检测在白光的亮度被设定为第一等级或第二等级的期间中干涉光的强度成为最大的Z载台(7)的位置,以作为焦点位置,并基于检测结果来获得膏膜(53)的高度。

    形状测定装置及搭载有形状测定装置的涂布装置

    公开(公告)号:CN107709923A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201680035681.2

    申请日:2016-06-09

    Inventor: 大庭博明

    Abstract: 形状测定装置的控制装置(6)对压电平台(5)和拍摄装置(4)进行控制,一边使干涉仪(3)沿光轴方向进行移动,一边在多个位置(h)对各个图像进行拍摄,关于各图像的像素的亮度直方图利用判别分析法求出分离度(R),将压电平台(5)配置于与多个图像中的分离度(R)成为最大值(Rmax)的图像相对应的位置(hf),从而将干涉仪(3)的焦点(P1)配置于对象物(7)的表面。因此,能容易地使干涉仪(3)的焦点(P1)对准对象物(7)的表面。

    图案修改装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101178538A

    公开(公告)日:2008-05-14

    申请号:CN200710166982.1

    申请日:2007-11-07

    Inventor: 大庭博明

    CPC classification number: Y02W30/828

    Abstract: 提供能方便地校正目标位置与涂敷位置的位置偏移的图案修改装置。此图案修改装置(1)在进行更新校正值的校正模式时,对镜(51)的测试区(51a)的目标位置(P1)涂敷修改墨(49),根据涂墨前后的测试区(51a)的图像,检测出实际涂敷修改墨(49)的涂敷位置(P2),从而检测出目标位置(P1)与涂敷位置(P2)的位置偏移量,并根据其检测结果,更新校正值。因而,图案修改装置(1)本身更新校正值,因此操作者不必进行校正作业。

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