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公开(公告)号：CN103439861A
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN201310280934.0
申请日：2010-07-13
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C07D211/44 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于提供满足曝光宽容度和MEEF性能的放射线敏感性树脂组合物及适合用于该放射线敏感性树脂组合物的化合物，该放射线敏感性树脂组合物含有(A)具有下式(1)表示的基团与氮原子结合的结构的化合物、(B)具有酸解离性溶解抑制基团且通过酸的作用碱可溶性增大的树脂和(C)放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN103472674B
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201310320010.9
申请日：2010-09-17
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、‑CO‑O‑*或者‑SO2‑O‑*(“*”表示与R1结合的结合位点)]。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102498439A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201080041184.6
申请日：2010-09-17
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F20/26 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]——A——R1(x)。
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公开(公告)号：CN102483574A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080040708.X
申请日：2010-07-13
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C07D211/44 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: C07D211/44 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于提供满足曝光宽容度和MEEF性能的放射线敏感性树脂组合物及适合用于该放射线敏感性树脂组合物的化合物，该放射线敏感性树脂组合物含有(A)具有下式(1)表示的基团与氮原子结合的结构的化合物、(B)具有酸解离性溶解抑制基团且通过酸的作用碱可溶性增大的树脂和(C)放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN102498439B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201080041184.6
申请日：2010-09-17
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F20/26 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]。——A——R1(x)。
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公开(公告)号：CN102483574B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201080040708.X
申请日：2010-07-13
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C07D211/44 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: C07D211/44 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于提供满足曝光宽容度和MEEF性能的放射线敏感性树脂组合物及适合用于该放射线敏感性树脂组合物的化合物，该放射线敏感性树脂组合物含有(A)具有下式(1)表示的基团与氮原子结合的结构的化合物、(B)具有酸解离性溶解抑制基团且通过酸的作用碱可溶性增大的树脂和(C)放射线敏感性酸产生剂。
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公开(公告)号：CN103472674A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201310320010.9
申请日：2010-09-17
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、-CO-O-*或者-SO2-O-*(“*”表示与R1结合的结合位点)。]
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