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公开(公告)号：CN105312189B
公开(公告)日：2017-12-26
申请号：CN201410441705.7
申请日：2014-09-01
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
CPC classification number: B05B15/002 , B01F5/106 , B01F15/00155 , B01F15/0462 , B01F15/0475 , B05B15/20
Abstract: 本发明提供一种吐出装置及涂布系统。其中，吐出装置包括一容器、一泵、多条管路以及一调整装置。容器具有一腔室以及连接腔室的一第一出入口与一第二出入口，并且腔室适于盛装一流体。多条管路连接于泵以及容器的第一出入口与第二出入口之间，以形成一流体回路。泵适于驱动流体于流体回路内流动。调整装置耦接于容器，用以调整腔室的容积。此外，一种涂布系统也被提及。
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公开(公告)号：CN111822162A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN202010175012.3
申请日：2020-03-13
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
Abstract: 一种电浆装置。此电浆装置包含外壳、内电极、旋转构件、延伸管座、喷嘴、以及磁浮马达。外壳具有容置空间，其中容置空间具有彼此相对的第一开口与第二开口。内电极设于外壳的容置空间中且邻近于第一开口。旋转构件可旋转地设于外壳的外侧面外，其中旋转构件具有至少一沟槽沿着外壳的外侧面延伸，且旋转构件包含数个磁性元件。延伸管座与旋转构件接合且邻近第二开口。喷嘴设于延伸管座上且与外壳的第二开口相对。磁浮马达设于外壳上且位于旋转构件的沟槽中，其中此磁浮马达邻近磁性元件。此电浆装置利用磁浮马达与旋转构件之间的磁斥力来带动旋转构件与喷嘴旋转，借此可达到大面积的电浆处理效果。
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公开(公告)号：CN105198229A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201410381339.0
申请日：2014-08-05
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司 , 关键应用科技股份有限公司
IPC: C03C17/22
CPC classification number: C03C17/22 , C03C17/002 , C03C17/25 , C03C23/006 , C03C2218/32
Abstract: 本发明揭露一种玻璃结构的制造方法与设备。玻璃结构的制造方法包含下列步骤。提供玻璃基材。形成陶瓷前驱物层覆盖在玻璃基材的表面上。对陶瓷前驱物层进行激光回火处理，以将陶瓷前驱物层结晶化成陶瓷膜。
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公开(公告)号：CN101163370A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200610149604.8
申请日：2006-10-10
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
IPC: H05H1/34
Abstract: 本发明公开了一种等离子导引机构及应用该导引机构的等离子放电装置，该等离子导引机构包括：套接于等离子放电装置上的壳体，借以与等离子放电装置定义出第一腔室第二腔室，其中等离子放电装置通过电弧放电在第一腔室内生等离子，第一腔室与第二腔室联通，且第二腔室的侧壁具有长形窄孔，用来导引等离子由长形窄孔喷出该壳体外部。因此，本发明所提供的等离子导引机构确实具有提高等离子放电装置的等离子喷射面积、延长使用寿命以及提供多样等离子喷射角度的优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117583216A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202310543094.6
申请日：2023-05-15
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
IPC: B05D3/14
Abstract: 一种电浆辅助缩合装置及电浆辅助缩合方法。电浆辅助缩合装置包含反应室以及常压电浆装置。反应室配置以供待处理的至少一物体在反应室中反应。物体的表面包含数个活性官能基。物体的表面上涂布有薄膜材料层，薄膜材料层包含数个官能基。常压电浆装置配置以在反应室中产生电浆来进行常压电浆处理，借以将电浆的能量传递给薄膜材料层与物体的表面，促进薄膜材料层的官能基与物体的表面上的活性官能基的缩合反应的进行。因此，可大幅缩减薄膜材料层的官能基与物体的表面上的缩合反应时间，进而可提高镀膜效能。
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公开(公告)号：CN108342713A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201710161397.6
申请日：2017-03-17
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/54 , C23C16/50 , H05H1/34
Abstract: 一种常压等离子镀膜装置。此常压等离子镀膜装置包含常压等离子产生器以及至少一前驱物进料治具。常压等离子产生器包含管状电极以及喷嘴。喷嘴设于管状电极下，且配置以喷射等离子。喷嘴具有喷口以及平滑轮廓，且此平滑轮廓的外径由管状电极往喷口渐缩。至少一前驱物进料治具邻设于管状电极与喷嘴，且配置以朝喷嘴的平滑轮廓喷射镀膜前驱物，以使镀膜前驱物沿着平滑轮廓流至喷口前与常压等离子混合喷涂成膜。利用喷嘴的平滑轮廓设计，搭配等离子气流在喷口附近所产生的吸力，可有效提升镀膜前驱物与等离子的混合均匀度，提升镀膜品质，更可改善镀膜前驱物散逸于大气而造成浪费的问题。
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公开(公告)号：CN106486334A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201610008178.X
申请日：2016-01-06
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H05H1/36 , H05H1/24 , H05H1/32 , H05H1/34 , H05H1/48 , H05H2001/3463 , H01J37/3244 , H01J37/32532
Abstract: 一种电弧式大气电浆装置。此电弧式大气电浆装置包含第一电极、第二电极以及喷嘴。第一电极配置以连接电源供应器。第二电极具有腔室且接地，其中第一电极位于腔室中。喷嘴接合于该第二电极的底部，且具有至少二喷嘴通道。这些喷嘴通道与腔室连通。由于电浆喷嘴包含多个喷嘴通道，因此可增加电浆喷出量，并可使得电浆处理路径更为致密，而可增加电浆扫描时的处理面积。
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公开(公告)号：CN108342713B
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN201710161397.6
申请日：2017-03-17
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/54 , C23C16/50 , H05H1/34
Abstract: 一种常压等离子镀膜装置。此常压等离子镀膜装置包含常压等离子产生器以及至少一前驱物进料治具。常压等离子产生器包含管状电极以及喷嘴。喷嘴设于管状电极下，且配置以喷射等离子。喷嘴具有喷口以及平滑轮廓，且此平滑轮廓的外径由管状电极往喷口渐缩。至少一前驱物进料治具邻设于管状电极与喷嘴，且配置以朝喷嘴的平滑轮廓喷射镀膜前驱物，以使镀膜前驱物沿着平滑轮廓流至喷口前与常压等离子混合喷涂成膜。利用喷嘴的平滑轮廓设计，搭配等离子气流在喷口附近所产生的吸力，可有效提升镀膜前驱物与等离子的混合均匀度，提升镀膜品质，更可改善镀膜前驱物散逸于大气而造成浪费的问题。
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公开(公告)号：CN105938103A
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201510915185.3
申请日：2015-12-10
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
CPC classification number: G01J3/443 , G01J3/28 , G01J3/2803 , G01N21/84 , G01N27/62
Abstract: 一种等离子放电辉光的光学监控方法，其包含下列步骤。利用侦测器侦测等离子放电辉光，以取得数个光信号。利用感测电路撷取这些光信号，并将这些光信号转换成数个电信号。利用运算单元根据这些电信号来进行计算步骤，以获得对应等离子放电辉光的数个位置的数个光强度。利用影像重建单元根据等离子放电辉光的这些位置与对应的光强度重建等离子放电辉光的影像。运用此方法，可以非接触的方式，有效侦测出等离子放电辉光的形状、大小、温度分布、颜色分布与闪烁行为，以及相对强度、绝对强度与强度分布，因此可达到即时监控等离子处理的区域的效果。
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