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公开(公告)号:CN108342713B
公开(公告)日:2020-06-26
申请号:CN201710161397.6
申请日:2017-03-17
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/54 , C23C16/50 , H05H1/34
Abstract: 一种常压等离子镀膜装置。此常压等离子镀膜装置包含常压等离子产生器以及至少一前驱物进料治具。常压等离子产生器包含管状电极以及喷嘴。喷嘴设于管状电极下,且配置以喷射等离子。喷嘴具有喷口以及平滑轮廓,且此平滑轮廓的外径由管状电极往喷口渐缩。至少一前驱物进料治具邻设于管状电极与喷嘴,且配置以朝喷嘴的平滑轮廓喷射镀膜前驱物,以使镀膜前驱物沿着平滑轮廓流至喷口前与常压等离子混合喷涂成膜。利用喷嘴的平滑轮廓设计,搭配等离子气流在喷口附近所产生的吸力,可有效提升镀膜前驱物与等离子的混合均匀度,提升镀膜品质,更可改善镀膜前驱物散逸于大气而造成浪费的问题。
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公开(公告)号:CN108342713A
公开(公告)日:2018-07-31
申请号:CN201710161397.6
申请日:2017-03-17
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/54 , C23C16/50 , H05H1/34
Abstract: 一种常压等离子镀膜装置。此常压等离子镀膜装置包含常压等离子产生器以及至少一前驱物进料治具。常压等离子产生器包含管状电极以及喷嘴。喷嘴设于管状电极下,且配置以喷射等离子。喷嘴具有喷口以及平滑轮廓,且此平滑轮廓的外径由管状电极往喷口渐缩。至少一前驱物进料治具邻设于管状电极与喷嘴,且配置以朝喷嘴的平滑轮廓喷射镀膜前驱物,以使镀膜前驱物沿着平滑轮廓流至喷口前与常压等离子混合喷涂成膜。利用喷嘴的平滑轮廓设计,搭配等离子气流在喷口附近所产生的吸力,可有效提升镀膜前驱物与等离子的混合均匀度,提升镀膜品质,更可改善镀膜前驱物散逸于大气而造成浪费的问题。
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公开(公告)号:CN208353689U
公开(公告)日:2019-01-08
申请号:CN201820649918.2
申请日:2018-05-03
Applicant: 馗鼎奈米科技股份有限公司
IPC: H05H1/34
Abstract: 一种电浆火炬。此电浆火炬包含外电极、内电极、以及喷嘴。外电极具有腔室,腔室的末端具有开口。内电极设于外电极内的腔室中,并相对于腔室的开口。喷嘴接合于外电极的开口,其中喷嘴具有主要开孔以及数个凹槽,这些凹槽设于主要开孔的外缘且与主要开孔连通。主要开孔中的大气流有分流会旋入凹槽中而破坏大气流,可破坏因大气流所造成的电浆被局限在中心区域的机制,因此可放大电浆火炬的电浆区域,使得电浆火炬可进行大面积的电浆处理。
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