公开(公告)号：CN1243070C

公开(公告)日：2006-02-22

申请号：CN01104631.7

申请日：2001-01-23

Applicant: 昭和电工株式会社 ,  昭和铝株式会社

Inventor： 宫田宪彦 ,  多田清志 ,  冨田贤二

IPC: C09K3/14 ,  G11B5/84

Abstract: 本发明提供一种用于抛光磁记录盘基体、使该磁记录盘表面粗糙度降低的磨料组合物。可获得高密度记录而不发生突起或抛光划痕，能使抛光以经济的速度进行。本发明公开的用于抛光磁记录盘基体的磨料组合物，包含水、二氧化硅、防胶凝剂、硝酸铝和过氧化氢。

公开(公告)号：CN1309160A

公开(公告)日：2001-08-22

申请号：CN01104631.7

申请日：2001-01-23

Applicant: 昭和电工株式会社 ,  昭和铝株式会社

Inventor： 宫田宪彦 ,  多田清志 ,  冨田贤二

IPC: C09K3/14 ,  G11B5/84

Abstract: 本发明提供一种用于抛光磁记录盘基体、使该磁记录盘表面粗糙度降低的磨料组合物。可获得高密度记录而不发生突起或抛光划痕,能使抛光以经济的速度进行。本发明公开的用于抛光磁记录盘基体的磨料组合物,包含水、二氧化硅、防胶凝剂、硝酸铝和过氧化氢。

公开(公告)号：CN1561376A

公开(公告)日：2005-01-05

申请号：CN02819416.0

申请日：2002-09-03

Applicant: 昭和电工株式会社 ,  山口精研工业株式会社

Inventor： 宫田宪彦 ,  洪公弘 ,  安藤顺一郎

IPC: C09G1/02

Abstract: 包含含在含水介质中的磨料粒、含磷无机酸或其盐和另一种无机酸或其盐的抛光组合物用于抛光磁盘基片等。

公开(公告)号：CN1315991A

公开(公告)日：2001-10-03

申请号：CN00801202.4

申请日：2000-06-28

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 宫田宪彦

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  G11B5/84

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02

Abstract: 用于磁盘基材抛光的组合物,其中包含水、精细二氧化钛颗粒和抛光促进剂,其特征在于90－100%的构成所述颗粒的二氧化钛具有相同的晶体结构;以及用所述的组合物制备磁盘基材的方法。该组合物可以以经济的抛光速度用于磁盘基材的抛光,以便降低表面的粗糙度,并且不出现突起、研磨伤和小凹陷等细微缺陷。

公开(公告)号：CN1152104C

公开(公告)日：2004-06-02

申请号：CN00801202.4

申请日：2000-06-28

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 宫田宪彦

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  G11B5/84

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02

Abstract: 用于磁盘基材抛光的组合物，其中包含水、精细二氧化钛颗粒和抛光促进剂，其特征在于90-100%的构成所述颗粒的二氧化钛具有相同的晶体结构；以及用所述的组合物制备磁盘基材的方法。该组合物可以以经济的抛光速度用于磁盘基材的抛光，以便降低表面的粗糙度，并且不出现突起、研磨伤和小凹陷等细微缺陷。

公开(公告)号：CN1366548A

公开(公告)日：2002-08-28

申请号：CN01800964.6

申请日：2001-04-16

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 宫田宪彦

IPC: C09K3/14 ,  B24B21/00 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/8404 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02

Abstract: 由含碱金属离子、磨粒、羧酸、氧化剂、凝胶化防止剂的水性介质组成的磁盘基板抛光用组合物。用该抛光用组合物抛光磁盘的基板时,表面的粗糙度非常小,用所抛光的盘制作的磁盘作为低浮上型硬盘,可高密度记录。

公开(公告)号：CN1788061A

公开(公告)日：2006-06-14

申请号：CN200480013195.8

申请日：2004-05-13

Applicant: 昭和电工株式会社 ,  出口精研工业株式会社

Inventor： 宫田宪彦 ,  安藤顺一郎 ,  汲田哲朗 ,  林良树

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 一种抛光组合物，其包含水、磨料粒、具有抛光促进剂的细碎晶体粉末、为羧基数(n)为20－300的聚羧酸盐或其衍生物的表面活性剂、和其他任选的初级晶体大小在0.005μm－0.07μm范围和表面改性剂。获得了高抛光速率和没有形成表面缺陷的高质量镜面精加工抛光表面。

公开(公告)号：CN1249193C

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN01800964.6

申请日：2001-04-16

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 宫田宪彦

IPC: C09K3/14 ,  B24B21/00 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/8404 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02

Abstract: 由含碱金属离子、磨粒、羧酸、氧化剂、凝胶化防止剂的水性介质组成的磁盘基板抛光用组合物。用该抛光用组合物抛光磁盘的基板时，表面的粗糙度非常小，用所抛光的盘制作的磁盘作为低浮上型硬盘，可高密度记录。