公开(公告)号：CN1788061A

公开(公告)日：2006-06-14

申请号：CN200480013195.8

申请日：2004-05-13

Applicant: 昭和电工株式会社 ,  出口精研工业株式会社

Inventor： 宫田宪彦 ,  安藤顺一郎 ,  汲田哲朗 ,  林良树

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 一种抛光组合物，其包含水、磨料粒、具有抛光促进剂的细碎晶体粉末、为羧基数(n)为20－300的聚羧酸盐或其衍生物的表面活性剂、和其他任选的初级晶体大小在0.005μm－0.07μm范围和表面改性剂。获得了高抛光速率和没有形成表面缺陷的高质量镜面精加工抛光表面。

公开(公告)号：CN1985306A

公开(公告)日：2007-06-20

申请号：CN200580023525.6

申请日：2005-07-12

Applicant: 昭和电工株式会社 ,  山口精研工业株式会社

Inventor： 山田二郎 ,  神田惠 ,  林良树

IPC: G11B5/84 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: G11B5/8404

Abstract: 本发明提供一种高加工速度的组合物，所述组合物能够在减小铝制磁盘的基底层、玻璃制磁盘表面的纹理加工后的平均表面粗糙度(Ra)，并且形成微细的纹理条痕的同时，除去存在于基底层、表面上的起因于基片研磨工序的“研磨痕”或“研磨刮痕”。本发明的组合物是用于对铝制磁盘的基底层或玻璃制磁盘的表面进行纹理加工的、纹理加工用组合物，含有(A)比表面积为150m2/g以上的纳米金刚石粒子、(B)碳数为10－22的脂肪酸或脂肪酸金属盐、(C)有机胺化合物。