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公开(公告)号：CN1788061A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200480013195.8
申请日：2004-05-13
Applicant: 昭和电工株式会社 , 出口精研工业株式会社
Abstract: 一种抛光组合物，其包含水、磨料粒、具有抛光促进剂的细碎晶体粉末、为羧基数(n)为20－300的聚羧酸盐或其衍生物的表面活性剂、和其他任选的初级晶体大小在0.005μm－0.07μm范围和表面改性剂。获得了高抛光速率和没有形成表面缺陷的高质量镜面精加工抛光表面。
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公开(公告)号：CN1209436C
公开(公告)日：2005-07-06
申请号：CN01800919.0
申请日：2001-07-04
Applicant: 昭和电工株式会社 , 山口精研工业株式会社
Abstract: 一种抛光组合物，其至少包含水、氧化铝及衍生于铝盐的溶胶产物。用该抛光组合物抛光后的磁记录盘基片抑制了其外周边部分形成的转出量，其具有几乎无凹点、结节及刮痕的高质量镜面抛光的表面，并能使它与磁头间的距离小，而由此能达到记录密度。
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公开(公告)号：CN1366547A
公开(公告)日：2002-08-28
申请号：CN01800919.0
申请日：2001-07-04
Applicant: 昭和电工株式会社 , 山口精研工业株式会社
Abstract: 一种抛光组合物,其至少包含水、氧化铝及衍生于铝盐的溶胶产物。用该抛光组合物抛光后的磁记录盘基片抑制了其外周边部分形成的转出量,其具有几乎无凹点、结节及刮痕的高质量镜面抛光的表面,并能使它与磁头间的距离小,而由此能达到记录密度。
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