公开(公告)号：CN1561376A

公开(公告)日：2005-01-05

申请号：CN02819416.0

申请日：2002-09-03

Applicant: 昭和电工株式会社 ,  山口精研工业株式会社

Inventor： 宫田宪彦 ,  洪公弘 ,  安藤顺一郎

IPC: C09G1/02

Abstract: 包含含在含水介质中的磨料粒、含磷无机酸或其盐和另一种无机酸或其盐的抛光组合物用于抛光磁盘基片等。

公开(公告)号：CN1366547A

公开(公告)日：2002-08-28

申请号：CN01800919.0

申请日：2001-07-04

Applicant: 昭和电工株式会社 ,  山口精研工业株式会社

Inventor： 石飞健 ,  汲田哲朗 ,  洪公弘 ,  铃木义典

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  B24B57/02 ,  G11B5/84 ,  C01F7/00

Abstract: 一种抛光组合物,其至少包含水、氧化铝及衍生于铝盐的溶胶产物。用该抛光组合物抛光后的磁记录盘基片抑制了其外周边部分形成的转出量,其具有几乎无凹点、结节及刮痕的高质量镜面抛光的表面,并能使它与磁头间的距离小,而由此能达到记录密度。

公开(公告)号：CN1209436C

公开(公告)日：2005-07-06

申请号：CN01800919.0

申请日：2001-07-04

Applicant: 昭和电工株式会社 ,  山口精研工业株式会社

Inventor： 石飞健 ,  汲田哲朗 ,  洪公弘 ,  铃木义典

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  B24B57/02 ,  G11B5/84 ,  C01F7/00

Abstract: 一种抛光组合物，其至少包含水、氧化铝及衍生于铝盐的溶胶产物。用该抛光组合物抛光后的磁记录盘基片抑制了其外周边部分形成的转出量，其具有几乎无凹点、结节及刮痕的高质量镜面抛光的表面，并能使它与磁头间的距离小，而由此能达到记录密度。