公开(公告)号：CN1243070C

公开(公告)日：2006-02-22

申请号：CN01104631.7

申请日：2001-01-23

Applicant: 昭和电工株式会社 ,  昭和铝株式会社

Inventor： 宫田宪彦 ,  多田清志 ,  冨田贤二

IPC: C09K3/14 ,  G11B5/84

Abstract: 本发明提供一种用于抛光磁记录盘基体、使该磁记录盘表面粗糙度降低的磨料组合物。可获得高密度记录而不发生突起或抛光划痕，能使抛光以经济的速度进行。本发明公开的用于抛光磁记录盘基体的磨料组合物，包含水、二氧化硅、防胶凝剂、硝酸铝和过氧化氢。

公开(公告)号：CN1309160A

公开(公告)日：2001-08-22

申请号：CN01104631.7

申请日：2001-01-23

Applicant: 昭和电工株式会社 ,  昭和铝株式会社

Inventor： 宫田宪彦 ,  多田清志 ,  冨田贤二

IPC: C09K3/14 ,  G11B5/84

Abstract: 本发明提供一种用于抛光磁记录盘基体、使该磁记录盘表面粗糙度降低的磨料组合物。可获得高密度记录而不发生突起或抛光划痕,能使抛光以经济的速度进行。本发明公开的用于抛光磁记录盘基体的磨料组合物,包含水、二氧化硅、防胶凝剂、硝酸铝和过氧化氢。