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公开(公告)号：CN102474929A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080025667.7
申请日：2010-05-26
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: H01L51/0096 , H01L51/52 , H01L51/5209 , H01L51/5275 , H05B33/10 , Y02E10/549 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供在透明基板11上散布发光部17的发光元件，通过特征在于具有基板11的发光部17侧的基板面在发光部17下凹陷而成的凹穿孔部16b的场致发光元件10，可以提供具有高发光效率、可以控制出射光的方向，从而显示所需配光特性的发光元件等。
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公开(公告)号：CN101512641B
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：CN200780032274.7
申请日：2007-08-22
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/855
Abstract: 一种制造磁记录介质的方法包括以下步骤：在非磁性基底的至少一个表面上沉积磁性层；以及在所述磁性层中部分地注入原子，从而使已经接受注入的原子的部分去磁或者使其非晶化，以形成磁性分离的磁记录图形。所述注入的步骤包括以下步骤：在所述沉积步骤之后对所述至少一个表面施加抗蚀剂，部分地减小所述抗蚀剂的厚度，并且用原子辐照所述抗蚀剂的表面，从而通过所述抗蚀剂的厚度减小的部分使得所述原子部分注入到所述磁性层。
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公开(公告)号：CN101606101B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200880004392.1
申请日：2008-02-07
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G11B5/855
Abstract: 本发明提供一种可以通过纳米压印有利地形成精细图案的转印材料。该纳米压印转印材料是一种精细图案树脂组合物，其包括有机硅化合物和周期表3-14族金属的金属化合物。
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公开(公告)号：CN101606101A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200880004392.1
申请日：2008-02-07
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G11B5/855
Abstract: [目的]提供一种可以通过纳米压印有利地形成精细图案的转印材料。[解决方法]该纳米压印转印材料是一种精细图案树脂组合物，其包括有机硅化合物和周期表3－14族金属的金属化合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103493121A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201280019653.3
申请日：2012-02-15
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: H01L51/5275 , H01L27/3281 , H01L51/50 , H01L51/5203 , H01L51/5209 , H01L51/56 , H01L2251/5361
Abstract: 本发明通过含有在基板11上形成的阳极层12、在阳极层12上形成的电介质层13、至少贯穿电介质层13而形成的多个第1凹部16和在电介质层13的上表面上没贯穿电介质层13而形成的多个第2凹部17、至少覆盖电介质层13的上表面、第1凹部16的内表面和第2凹部17的内表面而形成的含有发光层的有机化合物层14、以及在有机化合物层14上形成的阴极层15的有机发光元件10，提供光取出效率高、发光效率高的有机发光元件。
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公开(公告)号：CN103535115A
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：CN201280023172.X
申请日：2012-02-15
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: H01L51/5209 , H01L27/3281 , H01L51/52 , H01L51/5225 , H01L51/5275
Abstract: 本发明通过有机发光元件10，能够提供光取出效率高、发光效率高的有机发光元件，所述有机发光元件10含有在基板11上形成的透明的阳极层12、贯穿阳极层12而形成的第1贯穿部16、覆盖阳极层12的上表面和第1贯穿部16的内表面而形成的电介质层13、贯穿阳极层12和电介质层13而形成的第2贯穿部17、至少覆盖第2贯穿部17的内表面而形成的含发光层的有机化合物层14、和在有机化合物层14上形成的阴极层15，并且电介质层13的折射率比阳极层12的折射率小。
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公开(公告)号：CN103081150A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201080068883.X
申请日：2010-09-02
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: H01L51/5206 , H01L27/3281 , H01L51/5016 , H01L2251/5361 , H01L2251/5392
Abstract: 本发明提供一种EL元件、EL元件的制造方法、显示装置以及照明装置。EL元件（10）具备：阳极层（12）；与阳极层（12）相对配置的阴极层（14）；在阳极层（12）和阴极层（14）夹着的空间中形成的支柱（13）；在形成支柱（13）的部位以外的部位形成的发光层（17），支柱（13）被形成为使得满足以下（1）～（2）的概率为95％以上。（1）在以阳极层（12）的表面上的任意位置为中心的直径10μm的圆形区域内包含支柱（13）的至少一部分。（2）在以阳极层（12）的表面上的任意位置为中心的直径20μm的圆形区域内包含发光层（17）的至少一部分。根据本发明，不容易发生发光不均和/或短路等，具有较高的耐久性。
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公开(公告)号：CN101523487A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200780036461.2
申请日：2007-07-30
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G11B5/855
Abstract: 本发明提供一种可使合格率格外地提高并使生产率显著提高的磁记录介质的制造方法。该磁记录介质的制造方法的抗蚀剂层形成工序具有：浸渍工序，以内周区域(3)配置于抗蚀剂溶液(11)的液面(11a)上方、并且数据记录区(4)的一部分配置于所述抗蚀剂溶液的液面(11a)下方的方式使所述非磁性基板(31)的一部分浸渍于所述抗蚀剂溶液(11)中；和取出工序，一边以通过所述开口部(37)的中心沿所述非磁性基板(31)的厚度方向延伸的旋转轴(37a)为中心，使浸渍于所述抗蚀剂溶液(11)中的所述非磁性基板(31)旋转，一边从所述抗蚀剂溶液(11)中取出所述非磁性基板(31)。
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