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公开(公告)号：CN107108528A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580070892.5
申请日：2015-12-25
Applicant: 旭硝子株式会社 , AGC若狭化学株式会社
IPC: C07D241/08 , C07D241/16 , C07D241/18
CPC classification number: C07D241/08 , C07D241/16 , C07D241/18
Abstract: 提供简便且高收率的二氢吡嗪酮衍生物的制造方法。其特征在于，将式(II)的环氧化合物与选自由乙二胺、乙二胺酸盐和乙二胺水合物组成的组中的至少1种乙二胺类、及水连续地导入至管状反应器中，在管状反应器中使其反应，从该管状反应器的出口连续地得到包含式(I)的二氢吡嗪酮衍生物的反应产物。式中，R1表示碳数1～6的卤代烷基，各X独立地表示卤素原子。
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公开(公告)号：CN1832973A
公开(公告)日：2006-09-13
申请号：CN200480022886.4
申请日：2004-08-19
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C08F236/20 , C08L47/00 , G03F7/039 , G03F7/033
Abstract: 本发明提供具有官能团、在宽广的波长区域中具有高透明性的含氟聚合物和由该含氟聚合物构成的抗蚀用组合物。具有来源于下述式(1)所表示的含氟二烯环化聚合的单体单元的单元以及来源于其它的环化聚合的单体单元的单元或来源于丙烯酸类单体聚合的单体单元的单元的含氟共聚体，以及将它们作为基本聚合物的抗蚀组合物。CF2＝CFCH2CH(CH2C(CF3)2(OR1)CH2CH＝CH2(1)，式中，R1为氢原子、可以具有醚性氧原子的碳原子数小于等于20的烷基、碳原子数小于等于6的烷氧羰基或者CH2R2，R2为碳原子数小于等于6的烷氧羰基。
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公开(公告)号：CN102027570B
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN200980114703.4
申请日：2009-02-20
IPC: H01L21/027 , G03F7/09
CPC classification number: G03F7/16 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供可抑制由浸渍液所导致的被曝光基板背面的污染并且可提高被加工膜与其正上方的有机膜的附着性以抑制膜剥离且操作性优良的被曝光基板用防水剂组合物、抗蚀图形的形成方法及通过该形成方法制造的电子器件、被曝光基板的防水处理方法、被曝光基板用防水剂套装以及使用该套装的被曝光基板的防水处理方法。本发明使用被曝光基板用防水剂组合物，该组合物至少包含以下述通式(1)表示的有机硅化合物和溶剂。式中，R1为碳原子数14～30的1价有机基团，R2、R3、R4分别独立地为碳原子数1～10的1价有机基团或水解性基团，R2、R3、R4中的至少1个为水解性基团。
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公开(公告)号：CN102027570A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200980114703.4
申请日：2009-02-20
IPC: H01L21/027 , G03F7/09
CPC classification number: G03F7/16 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供可抑制由浸渍液所导致的被曝光基板背面的污染并且可提高被加工膜与其正上方的有机膜的附着性以抑制膜剥离且操作性优良的被曝光基板用防水剂组合物、抗蚀图形的形成方法及通过该形成方法制造的电子器件、被曝光基板的防水处理方法、被曝光基板用防水剂套装以及使用该套装的被曝光基板的防水处理方法。本发明使用被曝光基板用防水剂组合物，该组合物至少包含以下述通式(1)表示的有机硅化合物和溶剂。式中，R1为碳原子数14～30的1价有机基团，R2、R3、R4分别独立地为碳原子数1～10的1价有机基团或水解性基团，R2、R3、R4中的至少1个为水解性基团。
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公开(公告)号：CN101296890A
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200680040042.1
申请日：2006-10-25
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C07C17/363 , C07C23/38 , C07C29/38 , C07C31/44 , C08F18/20
Abstract: 本发明提供新的氟代金刚烷衍生物、新的聚合性的氟代金刚烷衍生物、新的含氟聚合物及制备方法。提供下述化合物(3)、下述化合物(4)、使化合物(4)聚合而得的聚合物及其制备方法，其中，Q表示－CHF－或－CF2－(6个Q可以相同也可以不同)，Z表示－H、－F或－CH2OH(3个Z可以相同也可以不同)，W表示－H或碳数1～10的烃基，R表示－H、－F、－CH3或－CF3，J表示－H、－F、－CHWOH或－CHWOCOCR＝CH2(3个J可以相同也可以不同)。
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公开(公告)号：CN102549714A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201080038908.1
申请日：2010-09-01
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F9/7096 , G03F7/2041 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/7095 , G03F7/70958 , Y10T428/3154
Abstract: 本发明涉及浸液曝光装置用涂布材料组合物，用于在照射曝光光束并经由液体将基材曝光的浸液曝光装置的构件表面形成斥液层，其含有在主链上具有重复单元的含氟聚合物，所述重复单元具有在环结构内包含彼此不相邻的2个或3个醚性氧原子的含氟脂肪族环结构。
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公开(公告)号：CN101646696B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200880010074.6
申请日：2008-02-20
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C07C57/32 , C07C69/65 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/20 , C08F14/18 , C08F36/20 , C08F214/18 , Y10S430/146 , C08F2/00
Abstract: 本发明提供新的含氟化合物、含氟聚合物及其制造方法。式：CF2＝CFCF2C(X)(C(O)OZ)(CH2)nCR＝CHR表示的化合物(其中，X为氢原子、氰基或式-C(O)OZ表示的基团，Z为氢原子或碳数1～20的1价有机基团，n为0、1或2，R为氢原子或碳数1～20的1价有机基团、其制造方法以及使该化合物聚合而得的含氟聚合物。
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公开(公告)号：CN101421673A
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200780013266.8
申请日：2007-03-30
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G03F7/11 , C08F20/24 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料。包含聚合物(F)的碱溶性的浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料，所述聚合物(F)包含通过具有含氟桥环结构的聚合性化合物(fm)的聚合而形成的重复单元(FU)。例如，重复单元(FU)为通过选自下述化合物(f1)～(f4)的化合物(f)的聚合而形成的重复单元；RF表示H、F、碳数1～3的烷基或碳数1～3的氟代烷基，XF表示F、OH或CH2OH。
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公开(公告)号：CN1993393A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200580025573.9
申请日：2005-07-22
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: Y02P20/582
Abstract: 本发明提供具有官能团、在较宽的波长范围内具有高透明度的含氟聚合物及由该含氟聚合物形成的抗蚀用组合物及抗蚀剂保护膜组合物。具有下述式(1)表示的含氟二烯环化聚合而得的单体单元的含氟聚合物，CF2＝CFCF2C(CF3)(OR1)－(CH2)nCR2＝CHR3…(1)，式(1)中，R1表示氢原子、碳数20以下的烷基或(CH2)aCOOR4，其中a为0或1，R4为氢原子或碳数20以下的烷基，R2及R3分别独立地表示氢原子或碳数12以下的烷基，n表示0或2，但n＝0时，R1、R2及R3中的至少一方为氢原子以外的基团。
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公开(公告)号：CN1711291A
公开(公告)日：2005-12-21
申请号：CN200380102894.5
申请日：2003-11-06
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C08F214/18 , C08F36/20 , C08F2/60
Abstract: 本发明提供一种适合用作250nm以下的准分子激光的抗蚀材料用的原料聚合物的含氟聚合物。含氟聚合物具有环化聚合下式(3)所示的含氟二烯而成的单体单元，CF2＝CFCF2－C(CF3)(R5)－CH2CH＝CH2(3)，式中，R5表示被－CHR7－O－R8保护了的羟基或者具有该羟基的有机基；R8表示可具有取代基的环烷基等的环式饱和烃、具有该环式饱和烃的有机基。
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