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公开(公告)号:CN108516871A
公开(公告)日:2018-09-11
申请号:CN201810365522.X
申请日:2018-04-23
Applicant: 哈尔滨工业大学(威海)
IPC: C04B41/88
CPC classification number: C04B41/88 , C04B41/009 , C04B41/5133 , C04B35/584 , C04B38/00 , C04B41/5066 , C04B41/5096 , C04B41/4517 , C04B41/4523
Abstract: 本发明公开了一种多孔氮化硅陶瓷表面金属化方法,包括金属化粉末制备、基材的选用与处理、金属化粉末的涂覆与控制、表面金属化处理等步骤,其中本发明的金属化粉末选用粒径为20 nm~80 nm的纳米Si3N4颗粒、10μm~100μm Si粉、10μm~100μm Ti粉,其中Si3N4的质量百分比为1~10 wt.%,Si粉的质量百分比为1~10 wt.%,余量为Ti粉。本发明的技术方案实现了多孔氮化硅陶瓷表面的改性,可在多孔氮化硅陶瓷的表面获得一层均匀、致密且与陶瓷基体之间连接过度良好的活性金属涂层,缓和了陶瓷基体与金属涂层之间的应力。金属化涂层的形成提高了多孔氮化硅陶瓷表面的耐磨性,降低了其吸水性,并显著提高了钎焊过程中钎料在多孔陶瓷表面的铺展性和润湿性。
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公开(公告)号:CN108516871B
公开(公告)日:2020-12-22
申请号:CN201810365522.X
申请日:2018-04-23
Applicant: 哈尔滨工业大学(威海)
IPC: C04B41/88
Abstract: 本发明公开了一种多孔氮化硅陶瓷表面金属化方法,包括金属化粉末制备、基材的选用与处理、金属化粉末的涂覆与控制、表面金属化处理等步骤,其中本发明的金属化粉末选用粒径为20 nm~80 nm的纳米Si3N4颗粒、10μm~100μm Si粉、10μm~100μm Ti粉,其中Si3N4的质量百分比为1~10 wt.%,Si粉的质量百分比为1~10 wt.%,余量为Ti粉。本发明的技术方案实现了多孔氮化硅陶瓷表面的改性,可在多孔氮化硅陶瓷的表面获得一层均匀、致密且与陶瓷基体之间连接过度良好的活性金属涂层,缓和了陶瓷基体与金属涂层之间的应力。金属化涂层的形成提高了多孔氮化硅陶瓷表面的耐磨性,降低了其吸水性,并显著提高了钎焊过程中钎料在多孔陶瓷表面的铺展性和润湿性。
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