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公开(公告)号：CN109243661B
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201811150730.4
申请日：2018-09-29
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种侧壁倾斜式X射线层状多层膜光栅结构，包括周期分布的多层膜堆，多层膜堆中心位置与每个光栅周期的中心位置重合，多层膜堆占宽比从顶部到底部单调增大，所述占宽比指多层膜堆任意高度位置上的横向宽度与光栅周期的比值，周期膜层厚度也由表面到基底单调变化。与现有技术相比，本发明一方面克服了传统侧壁垂直的大高宽比层状多层膜光栅结构制作难度大、机械稳定性差的缺点，显著提高光栅元件的稳定性和使用寿命，且光栅最高效率不变；另一方面上窄下宽的膜堆结构能进一步提高X射线的有效穿透深度，从而可获得更高的分辨率和光谱纯度。本发明可作为高分辨率X射线光谱测量的关键反射元件。
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公开(公告)号：CN109298474A
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：CN201811440099.1
申请日：2018-11-29
Applicant: 同济大学
IPC: G02B5/08
Abstract: 本发明涉及一种X射线宽光谱三层膜反射镜结构设计方法，所述三层膜反射镜结构包括自下而上依次设置的基板、高密度层、中间密度层和低密度层，所述设计方法包括：材料选择步骤：根据反射镜的使用环境和带有权重因子的入射光谱能量范围，确定高密度层、中间密度层和低密度层的材料；厚度设置步骤：根据X射线的掠入射角度，以目标能量光谱范围中积分反射率最高为优化目标建立评价函数，获得所述高密度层、中间密度层和低密度层的厚度。与现有技术相比，本发明所设计的反射镜结构简单，易于制备，可以实现较高的积分反射率面积，有效地增加望远镜的有效集光面积。
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公开(公告)号：CN108203808A
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201711007075.2
申请日：2017-10-25
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的方法及装置，所述方法利用线型磁控溅射靶枪进行反射镜镀膜，通过在靶枪的溅射方向设置掩膜版调节反射镜上薄膜长度方向的膜厚均匀性，同时控制反射镜经过靶枪的速度调节反射镜的膜厚及反射镜上薄膜宽度方向的均匀性。与现有技术相比，本发明能实现多个反射镜不同位置的厚度均匀性偏差在2％以内，保证膜厚均匀性的同时提高生产效率。
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公开(公告)号：CN105441892B
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201511026931.X
申请日：2015-12-31
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种极紫外高反射率的钯/钇多层膜反射镜的制备方法，包括以下步骤：1)在镀膜溅射真空腔内的样品架上设置一基底，该基底的表面粗糙度为0.2纳米以下；2)在所述镀膜溅射真空腔内充入由高纯氩气和高纯氮气混合而成的混合工作气体；3)开启直流磁控溅射电源，执行钯靶材和钇靶材的预溅射；4)将设置有基底的样品架重复交替转到钯靶材和钇靶材上方的溅射区域，控制样品架的停留时间或运动速度，完成钯膜层和钇膜层交替的钯/钇多层膜反射镜的镀制。与现有技术相比，本发明制备的钯/钇多层膜成膜质量和反射率都有明显提高，该方法工艺重复性好，可控性强，在高效率极紫外多层膜元件和相应光学系统领域有重要应用。
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公开(公告)号：CN103151089B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201110400987.2
申请日：2011-12-06
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及硬X射线微聚焦多厚度比复合多层膜Laue透镜，针对透镜结构中，从中心到外层不同区域的局部光栅选择不同的膜层厚度比γ(以WSi2/Si材料组合为例，γ＝dsi/(dWSi2+dsi)：对中心区域周期较大的光栅选择较小的γ，减小应力；对外层区域周期较小的光栅选择相对较大的γ，保证衍射效率。与传统的多层膜Laue透镜相比，本发明提出多厚度比复合结构的设计，在保证衍射效率的前提下，减小上千层膜层镀制过程中膜系的应力，从而可以制作更厚的多层膜结构，有效增大Laue透镜的口径和光通量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103021496B
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201110287085.2
申请日：2011-09-24
Applicant: 同济大学
IPC: G21K1/06
Abstract: 本发明涉及硬X射线微聚焦高级次多层膜Laue透镜，通过改变组成多层膜Laue透镜局部光栅的2种材料的厚度比(γ＝dA/(dA+dB)，A为吸收层，B为间隔层)，选择合适的截面深度t，极大的提高高级次衍射的效率，从而有效的利用高级次衍射光，进一步提高硬X射线的聚焦分辨率。与传统的多层膜Laue透镜相比，本发明提出利用Laue透镜的高级次衍射对硬X射线进行聚焦，并通过改变Laue透镜结构中不同材料的厚度比，克服了传统波带片高级次衍射效率低下的问题，是实现高效率纳米级硬X射线聚焦的有效方法。
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公开(公告)号：CN104698520A
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201510078918.2
申请日：2015-02-13
Applicant: 同济大学
IPC: G02B5/18
CPC classification number: G02B5/1861 , G02B5/1857
Abstract: 本发明涉及一种X射线层状多层膜闪耀光栅结构及其制作方法，所述层状多层膜闪耀光栅结构包括闪耀光栅基底，所述闪耀光栅基底上设置有周期性分布的锯齿结构，形成的光栅周期为D，各锯齿结构均包括闪耀面和反闪耀面，所述闪耀面的中心区域镀制有多层膜堆。与现有技术相比，本发明克服了传统多层膜闪耀光栅(BMG)和层状多层膜光栅(LMG)的缺点；相比BMG解决了其在反闪耀面附近非复形生长区域膜层吸收大，导致实际衍射效率远低于理论值的问题；相比LMG，多层膜的倾角使其能在高级次获得极高的衍射效率。本发明能同时获得高效率和分辨率，可作为高精度X射线光谱测量的关键元件。
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公开(公告)号：CN103323474A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201210076770.5
申请日：2012-03-21
Applicant: 同济大学
IPC: G01N23/22
Abstract: 本发明涉及一种基于薄膜标记层的多层膜结构的表征方法，在多层膜结构内特定位置插入合适材料的标记膜层，以在电镜测试过程中确定不同区域膜层的位置，从而利用高倍数电镜对多层膜膜系整体结构实现精确拼接和表征。与现有技术相比，本发明利用薄膜标记层的方法，克服了传统电镜在表征厚多层膜或非周期多层膜结构时，由于无法同时实现大视场和高分辨率，不同区域膜层拼接的位置误差对膜系整体结构测试造成的影响，是对多层膜结构进行纳米级精确表征的有效方法，为高精度多层膜元件的制作提供保证。
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公开(公告)号：CN119175382A
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN202411616709.4
申请日：2024-11-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种金属基X射线Montel镜的制作方法，属于光学镜片基底制作技术领域，包括以下步骤：S1、利用超精密车削加工Montel镜表面和辅助定位工装；S2、将加工完成后的两块Montel镜与一块辅助定位工装固定为一体结构部件；S3、将装配好的一体结构部件车削出曲面面形，面形达标后将一体结构部件拆分；S4、分别对拆分后的Montel镜和辅助定位工装进行镀镍，完成后重复步骤S1‑S2；S5、对S4得到的一体结构部件再次进行车削，面形检测达标后进行机械臂抛光，然后将一体结构部件拆卸并完成两块Montel镜的装配。本发明通过T型结构的辅助定位工装同时定位加工两片Montel镜，降低在抛光过程中Montel镜的边缘效应，解决了Montel镜加工边缘效应大、边缘轮廓一致性难控制的问题。
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公开(公告)号：CN117293004A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202311252425.7
申请日：2023-09-26
Applicant: 同济大学
IPC: H01J37/302
Abstract: 本发明涉及一种基于椭圆束斑离子束的X射线反射镜二维修形方法，该包括以下步骤：获取待修形元件表面的待去除量；使用一级修正的大束径圆形束斑对待修形元件表面进行一级修正；若不满足一级修正的目标精度，则返回上一步骤；若满足，则进行下一步骤；确定二级修正的椭圆离子束束斑、二级修正的修正线的数量与间距；根据所述设备与椭圆离子束束斑设计掩膜板与待修形元件的空间位置；使用椭圆离子束束斑对待修形元件表面进行二级修正；若不满足加工精度要求，则重复此次步骤进行迭代二级修正加工；若满足加工精度要求，则加工完成。与现有技术相比，本发明具有较快的修正速度，使用了较少的刻蚀的线条数，同时具有较高的加工精度要求等优点。
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