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公开(公告)号:CN116943949A
公开(公告)日:2023-10-27
申请号:CN202311002035.4
申请日:2023-08-10
Applicant: 华东光电集成器件研究所
Abstract: 本发明提供一种电路涂敷工装及其涂敷方法,它包括底板(1),在底板(1)上设有导柱(2),在导柱(2)上穿设有一组载物槽(3),在载物槽(3)的槽底和槽壁上均布有一组第二通孔(3a)。将电路放置于载物槽中,而后将载物槽逐一穿套在导柱上,而后安装手柄,把所有的载物槽浸润到温的涂敷中一段时间后取出,而后将晾晒和高温烘焙,最后电路凉至室温后再从载物槽取出,涂敷完成。本发明结构简单,使用方便,可把单层涂敷电路变为多层涂敷,提高了涂敷效率,电路可直接在载台提篮中进行涂敷后晾晒,减少操作步骤,避免了电路在涂敷液未干时,因人为操作导致的涂敷后凃层不均、电路表面划伤,提高了涂敷成品率。
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公开(公告)号:CN116978831A
公开(公告)日:2023-10-31
申请号:CN202311105901.2
申请日:2023-08-30
Applicant: 华东光电集成器件研究所
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供一种用于集成电路的粘片用工装夹具,它包括底板(1),在底板(1)上设有一组管壳放置单元(2),设置一个覆盖所有管壳放置单元(2)的盖板(4),在底板(1)上还设有一组与盖板(4)对应配合磁铁(3)。本发明具有结构简单,使用方便的优点,适用于自动化粘片,在点胶和粘片过程中不发生位移,保证器件在粘片过程中不出现任何位移,从而解决小尺寸电路的手工粘片效率低、良率低的难题。
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公开(公告)号:CN117720062A
公开(公告)日:2024-03-19
申请号:CN202311560684.6
申请日:2023-11-22
Applicant: 华东光电集成器件研究所
Abstract: 本发明涉及一种MEMS硅压阻式压力传感器晶圆划片方法,它应用于一面为硅结构层、另一面为玻璃结构层的压力传感器晶圆划片;其包括以下步骤:将晶圆的玻璃结构层表面上贴膜并固定在晶圆划片机工作台上;编辑晶圆划片机的划切参数,对第硅结构层进行切割,且划片刀未接触玻璃结构层;将晶圆取出,放入晶圆清洗机清洗硅屑,清洗干净后吹干并将膜撕下;将晶圆的硅结构层表面上贴膜并固定在晶圆划片机工作台上;编辑晶圆砂轮划片机的划切参数,对玻璃结构层进行切割分离;将晶圆取出,放入晶圆清洗机清洗硅屑,清洗干净后吹干进行倒膜。本发明通过先划切硅结构层再划切玻璃结构层的方式,有效降低划切过程中产生的应力,保证晶圆划切质量。
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公开(公告)号:CN117198905A
公开(公告)日:2023-12-08
申请号:CN202311099535.4
申请日:2023-08-30
Applicant: 华东光电集成器件研究所
IPC: H01L21/603 , H01L21/687
Abstract: 本发明涉及一种基于粗铝丝键合设备的键合工装,属于半导体电路键合技术领域。它包括底座,所述底座上设有一排定位块、以及位于该排定位块一侧的一排滑槽,滑槽与定位块一一对应,且二者之间具有定位区域,滑槽内滑动配合有锁紧块,锁紧块高于滑槽一定距离,每个锁紧块分别通过弹簧共同连接同步板,同步板与直线往复移动机构连接,直线往复移动机构可驱动锁紧块向定位块方向移动,将待键合电路夹持固定在定位区域;每个定位区域上设有的吸附孔,吸附孔通过管道与真空泵连接。本发明通过弹簧的弹性作用使锁紧块柔性固定不同外形尺寸电路,在电路键合时,使键合压焊点与引线拉力稳定可控,保证压焊点和引线拉力质量,提高粗铝线的键合质量。
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