基板制造方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109659225B

    公开(公告)日:2023-11-17

    申请号:CN201811126804.0

    申请日:2018-09-26

    Abstract: 本发明的课题在于提供能够容易地获得厚度薄的氧化镁单晶基板的基板制造方法。本发明的基板制造方法进行第1工序:在氧化镁单晶基板的被照射面上非接触地配置将激光聚光的激光聚光设备。然后进行第2工序:从氧化镁单晶基板的被照射面侧产生面状剥离。在该第2工序中,在预定照射条件下对单晶基板的表面照射激光,在将激光聚光于单晶基板内部的同时使激光聚光设备与单晶基板二维状地相对地移动,从而并列地形成将由热加工得到的加工痕迹在单晶构件内部形成为一列而成的加工痕迹列。此时,在加工痕迹列的至少一部分形成加工痕迹彼此产生重叠的重叠列部,从而从被照射面侧产生面状剥离。

    衬底基板及单晶金刚石层叠基板以及它们的制造方法

    公开(公告)号:CN119816630A

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202380063739.4

    申请日:2023-08-22

    Inventor: 野口仁

    Abstract: 本发明为一种衬底基板的制造方法,其为用于单晶金刚石层叠基板的衬底基板的制造方法,其具有:准备初始基板的工序;及在所述初始基板上形成由至少包含单晶Ir膜或单晶MgO膜的单层膜或层叠膜构成的中间层的工序,使用雾化CVD法形成构成所述中间层的单晶Ir膜或单晶MgO膜。由此,可提供一种可将高品质的单晶金刚石层制膜的衬底基板的制造方法,该高品质的单晶金刚石层能够适用于电子·磁性装置、面积大(口径大)、结晶性高且凸起、栾晶等异常生长颗粒、位错缺陷等少、纯度高且应力低。

    衬底基板及单晶金刚石层叠基板以及它们的制造方法

    公开(公告)号:CN118234889A

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202280074162.2

    申请日:2022-10-21

    Abstract: 本发明为一种衬底基板的制造方法,其为用于单晶金刚石层叠基板的衬底基板的制造方法,所述制造方法的特征在于,具有:准备初始基板的工序;及在所述初始基板上形成由至少包含单晶Ir膜或单晶MgO膜的单层或层叠膜构成的中间层的工序,所述制造方法中,采用雾化CVD法形成构成所述中间层的单晶Ir膜或单晶MgO膜。由此,可提供一种衬底基板的制造方法,其能够使适合于电气·磁力设备,具有大面积(大口径)、高结晶性且凸起、异常生长颗粒、位错缺陷等较少、高纯度且低应力的高品质的单晶金刚石层制膜。

    基板制造方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109659225A

    公开(公告)日:2019-04-19

    申请号:CN201811126804.0

    申请日:2018-09-26

    Abstract: 本发明的课题在于提供能够容易地获得厚度薄的氧化镁单晶基板的基板制造方法。本发明的基板制造方法进行第1工序:在氧化镁单晶基板的被照射面上非接触地配置将激光聚光的激光聚光设备。然后进行第2工序:从氧化镁单晶基板的被照射面侧产生面状剥离。在该第2工序中,在预定照射条件下对单晶基板的表面照射激光,在将激光聚光于单晶基板内部的同时使激光聚光设备与单晶基板二维状地相对地移动,从而并列地形成将由热加工得到的加工痕迹在单晶构件内部形成为一列而成的加工痕迹列。此时,在加工痕迹列的至少一部分形成加工痕迹彼此产生重叠的重叠列部,从而从被照射面侧产生面状剥离。

    单结晶金刚石生长用基体材料以及单结晶金刚石基板的制造方法

    公开(公告)号:CN102296362B

    公开(公告)日:2015-01-07

    申请号:CN201110177039.7

    申请日:2011-06-28

    Abstract: 本发明提供一种能够让大面积高结晶性单结晶金刚石生长的,以及可以低成本制造高品质单结晶金刚石基板的单结晶金刚石生长用基体材料以及单结晶金刚石基板的制造方法。具体地说,本发明提供了一种单晶金刚石生长用基体材料,其特征在于所述基体材料包括:由线膨胀系数比MgO要小,且为0.5×10-6/K以上的材料构成的基本基体材料;在所述基本基体材料的使所述单晶金刚石生长侧,用贴合法形成的单晶MgO层;以及在所述单晶MgO上使其异质外延生长的铱膜、铑膜、铂膜的任意一个构成的膜。

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