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公开(公告)号：CN119935368A
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202510421862.X
申请日：2025-04-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种大口径平板玻璃应力双折射面成像测量方法，属于光学测量技术领域，其目的在于解决现有技术中存在的玻璃应力双折射测量效率低的技术问题。包括：将待测样品、1/4波片移出测量光路，旋转起偏器找到消光位置并在附近旋转起偏器N个角度，得到角度#imgabs0#；保持起偏器与检偏器不变，将1/4波片移入测量光路中，旋转1/4波片，找到消光位置；在消光位置附近旋转起偏器N个角度，得到角度#imgabs1#；保持1/4波片和检偏器位置、方向不变，将待测样品移入起偏器与1/4波片之间的测量光路中；通过起偏旋转机构旋转起偏器，当起偏器与参考坐标系x轴的夹角分别为0°、60°、120°时，通过CCD相机得到三幅图像的光强，并根据三个光强得到待测样品的应力双折射。
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公开(公告)号：CN116007908B
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN202310306311.X
申请日：2023-03-27
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种大口径平板元件高透反射率及不均匀性测量装置及方法，属于光学测量领域中的大口径光学元器件的测量，其目的在于解决现有技术中大口径平板元件的高透反射率以及不均匀性测量误差较大的技术问题。其将用于大口径待测高透射镜的角度旋转、用于第一高反透射镜位置旋转设置为同轴机构，且在待测样品一侧增设第一高反透射镜，激光器产生的激光经分光镜后形成探测光和参考光，探测光以小角度入射至高反射镜，探测光在元件上产生两次反射或透射，同步采集卡最后采集参考光、探测光的光强，从而可将测量误差降低一倍，提高了测量精度，可用于大口径待测高透射镜的反射率或透射率及其空间不均匀性的高精度测量。
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公开(公告)号：CN116007908A
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202310306311.X
申请日：2023-03-27
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种大口径平板元件高透反射率及不均匀性测量装置及方法，属于光学测量领域中的大口径光学元器件的测量，其目的在于解决现有技术中大口径平板元件的高透反射率以及不均匀性测量误差较大的技术问题。其将用于大口径待测高透射镜的角度旋转、用于第一高反透射镜位置旋转设置为同轴机构，且在待测样品一侧增设第一高反透射镜，激光器产生的激光经分光镜后形成探测光和参考光，探测光以小角度入射至高反射镜，探测光在元件上产生两次反射或透射，同步采集卡最后采集参考光、探测光的光强，从而可将测量误差降低一倍，提高了测量精度，可用于大口径待测高透射镜的反射率或透射率及其空间不均匀性的高精度测量。
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公开(公告)号：CN111122507A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201911077253.8
申请日：2019-11-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种基于离散小波变换的光学平板波前的降噪方法和装置，所述方法包括对含噪波前位相Wo进行预处理，得到扩展矩阵W；对扩展矩阵W进行二维离散小波分解，得到系数向量Co；基于滤除层序号数N对系数向量Co进行阈值降噪，得到降噪后的系数向量Ct；基于降噪后的系数向量Ct进行二维离散小波重构，得到降噪后扩展矩阵W'；对降噪后扩展矩阵W'进行后处理，得到降噪后波前位相Wt。本发明提供的基于离散小波变换的光学平板波前的降噪方法和装置，不需要额外硬件，不增加特殊调整步骤，可有效滤除高精度平板干涉测量时寄生干涉现象引入的噪声位相。
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公开(公告)号：CN109932826A
公开(公告)日：2019-06-25
申请号：CN201910354065.9
申请日：2019-04-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件缺陷检测的拼接式条形激光装置，涉及光学元件检测装置技术领域，本发明包括若干组水平布置的光束形成机构，光束形成机构均包括从右到左依次布置的基础光源、准直透镜、扩束凹镜和柱面准直镜，准直透镜为平凸柱面透镜A，平凸柱面透镜A的平面一端靠近基础光源，扩束凹镜为平凹柱面透镜A，柱面准直镜包括组合在一起的平凹柱面透镜B和平凸柱面透镜B，平凹柱面透镜B的平面一端靠近平凹柱面透镜A，平凸柱面透镜B的平面一端靠近平凹柱面透镜B，平凸柱面透镜B的凸面为出光面，本发明具有加工成本低、加工难度低、输出光束质量高的优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117754399A
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202410072088.1
申请日：2024-01-18
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明涉及超轻量化非球面反射镜成形加工恒定磨削力的控制方法，本发明采用压电陶瓷将作用于三维力测量台上的力信号转换为电信号，经放大调理后成为模拟电压信号，并传送至磨削力采集处理模块；磨削力采集处理模块根据力和电压信号之间的线性关系，实时采集得到三维力，并最终求得任意时刻金刚石砂轮作用在非球面反射镜表面的合力；在此基础上，在磨削力采集处理模块上设定金刚石砂轮作用在非球面反射镜表面的最大磨削力阈值。通过对加工工艺参数和砂轮表面锐利度动态调控的手段，使整个加工过程中的磨削力恒力，不超过镜面破碎的阈值，确保镜面完好的前提下实现大口径非球面元件的超精密成形加工。
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公开(公告)号：CN110441035B
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN201910772671.2
申请日：2019-08-20
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了大口径倍频晶体o光e光与边缘平行度测量装置及方法，属于光学测量领域，本发明包括：发射器组件，用于发出一束垂直偏振光；分光镜，用于将所述垂直偏振光分为第一光束、第二光束；第一探测器，用于记录第一光束的参量；第二光路，所述第二光路包括依次设置的起偏器、待测晶体、以及与所述起偏器正交布置的检偏器，还包括用于驱动所述起偏器和/或检偏器分别绕起偏器/或检偏器的轴线转动的旋转组件；第二探测器，用于记录第二光束通过第二光路后的参量；其中，所述第一光束与第二光束之间的参量变化限定所述垂直偏振光，本发明可极大地消除了用于发射激光的激光器功率随时间变化的影响。
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公开(公告)号：CN117490979A
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202311214812.1
申请日：2023-09-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种大口径平板元件剩余透反射率及不均匀性测量装置，涉及光学元件透反射率及不均匀性的测量，其目的在于解决现有技术中因存在较大系统误差而致使最终测量误差较大的技术问题，相比于传统的双光路测量方法，本申请在光路中引入了参考高反射镜，并将其作为比较测量对象；由于引入的参考高反射镜的透射率在光路中进行了原位标定，其提高了系统误差测量的进度；结合剩余透射率、剩余反射率的计算公式，计算公式中都有乘以标定的参考高反射镜的剩余透射率，从而极大地降低随机误差，进一步提高测量精度。
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公开(公告)号：CN111122507B
公开(公告)日：2022-03-15
申请号：CN201911077253.8
申请日：2019-11-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种基于离散小波变换的光学平板波前的降噪方法和装置，所述方法包括对含噪波前位相Wo进行预处理，得到扩展矩阵W；对扩展矩阵W进行二维离散小波分解，得到系数向量Co；基于滤除层序号数N对系数向量Co进行阈值降噪，得到降噪后的系数向量Ct；基于降噪后的系数向量Ct进行二维离散小波重构，得到降噪后扩展矩阵W'；对降噪后扩展矩阵W'进行后处理，得到降噪后波前位相Wt。本发明提供的基于离散小波变换的光学平板波前的降噪方法和装置，不需要额外硬件，不增加特殊调整步骤，可有效滤除高精度平板干涉测量时寄生干涉现象引入的噪声位相。
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公开(公告)号：CN109540926B
公开(公告)日：2021-10-08
申请号：CN201910085710.1
申请日：2019-01-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/958
Abstract: 本发明公开了一种KDP或DKDP晶体体损伤性能高精度测量装置及测量方法，涉及KDP或DKDP晶体体损伤测量技术领域，本发明先通过层析的方法获得高功率纳秒激光脉冲作用后晶体体损伤点基础数据，解决损伤点重复统计、背景光消除、二值化等问题并采用图像矩算法求出每个散射点的质心后，再通过重构算法获得体损伤点三维分布，进而可以高精度获得晶体体损伤密度ppd、体损伤点几何尺寸分布pps和晶体体损伤点三维分布等3个体损伤表征参数，本发明具有测量精度高、晶体体损伤表征更加全面的优点。
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