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公开(公告)号：CN115337782A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202210489388.0
申请日：2022-05-06
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: B01D61/00
Abstract: 本发明涉及含金属纳米粒子的组合物纯化品的制造方法和金属纳米粒子分散液纯化品的制造方法，所述含金属纳米粒子的组合物纯化品的制造方法包括：利用差压使含金属纳米粒子的组合物在液体状态下从具有连通孔的聚酰亚胺以及/或者聚酰胺酰亚胺多孔质膜的一侧向另一侧通液，所述金属纳米粒子分散液纯化品的制造方法包括：利用差压使金属纳米粒子分散液从具有连通孔的聚酰亚胺以及/或者聚酰胺酰亚胺多孔质膜的一侧向另一侧通液。
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公开(公告)号：CN115469508A
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN202210442088.7
申请日：2022-04-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及图案形成方法及固化性组合物的制造方法。图案形成方法，其包括下述工序：使用含有金属氧化物纳米粒子的固化性组合物，在基板上形成固化性膜的工序；将具有线与间隔图案的模具按压于固化性膜，从而在固化性膜上转印线与间隔图案的工序；在将模具按压于固化性膜的同时，使转印有线与间隔图案的固化性膜进行固化，从而形成固化膜的工序；以及，将模具从固化膜剥离，从而在基板上形成线与间隔图案的工序，形成于基板上的线与间隔图案的基部的线宽度x、与金属氧化物纳米粒子的体积平均一次粒径φ满足：0.03x
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117083309A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202280021329.9
申请日：2022-03-11
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F2/50
Abstract: 一种光固化性组合物，其含有金属氧化物纳米粒子(X)、光聚合性化合物(B)和光自由基聚合引发剂(C)，相对于前述金属氧化物纳米粒子(X)及前述光聚合性化合物(B)的合计含量100质量份而言，前述光自由基聚合引发剂(C)的含量为10质量份以上。
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公开(公告)号：CN116981700A
公开(公告)日：2023-10-31
申请号：CN202280021336.9
申请日：2022-03-07
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F2/46
Abstract: 一种光固化性组合物，其含有金属氧化物纳米粒子(X)和光聚合性硫化合物(C)。
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公开(公告)号：CN119472166A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202411061876.7
申请日：2024-08-05
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及低折射率膜形成用固化性组合物、低折射率膜、光学器件及低折射率膜的制造方法。本发明的课题是提供能够形成耐热性优异的固化膜的低折射率膜形成用固化性组合物。本发明的解决手段为低折射率膜形成用固化性组合物，其含有中空填料(A)、聚合性化合物(B)和聚合引发剂(C)而不含有碱溶性树脂，前述聚合性化合物(B)包含具有5个以上的聚合性官能团的化合物(B1)、和具有1个以上3个以下的聚合性官能团的化合物(B2)，前述化合物(B1)的质量与前述化合物(B2)的质量之比(B1/B2)为0.25以上3以下。
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公开(公告)号：CN115248529A
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN202210465188.1
申请日：2022-04-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明涉及图案形成方法。图案形成方法，其包括：将具有凹凸图案的模具按压于由纳米压印用组合物形成的固化性膜，从而在前述固化性膜上转印前述凹凸图案的工序(i)；在将前述模具按压于前述固化性膜的同时，使转印有前述凹凸图案的固化性膜固化，从而形成固化膜的工序(ii)；将前述模具从前述固化膜剥离的工序(iii)；和将剥离了前述模具的固化膜于160℃以上进行加热，从而形成后烘烤固化膜的工序(iv)。
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