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公开(公告)号:CN119447097A
公开(公告)日:2025-02-14
申请号:CN202410448795.6
申请日:2024-04-15
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L23/538 , H01L23/498 , H10B80/00 , B82Y30/00
Abstract: 一种半导体芯片结构包括多个半导体芯片。每个半导体芯片中包括的接合电极填充有纳米孪晶铜,并且接合电极的至少一部分中设置有细粒铜。
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公开(公告)号:CN119028996A
公开(公告)日:2024-11-26
申请号:CN202410436991.1
申请日:2024-04-11
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L27/146
Abstract: 本公开提供了一种半导体器件制造方法,包括:形成下芯片和上芯片;以及将下芯片和上芯片彼此接合。形成下芯片包括:提供下衬底;顺序地形成下层间绝缘膜和预下粘合膜;蚀刻预下粘合膜和下层间绝缘膜的部分以形成下沟槽;使用溅射工艺来形成第一下籽晶膜和第二下籽晶膜。形成上芯片包括:提供上衬底;顺序地形成上层间绝缘膜和预上层粘合膜;蚀刻预上层粘合膜和上层间绝缘膜的部分以形成上沟槽;使用溅射工艺来形成第一上籽晶膜和第二上籽晶膜。
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