提高图案化性能的光阻剂

    公开(公告)号:CN1818783A

    公开(公告)日:2006-08-16

    申请号:CN200610003206.5

    申请日:2006-01-27

    Inventor: 李东基 李义国

    CPC classification number: G03F7/0236

    Abstract: 一种光阻剂,包含碱溶性树脂、光敏剂和溶剂。碱溶性树脂包含由间甲酚合成的第一类酚醛清漆树脂,第一类酚醛清漆树脂的平均分子量为大约8000至25000并且其多分散指数为四或更小。第一类酚醛清漆树脂在碱溶性树脂中的含量为大约5wt.%至30wt.%。光阻剂还可包含由间甲酚和对甲酚的混合物合成的第二类酚醛清漆树脂。第二类酚醛清漆树脂的平均分子量为大约2000至6000,并且间甲酚与对甲酚的重量比为4∶6。第二类酚醛清漆树脂在碱溶性树脂中的含量为大约70wt.%至95wt.%。

    无掩模平版印刷设备和使用其补偿旋转对准误差的方法

    公开(公告)号:CN101673056A

    公开(公告)日:2010-03-17

    申请号:CN200910173084.8

    申请日:2009-09-10

    CPC classification number: G03F7/7085 G03F7/70291 G03F7/70508 G03F7/70558

    Abstract: 提供一种无掩模平版印刷设备和使用其补偿旋转对准误差的方法。无掩模平版印刷设备可包括:光源,提供曝光束;光调制器,根据曝光图案调制曝光束;曝光光学系统,将光调制器所提供的调制的曝光束以束点阵列的形式传送到基底上;控制单元,将束点阵列中的一些行关闭,以使整个束点阵列上的曝光能量分布均匀。使用无掩模平版印刷设备补偿对准误差的方法可包括:提供曝光束;根据曝光图案调制曝光束;将光调制器所提供的调制的曝光束以束点阵列的形式传送到基底上;将束点阵列中的一些行关闭,以使整个束点阵列上的曝光能量分布均匀。

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