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公开(公告)号:CN101299440A
公开(公告)日:2008-11-05
申请号:CN200810086977.4
申请日:2008-04-03
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L29/78 , H01L29/10 , H01L29/16 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/66439 , B82Y10/00 , B82Y15/00 , H01L21/02365 , H01L21/02601 , H01L29/0665 , H01L29/0669 , H01L29/0673 , H01L29/1033 , H01L29/66742 , H01L29/7839 , H01L29/78684 , H01L29/78696 , H01L51/426 , H01L2221/1094
Abstract: 本发明提供了一种具有至少一个Ge纳米棒的场效应晶体管以及场效应晶体管的制造方法。该场效应晶体管可以包括:栅极氧化物层,形成在硅基底上;至少一个Ge纳米棒,埋入在栅极氧化物层中,其中,Ge纳米棒的两端被暴露;源电极和漏电极,连接到至少一个Ge纳米棒的相对侧;栅电极,在源电极和漏电极之间形成在栅极氧化物层上。