检查半导体器件的方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119108294A

    公开(公告)日:2024-12-10

    申请号:CN202411159231.7

    申请日:2017-03-03

    Abstract: 一种检查样品的方法,包括:对样品的目标图案执行聚焦操作。该聚焦操作包括在不同聚焦高度扫描目标图案以获得多个聚焦图像。该方法还包括使用多个聚焦图像中的至少一个作为目标图案的目标图案图像,并且然后基于目标图案图像来测量目标图案的尺寸。

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