发明公开
- 专利标题: 形成连接件衬垫结构、互连结构的方法及其结构
- 专利标题(英): Methods of forming connector pad structures and interconnect structures, and the structures
-
申请号: CN201610600201.4申请日: 2016-07-27
-
公开(公告)号: CN106684033A公开(公告)日: 2017-05-17
- 发明人: 张家纶 , 刘重希 , 林修任 , 陈宪伟 , 郑明达 , 陈威宇
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹
- 代理机构: 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- 代理商 章社杲; 李伟
- 优先权: 14/815,584 20150731 US
- 主分类号: H01L21/768
- IPC分类号: H01L21/768 ; H01L23/52
摘要:
本发明的实施例提供了形成连接件衬垫结构、互连结构的方法及其结构。在一些实施例中,形成连接件衬垫结构的方法包括形成球下金属化(UBM)衬垫,以及通过将UBM衬垫暴露于等离子体处理来增加UBM衬垫的表面粗糙度。聚合物材料形成在UBM衬垫的第一部分上方,而暴露UBM衬垫的第二部分。
IPC分类: