公开(公告)号：US06376152B2

公开(公告)日：2002-04-23

申请号：US09775620

申请日：2001-02-05

申请人： Yasumasa Kawabe ,  Shinichi Kanna ,  Fumiyuki Nishiyama

发明人： Yasumasa Kawabe ,  Shinichi Kanna ,  Fumiyuki Nishiyama

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/12

摘要： A positive photoresist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a resin which is insoluble or sparingly soluble in alkali but becomes soluble in alkali by the action of an acid, and (C) a nitrogen-containing compound containing at least one partial structure represented by formula (I) shown below in its molecule: The positive photoresist composition of the present invention is suitable for exposure to a far ultraviolet ray, particularly a KrF excimer laser beam, improved in line edge roughness and also excellent in sensitivity, resolution, depth of focus and resist profile.

摘要翻译： 正型光致抗蚀剂组合物包含（A）在用光化学射线或辐射照射时产生酸的化合物，（B）不溶于或微溶于碱但通过酸作用而溶于碱的树脂和（ C）在其分子中含有至少一种由式（I）表示的部分结构的含氮化合物：本发明的正性光致抗蚀剂组合物适用于暴露于远紫外线，特别是KrF准分子激光束， 线边缘粗糙度提高，灵敏度，分辨率，聚焦深度和抗蚀剂轮廓优异。

公开(公告)号：US06756179B2

公开(公告)日：2004-06-29

申请号：US09953888

申请日：2001-09-18

申请人： Toru Fujimori ,  Kunihiko Kodama ,  Shinichi Kanna ,  Fumiyuki Nishiyama

发明人： Toru Fujimori ,  Kunihiko Kodama ,  Shinichi Kanna ,  Fumiyuki Nishiyama

IPC分类号： G03C173

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/11 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： A positive resist composition comprises (A) a resin capable of decomposing by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer, and (B) a compound capable of generating an aromatic sulfonic acid substituted with at least one group containing a fluorine atom upon irradiation with one of an actinic ray and radiation.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包含（A）能够通过酸的作用分解以增加在碱性显影剂中的溶解度的树脂，和（B）能够产生被至少一个含氟原子的基团取代的芳族磺酸的化合物 在用光化射线和辐射之一照射时。

公开(公告)号：US08951718B2

公开(公告)日：2015-02-10

申请号：US13588762

申请日：2012-08-17

申请人： Hideaki Tsubaki ,  Shinichi Kanna

发明人： Hideaki Tsubaki ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2024 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/24802

摘要： A pattern forming method, including: (A) coating a substrate with a positive resist composition of which solubility in a positive developer increases and solubility in a negative developer decreases upon irradiation with actinic rays or radiation, so as to form a resist film; (B) exposing the resist film; and (D) developing the resist film with a negative developer; a positive resist composition for multiple development used in the method; a developer for use in the method; and a rinsing solution for negative development used in the method.

摘要翻译： 一种图案形成方法，包括：（A）用正性显影剂中的溶解度增加的正性抗蚀剂组合物涂覆基材，并且在用光化学辐射或辐射照射时，在负极显影剂中的溶解度降低，以形成抗蚀剂膜; （B）曝光抗蚀膜; 和（D）用负极显影剂显影抗蚀膜; 该方法中使用的用于多重显影的正性抗蚀剂组合物; 用于该方法的开发人员; 以及用于该方法的负显影用冲洗液。

公开(公告)号：US08900789B2

公开(公告)日：2014-12-02

申请号：US12501938

申请日：2009-07-13

申请人： Hiroshi Saegusa ,  Shinichi Kanna

发明人： Hiroshi Saegusa ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/2041

摘要： An actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin that when acted on by an acid, exhibits an increased solubility in an alkali developer, (B) a compound that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid, (C) a resin containing two or more resins (c) each having at least either a fluorine atom or a silicon atom, and (D) a solvent.

摘要翻译： 光化射线或辐射敏感性树脂组合物包含（A）当被酸作用时表现出增加的在碱性显影剂中的溶解度的树脂，（B）当暴露于光化射线或辐射时产生 酸，（C）含有两种以上的具有至少一个氟原子或硅原子的树脂（c）的树脂和（D）溶剂。

公开(公告)号：US08679724B2

公开(公告)日：2014-03-25

申请号：US11636482

申请日：2006-12-11

申请人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

发明人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C07C69/653 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322

摘要： A positive resist composition comprises: (A) a resin of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (C) a resin having at least one of a fluorine atom and a silicon atom; and (D) a solvent; and a pattern forming method using the positive resist composition.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包括：（A）在酸的作用下在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （C）具有氟原子和硅原子中的至少一个的树脂; 和（D）溶剂; 以及使用正性抗蚀剂组合物的图案形成方法。

公开(公告)号：US08637215B2

公开(公告)日：2014-01-28

申请号：US13033153

申请日：2011-02-23

申请人： Shinichi Kanna ,  Kazuya Oota ,  Masaru Yoshikawa ,  Junichi Ito ,  Yoshihiko Fujie ,  Shigekazu Suzuki

发明人： Shinichi Kanna ,  Kazuya Oota ,  Masaru Yoshikawa ,  Junichi Ito ,  Yoshihiko Fujie ,  Shigekazu Suzuki

IPC分类号： G02B5/20

CPC分类号： G02B5/223 ,  C07D207/335 ,  C07D207/34 ,  C07D403/06 ,  C09B23/0008 ,  C09B23/04 ,  C09B57/00 ,  C09B67/0033 ,  C09B69/105 ,  G02B1/04 ,  G03C1/735 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/105

摘要： The present invention provides a colored curable composition including a phthalocyanine pigment, a dioxazine pigment, a dye, a polymerization initiator, a polymerizable compound and a solvent; and a colored curable composition including a phthalocyanine pigment, a dye multimer having a polymerizable group and a group derived from a dipyrromethene dye, a polymerization initiator, a polymerizable compound and a solvent.

公开(公告)号：US08338062B2

公开(公告)日：2012-12-25

申请号：US12749533

申请日：2010-03-30

申请人： Kazuya Oota ,  Shinichi Kanna ,  Yoshihiko Fujie ,  Junichi Ito ,  Yosuke Murakami ,  Shigekazu Suzuki

发明人： Kazuya Oota ,  Shinichi Kanna ,  Yoshihiko Fujie ,  Junichi Ito ,  Yosuke Murakami ,  Shigekazu Suzuki

IPC分类号： G02B5/20 ,  G02F1/1335

CPC分类号： C07D207/34 ,  C09B23/04 ,  C09B57/00 ,  C09B67/0033 ,  G03F7/0007

摘要： A colored curable composition including at least (A-1) a complex including a compound represented by the following formula (I) and a metal atom or a metal compound, (A-2) a phthalocyanine pigment, (B) a dispersing agent, (C) a polymerizable compound, (D) a photopolymerization initiator, and (E) an organic solvent: wherein R1 to R6 each independently represent a hydrogen atom or a substituent; and R7 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.

摘要翻译： 一种着色固化性组合物，其至少包含（A-1）包含下式（I）表示的化合物和金属原子或金属化合物的复合物，（A-2）酞菁颜料，（B）分散剂， （C）可聚合化合物，（D）光聚合引发剂和（E）有机溶剂：其中R 1至R 6各自独立地表示氢原子或取代基; 并且R 7表示氢原子，卤素原子，烷基，芳基或杂环基。

公开(公告)号：US20120264039A1

公开(公告)日：2012-10-18

申请号：US13501650

申请日：2010-10-07

申请人： Junichi Ito ,  Yuki Mizukawa ,  Yoshiharu Yabuki ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Yushi Kaneko ,  Akiyoshi Goto

发明人： Junichi Ito ,  Yuki Mizukawa ,  Yoshiharu Yabuki ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Yushi Kaneko ,  Akiyoshi Goto

IPC分类号： C07F3/06 ,  G03F1/54

CPC分类号： C09D11/101 ,  C09B57/10 ,  C09B69/109 ,  C09D11/322 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/105 ,  G03F7/40

摘要： The invention provides a colored curable composition including a dipyrromethene compound having a structure in which a polymerizable group and a carboxyl group are introduced in the same molecule, a resist liquid, an ink for inkjet printing, a color filter, a method of producing a color filter, a solid-state image sensor, a liquid crystal display, an organic EL display, an image display device and a colorant compound.

摘要翻译： 本发明提供一种着色固化性组合物，其包含具有将聚合性基团和羧基引入同一分子的结构的二吡咯亚甲基化合物，抗蚀剂液体，喷墨印刷用油墨，滤色器，颜色的制造方法 滤光片，固态图像传感器，液晶显示器，有机EL显示器，图像显示装置和着色剂化合物。

公开(公告)号：US20120187351A1

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：US13498885

申请日：2010-09-28

申请人： Junichi Ito ,  Masaru Yoshikawa ,  Yuki Mizukawa ,  Kenta Ushijima ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Yoshihiko Fujie ,  Akiyoshi Goto ,  Yushi Kaneko ,  Hiroaki Idei

发明人： Junichi Ito ,  Masaru Yoshikawa ,  Yuki Mizukawa ,  Kenta Ushijima ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Yoshihiko Fujie ,  Akiyoshi Goto ,  Yushi Kaneko ,  Hiroaki Idei

IPC分类号： G02B5/23 ,  G03F7/028 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  C07F3/06 ,  G03F7/20

CPC分类号： C08F2/50 ,  C08F220/36 ,  C08F220/60 ,  C09B23/04 ,  C09B57/10 ,  C09B69/108 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1408 ,  C09K2211/188 ,  G02B5/22 ,  G02F1/133516 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/105 ,  H01L27/322 ,  H05B33/12

摘要： A colorant multimer includes, as a partial structure of a colorant moiety, a dipyrromethene metal complex compound or tautomer thereof obtained from: (i) a dipyrromethene compound represented by the following Formula (M); and (ii) a metal or a metal compound: wherein in Formula (M), R4, R5, R6, R7, R8, R9, and R10 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent.

摘要翻译： 着色剂多聚体包括作为着色剂部分的部分结构的二吡咯亚甲基金属络合物或其互变异构体，其由以下物质获得：（i）由下式（M）表示的二吡咯亚甲基化合物; 和（ii）金属或金属化合物：其中在式（M）中，R 4，R 5，R 6，R 7，R 8，R 9和R 10各自独立地表示氢原子或一价取代基。

公开(公告)号：US08062826B2

公开(公告)日：2011-11-22

申请号：US12058223

申请日：2008-03-28

申请人： Shinichi Kanna

发明人： Shinichi Kanna

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition includes: (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developing solution by the action of an acid, including: (a1) a repeating unit selected from repeating units represented by specific formulae (a1-1) to (a1-3); (a2) a repeating unit represented by a specific formula (a2); and (a3) a repeating unit selected from repeating units represented by specific formulae (a3-1) to (a3-4); (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic ray or radiation, (C) a resin including: at least one of a fluorine atom and a silicon atom; and a group selected from specific groups (x) to (z):(x) an alkali-soluble group, (y) a group capable of decomposing by the action of an alkali developing solution to increase the solubility in the alkali developing solution, and (z) a group capable of decomposing by the action of an acid; and (D) a solvent.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包括：（A）能够通过酸的作用增加在碱性显影液中的溶解度的树脂，其包括：（a1）选自由特定式（a1-1）至 （a1-3）; （a2）由特定式（a2）表示的重复单元; 和（a3）选自由特定式（a3-1）〜（a3-4）表示的重复单元的重复单元; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，（C）含有氟原子和硅原子中的至少一种的树脂; 和选自碱溶性基团（x）〜（z）:( x）中的基团，（y）能够通过碱性显影液的作用分解以提高在碱性显影液中的溶解度的基团， 和（z）能够通过酸的作用分解的基团; 和（D）溶剂。