公开(公告)号：US09250531B2

公开(公告)日：2016-02-02

申请号：US14003708

申请日：2012-03-07

申请人： Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki ,  Daiju Shiono ,  Kenri Konno ,  Isamu Takagi

发明人： Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki ,  Daiju Shiono ,  Kenri Konno ,  Isamu Takagi

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  C08F220/24 ,  C08F224/00 ,  C08F226/02 ,  C08F228/06 ,  G03F7/32 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/325 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  C08F224/00 ,  C08F226/02 ,  C08F228/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A method of forming a resist pattern including: forming a resist film on a substrate using a resist composition containing a base component (A) which exhibits decreased solubility in an organic solvent by action of an acid; exposing the resist film; and patterning by a negative-tone development using a developing solution containing the organic solvent, wherein the base component (A) contains a resin component (A1) having a structural unit (a0) which generates acid upon exposure and a structural unit (a1) derived from an acrylate ester which may have the hydrogen atom bonded to the carbon atom on the α-position substituted with a substituent and contains an acid decomposable group which exhibits increased polarity by the action of acid, and the developing solution contains a nitrile solvent.

摘要翻译： 一种形成抗蚀剂图案的方法，包括：使用含有通过酸作用在有机溶剂中溶解度降低的基础组分（A）的抗蚀剂组合物在基材上形成抗蚀剂膜; 曝光抗蚀膜; 以及使用含有有机溶剂的显影液进行负色发展的图案化，其中，所述基材（A）含有具有曝光时产生酸的结构单元（a0）的树脂成分（A1）和结构单元（a1） 衍生自可以具有与被取代基取代的在α-位上的碳原子键合的氢原子的丙烯酸酯，并且含有通过酸作用显示出极性增加的酸分解基团，显影液含有腈溶剂。

公开(公告)号：US20120308928A1

公开(公告)日：2012-12-06

申请号：US13477516

申请日：2012-05-22

申请人： Tomoyuki Hirano ,  Daiju Shiono ,  Daichi Takaki ,  Junichi Tsuchiya

发明人： Tomoyuki Hirano ,  Daiju Shiono ,  Daichi Takaki ,  Junichi Tsuchiya

IPC分类号： C08F228/06 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： C08F220/32 ,  C08F220/58 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/107 ,  Y10S430/111 ,  C08F220/28 ,  C08F2220/585 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20

摘要： A resist composition including a base component (A) that exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, wherein the base component (A) contains a resin component (A1) including a structural unit (a0) represented by general formula (a0-1) shown below and a structural unit (a1)) containing an acid decomposable group that exhibits increased polarity under action of acid, and the amount of the structural unit (a0) is less than 50 mol %, wherein R represents a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group of 1 to 5 carbon atoms; R1 represents a divalent linking group; R2 represents a —SO2— containing cyclic group; and v represents 0 or 1.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸作用下显影溶液中溶解度变差的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂成分（B），其中，所述基材（A）含有树脂成分（A1） （a0）表示的结构单元（a0）和结构单元（a1）），其含有在酸作用下显示出极性增加的酸分解基团，结构单元（a0） 小于50摩尔％，其中R表示氢原子，1至5个碳原子的烷基或1至5个碳原子的卤代烷基; R1表示二价连接基团; R2表示含-SO2-的环状基团; v表示0或1。

公开(公告)号：US08450044B2

公开(公告)日：2013-05-28

申请号：US12945526

申请日：2010-11-12

申请人： Tomoyuki Hirano ,  Daiju Shiono ,  Daichi Takaki

发明人： Tomoyuki Hirano ,  Daiju Shiono ,  Daichi Takaki

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A positive resist composition including a resin component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under the action of acid and an acid-generator component (B), the resin component (A) including a polymeric compound (A1) having a structural unit (a1) containing an acid dissociable, dissolution inhibiting group, a structural unit (a5) containing a base dissociable group an a structural unit (a6) represented by general formula (a6-1) (R represents a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group of 1 to 5 carbon atoms; each of R2 and R3 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group that may contain an oxygen atom at an arbitrary position, or R2 and R3 are bonded together to form an alkylene group; and W represents a cyclic alkylene group that may include an oxygen atom at an arbitrary position).

摘要翻译： 一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸和酸发生剂组分（B）的作用下在碱性显影液中显示增加的溶解性的树脂组分（A），所述树脂组分（A）包含具有 含有酸解离性溶解抑制基团的结构单元（a1），含有碱解离基团的结构单元（a5），由通式（a6-1）表示的结构单元（a6）（R表示氢原子，烷基 1至5个碳原子的基团或1至5个碳原子的卤代烷基; R 2和R 3各自独立地表示可以在任意位置含有氧原子的氢原子或烷基，或者R 2和R 3键合 一起形成亚烷基; W表示可以在任意位置包含氧原子的环状亚烷基。

公开(公告)号：US08227170B2

公开(公告)日：2012-07-24

申请号：US12685579

申请日：2010-01-11

申请人： Takahiro Dazai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Tasuku Matsumiya ,  Daichi Takaki ,  Takayoshi Mori ,  Junichi Tsuchiya

发明人： Takahiro Dazai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Tasuku Matsumiya ,  Daichi Takaki ,  Takayoshi Mori ,  Junichi Tsuchiya

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C08F28/06 ,  C07D327/04

CPC分类号： C07D493/18 ,  C07D327/04 ,  C08F20/38 ,  C08F220/38 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of an acid, and an acid generator component (B), wherein the base component (A) includes a polymeric compound (A0) containing a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) shown below: (wherein, R1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogenated alkyl group; R2 represents a bivalent linking group containing at least one kind of polar groups selected from the group consisting of —O—, —C(═O)—, —C(═O)—O—, a carbonate linkage (—O—C(═O)—O—), —S—, —S(═O)2—, —S(═O)2—O—, —NH—, —NR04— (wherein, R04 represents an alkyl group or an acyl group), and —NH—C(═O)—; and R3 represents a cyclic group containing a sulfonyl group within the ring skeleton).

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸性作用下在碱性显影液中显示出改变的溶解度的碱成分（A）和酸产生剂成分（B），其中，所述基础成分（A）含有含有 由下述通式（a0-1）表示的结构单元（a0）：（其中，R1表示氢原子，烷基或卤代烷基; R2表示含有至少一种极性基团的二价连接基团 选自-O - ， - C（= O） - ， - C（= O）-O-，碳酸酯键（-O-C（= O）-O-），-S-， S（= O）2 - ， - S（= O）2 -O - ， - NH - ， - NRO4-（其中，R04表示烷基或酰基）和-NH-C（= R 3表示在环骨架中含有磺酰基的环状基团）。

公开(公告)号：US20120100487A1

公开(公告)日：2012-04-26

申请号：US13277061

申请日：2011-10-19

申请人： Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki ,  Daiju Shiono ,  Kenri Konno ,  Kensuke Matsuzawa ,  Jun Iwashita

发明人： Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki ,  Daiju Shiono ,  Kenri Konno ,  Kensuke Matsuzawa ,  Jun Iwashita

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08F228/02 ,  C08F228/06

CPC分类号： C08F220/38 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： A resist composition including a base component that generates acid upon exposure and also exhibits increased polarity by action of acid, the base component including a polymeric compound having a structural unit that generates acid upon exposure; a structural unit derived from an acrylate ester, in which a hydrogen atom bonded to a carbon atom on the α-position may be substituted with a substituent, and also includes an acid decomposable group that exhibits increased polarity by action of acid; and a structural unit represented by a particular general formula.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在暴露时产生酸的基础成分，并且还通过酸的作用显示出极性增加，所述碱成分包括具有暴露后产生酸的结构单元的聚合物; 衍生自丙烯酸酯的结构单元，其中与α-位上的碳原子键合的氢原子可以被取代基取代，并且还包括通过酸的作用显示出极性增加的酸分解基团; 和由特定通式表示的结构单元。

公开(公告)号：US20100178609A1

公开(公告)日：2010-07-15

申请号：US12685579

申请日：2010-01-11

申请人： Takahiro Dazai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Tasuku Matsumiya ,  Daichi Takaki ,  Takayoshi Mori ,  Junichi Tsuchiya

发明人： Takahiro Dazai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Tasuku Matsumiya ,  Daichi Takaki ,  Takayoshi Mori ,  Junichi Tsuchiya

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C08F28/06 ,  C07D327/04

CPC分类号： C07D493/18 ,  C07D327/04 ,  C08F20/38 ,  C08F220/38 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of an acid, and an acid generator component (B), wherein the base component (A) includes a polymeric compound (A0) containing a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) shown below: (wherein, R1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogenated alkyl group; R2 represents a bivalent linking group containing at least one kind of polar groups selected from the group consisting of —O—, —C(═O)—, —C(═O)—O—, a carbonate linkage (—O—C(═O)—O—), —S—, —S(═O)2—, —S(═O)2—O—, —NH—, —NR04— (wherein, R04 represents an alkyl group or an acyl group), and —NH—C(═O)—; and R3 represents a cyclic group containing a sulfonyl group within the ring skeleton).

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸性作用下在碱性显影液中显示出改变的溶解度的碱成分（A）和酸产生剂成分（B），其中，所述基础成分（A）含有含有 由下述通式（a0-1）表示的结构单元（a0）：（其中，R1表示氢原子，烷基或卤代烷基; R2表示含有至少一种极性基团的二价连接基团 选自-O - ， - C（= O） - ， - C（= O）-O-，碳酸酯键（-O-C（= O）-O-），-S-， S（= O）2 - ， - S（= O）2 -O - ， - NH - ， - NRO4-（其中，R04表示烷基或酰基）和-NH-C（= R 3表示在环骨架中含有磺酰基的环状基团）。

公开(公告)号：US08735045B2

公开(公告)日：2014-05-27

申请号：US12911411

申请日：2010-10-25

申请人： Tomoyuki Hirano ,  Daiju Shiono ,  Daichi Takaki

发明人： Tomoyuki Hirano ,  Daiju Shiono ,  Daichi Takaki

IPC分类号： G03F7/00 ,  C08F228/02 ,  C08F226/02 ,  C08F220/10

CPC分类号： C08F20/18 ,  C08F128/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A positive resist composition including a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the base component (A) including a polymeric compound (A1) containing a structural unit (a0) represented by general formula (a0-1) shown below and a structural unit (a1) derived from an acrylate ester containing an acid dissociable, dissolution inhibiting group.

摘要翻译： 一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中显示出增加的溶解度的碱成分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂组分（B），所述碱成分（A）包含高分子化合物 A1），其含有由下述通式（a0-1）表示的结构单元（a0）和由含有酸解离的溶解抑制基团的丙烯酸酯衍生的结构单元（a1）。

公开(公告)号：US08658343B2

公开(公告)日：2014-02-25

申请号：US13373965

申请日：2011-12-05

申请人： Masatoshi Arai ,  Junichi Tsuchiya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki

发明人： Masatoshi Arai ,  Junichi Tsuchiya ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under the action of acid, and an acid generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein the base component (A) contains a polymeric compound (A1) having a structural unit (a5) represented by general formula (a5-1). In formula (a5-1), R represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogenated alkyl group, X represents single bond or divalent linking group, W represents a cyclic alkylene group which may include an oxygen atom at arbitrary position, each of Ra and Rb independently represents a hydrogen atom or an alkyl group which may include an oxygen atom at arbitrary position, or alternatively, Ra and Rb may be bonded to each other to form a ring together with the nitrogen atom in the formula, and p represents integer of 1 to 3.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在显影溶液中显示出改变的溶解性的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸产生剂成分（B），其中，所述碱成分（A）含有高分子化合物 A1）具有由通式（a5-1）表示的结构单元（a5）。 式（a5-1）中，R表示氢原子，烷基或卤代烷基，X表示单键或二价连接基，W表示可以在任意位置含有氧原子的环状亚烷基， Ra和Rb独立地表示氢原子或可以在任意位置包含氧原子的烷基，或者Ra和Rb可以与式中的氮原子一起形成环，p表示 1〜3的整数。

公开(公告)号：US20140004467A1

公开(公告)日：2014-01-02

申请号：US14003708

申请日：2012-03-07

申请人： Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki ,  Daiju Shiono ,  Kenri Konno ,  Isamu Takagi

发明人： Tomoyuki Hirano ,  Daichi Takaki ,  Daiju Shiono ,  Kenri Konno ,  Isamu Takagi

IPC分类号： G03F7/32

CPC分类号： G03F7/325 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  C08F224/00 ,  C08F226/02 ,  C08F228/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A method of forming a resist pattern including: forming a resist film on a substrate using a resist composition containing a base component (A) which exhibits decreased solubility in an organic solvent by action of an acid; exposing the resist film; and patterning by a negative-tone development using a developing solution containing the organic solvent, wherein the base component (A) contains a resin component (A1) having a structural unit (a0) which generates acid upon exposure and a structural unit (a1) derived from an acrylate ester which may have the hydrogen atom bonded to the carbon atom on the α-position substituted with a substituent and contains an acid decomposable group which exhibits increased polarity by the action of acid, and the developing solution contains a nitrile solvent.

摘要翻译： 一种形成抗蚀剂图案的方法，包括：使用含有通过酸作用在有机溶剂中溶解度降低的基础组分（A）的抗蚀剂组合物在基材上形成抗蚀剂膜; 曝光抗蚀膜; 以及使用含有有机溶剂的显影液进行负色发展的图案化，其中，所述基材（A）含有具有曝光时产生酸的结构单元（a0）的树脂成分（A1）和结构单元（a1） 衍生自可以具有与被取代基取代的在α位上的碳原子键合的氢原子的丙烯酸酯，并且含有通过酸作用显示出极性增加的酸分解基团，显影液含有腈溶剂。

公开(公告)号：US08927191B2

公开(公告)日：2015-01-06

申请号：US13351716

申请日：2012-01-17

申请人： Junichi Tsuchiya ,  Daichi Takaki ,  Masatoshi Arai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano

发明人： Junichi Tsuchiya ,  Daichi Takaki ,  Masatoshi Arai ,  Daiju Shiono ,  Tomoyuki Hirano

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F226/06

CPC分类号： C08F226/06 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein the base component (A) includes a polymeric compound (A1) having a structural unit (a5) represented by general formula (a5-1). In the formula (a5-1), R represents a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group of 1 to 5 carbon atoms; each of Ra and Rb independently represents a hydrocarbon group which may have a substituent, and Ra and Rb may be mutually bonded to form a ring.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸作用下在显影液中溶解性变差的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂成分（B），其中，所述碱成分（A）含有高分子化合物 ）具有由通式（a5-1）表示的结构单元（a5）。 在式（a5-1）中，R表示氢原子，1〜5个碳原子的烷基或1〜5个碳原子的卤代烷基; Ra和Rb各自独立地表示可以具有取代基的烃基，Ra和Rb可以相互键合形成环。