公开(公告)号：US08226924B2

公开(公告)日：2012-07-24

申请号：US12542852

申请日：2009-08-18

申请人： Hitoshi Morinaga ,  Muneaki Tahara ,  Keiji Ashitaka

发明人： Hitoshi Morinaga ,  Muneaki Tahara ,  Keiji Ashitaka

IPC分类号： C01F7/02

CPC分类号： C01F7/448 ,  C01F7/02 ,  C01P2004/30 ,  C01P2004/38 ,  C01P2004/39 ,  C01P2004/54 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C09K3/1409

摘要： A method for producing boehmite particles includes subjecting powder of aluminum hydroxide to hydrothermal reaction together with a nucleation agent, thereby obtaining boehmite particles having an average primary particle size of 0.6 μm or less and including primary particles each having a hexahedral shape. A method for producing alumina particles includes: drying the boehmite particles produced by the above described method; calcining the boehmite particles, which have been dried, to obtain alumina particles; and disintegrating the obtained alumina particles.

摘要翻译： 勃姆石粒子的制造方法包括将氢氧化铝粉末与成核剂一起进行水热反应，得到平均一次粒径为0.6μm以下的勃姆石粒子，并且包含各自具有六面体形状的一次粒子。 一种生产氧化铝颗粒的方法包括：干燥由上述方法生产的勃姆石颗粒; 煅烧已经干燥的勃姆石颗粒，得到氧化铝颗粒; 并使得到的氧化铝颗粒分解。

公开(公告)号：US09157011B2

公开(公告)日：2015-10-13

申请号：US13818554

申请日：2011-08-25

申请人： Keiji Ashitaka ,  Hitoshi Morinaga ,  Muneaki Tahara

发明人： Keiji Ashitaka ,  Hitoshi Morinaga ,  Muneaki Tahara

IPC分类号： C09G1/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/02 ,  H01L21/3105 ,  B24D3/02 ,  C09C1/68

CPC分类号： C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/02024 ,  H01L21/31053

摘要： A polishing composition contains colloidal silica. The colloidal silica satisfies the expression A×D×E×F≧350,000 where “A” denotes the average aspect ratio (dimensionless) of the colloidal silica, “D” denotes the average particle diameter (units: nm) of the colloidal silica, “E” denotes the standard deviation of the particle size (units: nm) of the colloidal silica, and “F” denotes the volume fraction (units: %) of particles having a diameter of 1 to 300 nm in the colloidal silica. The volume fraction of particles having a diameter of 1 to 300 nm in the colloidal silica is 90% or greater.

摘要翻译： 抛光组合物含有胶体二氧化硅。 胶体二氧化硅满足A×D×E×F≥350,000的表达式，其中“A”表示胶体二氧化硅的平均纵横比（无量纲），“D”表示胶体二氧化硅的平均粒径（单位：nm） “E”表示胶体二氧化硅的粒径（单位：nm）的标准偏差，“F”表示胶体二氧化硅中直径为1〜300nm的粒子的体积分数（单位：％）。 胶体二氧化硅中直径为1〜300nm的粒子的体积分率为90％以上。

公开(公告)号：US20130205682A1

公开(公告)日：2013-08-15

申请号：US13818554

申请日：2011-08-25

申请人： Keiji Ashitaka ,  Hitoshi Morinaga ,  Muneaki Tahara

发明人： Keiji Ashitaka ,  Hitoshi Morinaga ,  Muneaki Tahara

IPC分类号： C09G1/02

CPC分类号： C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/02024 ,  H01L21/31053

摘要： A polishing composition contains colloidal silica. The colloidal silica satisfies the expression A×D×E×F≧350,000 where “A” denotes the average aspect ratio (dimensionless) of the colloidal silica, “D” denotes the average particle diameter (units: nm) of the colloidal silica, “E” denotes the standard deviation of the particle size (units: nm) of the colloidal silica, and “F” denotes the volume fraction (units: %) of particles having a diameter of 1 to 300 nm in the colloidal silica. The volume fraction of particles having a diameter of 1 to 300 nm in the colloidal silica is 90% or greater.

摘要翻译： 抛光组合物含有胶体二氧化硅。 胶体二氧化硅满足A×D×E×F> = 350,000的表达式，其中“A”表示胶态二氧化硅的平均纵横比（无量纲），“D”表示胶体二氧化硅的平均粒径（单位：nm） ，“E”表示胶体二氧化硅的粒径（单位：nm）的标准偏差，“F”表示胶体二氧化硅中直径为1〜300nm的粒子的体积分数（单位：％）。 胶体二氧化硅中直径为1〜300nm的粒子的体积分率为90％以上。

公开(公告)号：US20100040536A1

公开(公告)日：2010-02-18

申请号：US12542852

申请日：2009-08-18

申请人： Hitoshi Morinaga ,  Muneaki Tahara ,  Keiji Ashitaka

发明人： Hitoshi Morinaga ,  Muneaki Tahara ,  Keiji Ashitaka

IPC分类号： C01F7/38 ,  C01F7/02

CPC分类号： C01F7/448 ,  C01F7/02 ,  C01P2004/30 ,  C01P2004/38 ,  C01P2004/39 ,  C01P2004/54 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C09K3/1409

摘要： A method for producing boehmite particles includes subjecting powder of aluminum hydroxide to hydrothermal reaction together with a nucleation agent, thereby obtaining boehmite particles having an average primary particle size of 0.6 μm or less and including primary particles each having a hexahedral shape. A method for producing alumina particles includes: drying the boehmite particles produced by the above described method; calcining the boehmite particles, which have been dried, to obtain alumina particles; and disintegrating the obtained alumina particles.

摘要翻译： 勃姆石粒子的制造方法包括将氢氧化铝粉末与成核剂一起进行水热反应，得到平均一次粒径为0.6μm以下的勃姆石粒子，并且包括各自具有六面体形状的一次粒子。 一种生产氧化铝颗粒的方法包括：干燥由上述方法生产的勃姆石颗粒; 煅烧已经干燥的勃姆石颗粒，得到氧化铝颗粒; 并使得到的氧化铝颗粒分解。

公开(公告)号：US20110258938A1

公开(公告)日：2011-10-27

申请号：US12997455

申请日：2009-06-12

申请人： Hitoshi Morinaga ,  Muneaki Tahara ,  Yasushi Matsunami

发明人： Hitoshi Morinaga ,  Muneaki Tahara ,  Yasushi Matsunami

IPC分类号： C09G1/02 ,  C09K3/14

CPC分类号： B24D3/00 ,  C01F7/02 ,  C01F7/441 ,  C01P2004/03 ,  C01P2004/38 ,  C01P2004/39 ,  C01P2004/45 ,  C01P2004/52 ,  C01P2004/54 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C09K3/1409 ,  Y10T428/2982

摘要： Aluminum oxide particles are provided that include primary particles each having a hexahedral shape and an aspect ratio of 1 to 5. The aluminum oxide particles preferably have an average primary particle size of 0.01 to 0.6 μm. The aluminum oxide particles preferably have an alpha conversion rate of 5 to 70%. Further, the aluminum oxide particles preferably have an average secondary particle size of 0.01 to 2 μm, and the value obtained by dividing the 90% particle size of the aluminum oxide particles by the 10% particle size of the aluminum oxide particles is preferably 3 or less. The aluminum oxide particles are used, for example, as abrasive grains in the applications of polishing semiconductor device substrates, hard disk substrates, or display substrates.

摘要翻译： 提供氧化铝颗粒，其包括各自具有六面体形状和长宽比为1至5的一次颗粒。氧化铝颗粒的平均一次粒径优选为0.01至0.6μm。 优选氧化铝粒子的α转化率为5〜70％。 此外，氧化铝粒子的平均二次粒径优选为0.01〜2μ​​m，通过将氧化铝粒子的90％粒径除以氧化铝粒子的10％粒径而得到的值优选为3或 减。 氧化铝粒子例如在研磨半导体器件基板，硬盘基板或显示基板的应用中用作磨粒。

公开(公告)号：US09028574B2

公开(公告)日：2015-05-12

申请号：US13878362

申请日：2011-10-06

申请人： Keiji Ashitaka ,  Hitoshi Morinaga ,  Akihito Yasui

发明人： Keiji Ashitaka ,  Hitoshi Morinaga ,  Akihito Yasui

IPC分类号： C09K3/14 ,  C09G1/02 ,  H01L21/3105

CPC分类号： C09K3/1409 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

摘要： A polishing composition contains colloidal silica particles having protrusions on the surfaces thereof. The average of values respectively obtained by dividing the height of a protrusion on the surface of each particle belonging to the part of the colloidal silica particles that has larger particle diameters than the volume average particle diameter of the colloidal silica particles by the width of a base portion of the same protrusion is no less than 0.245. Preferably, the part of the colloidal silica particles that has larger particle diameter than the volume average particle diameter of the colloidal silica particles has an average aspect ratio of no less than 1.15. Preferably, the protrusions on the surfaces of particles belonging to the part of the colloidal silica particles that has larger particle diameters than the volume average particle diameter of the colloidal silica particles have an average height of no less than 3.5 nm.

摘要翻译： 抛光组合物包含其表面上具有突起的胶体二氧化硅颗粒。 分别通过将属于粒径比胶体二氧化硅粒子的体积平均粒径大的胶体二氧化硅粒子的一部分的粒子的表面上的突起的高度除以碱的宽度而得到的值的平均值 相同突起的部分不小于0.245。 优选地，粒径比胶体二氧化硅粒子的体积平均粒径大的胶态二氧化硅粒子的平均长径比优选为1.15以上。 优选地，粒径比胶态二氧化硅粒子的体积平均粒径大的胶体二氧化硅粒子的粒子的表面上的突起的平均高度优选为3.5nm以上。

公开(公告)号：US20130199106A1

公开(公告)日：2013-08-08

申请号：US13878362

申请日：2011-10-06

申请人： Keiji Ashitaka ,  Hitoshi Morinaga ,  Akihito Yasui

发明人： Keiji Ashitaka ,  Hitoshi Morinaga ,  Akihito Yasui

IPC分类号： C09K3/14

CPC分类号： C09K3/1409 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

摘要： A polishing composition contains colloidal silica particles having protrusions on the surfaces thereof. The average of values respectively obtained by dividing the height of a protrusion on the surface of each particle belonging to the part of the colloidal silica particles that has larger particle diameters than the volume average particle diameter of the colloidal silica particles by the width of a base portion of the same protrusion is no less than 0.245. Preferably, the part of the colloidal silica particles that has larger particle diameter than the volume average particle diameter of the colloidal silica particles has an average aspect ratio of no less than 1.15. Preferably, the protrusions on the surfaces of particles belonging to the part of the colloidal silica particles that has larger particle diameters than the volume average particle diameter of the colloidal silica particles have an average height of no less than 3.5 nm.

摘要翻译： 抛光组合物包含其表面上具有突起的胶体二氧化硅颗粒。 分别通过将属于粒径比胶体二氧化硅粒子的体积平均粒径大的胶体二氧化硅粒子的一部分的粒子的表面上的突起的高度除以碱的宽度而得到的值的平均值 相同突起的部分不小于0.245。 优选地，粒径比胶体二氧化硅粒子的体积平均粒径大的胶态二氧化硅粒子的平均长径比优选为1.15以上。 优选地，粒径比胶态二氧化硅粒子的体积平均粒径大的胶体二氧化硅粒子的粒子的表面上的突起的平均高度优选为3.5nm以上。

公开(公告)号：US20130181159A1

公开(公告)日：2013-07-18

申请号：US13824778

申请日：2011-09-23

申请人： Kohsuke Tsuchiya ,  Hitoshi Morinaga ,  Noboru Yasufuku ,  Shuhei Takahashi ,  Tomohiro Imao

发明人： Kohsuke Tsuchiya ,  Hitoshi Morinaga ,  Noboru Yasufuku ,  Shuhei Takahashi ,  Tomohiro Imao

IPC分类号： C09K13/00 ,  C11D1/825

CPC分类号： C09K13/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  C11D1/72 ,  C11D1/722 ,  C11D1/825 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02024 ,  H01L21/02052

摘要： A surface treatment composition of the present invention contains a first surfactant, a second surfactant, a basic compound, and water. The surface treatment composition has a pH of 8 or more. The second surfactant has a weight-average molecular weight one-half or less that of the first surfactant. The sum of the content of the first surfactant and the content of the second surfactant is 0.00001 to 0.1% by mass.

摘要翻译： 本发明的表面处理组合物含有第一表面活性剂，第二表面活性剂，碱性化合物和水。 表面处理组合物的pH为8以上。 第二表面活性剂的重均分子量为第一表面活性剂的二分之一以下。 第一表面活性剂的含量和第二表面活性剂的含量之和为0.00001〜0.1质量％。

公开(公告)号：US20130134107A1

公开(公告)日：2013-05-30

申请号：US13581922

申请日：2011-02-23

申请人： Hitoshi Morinaga ,  Hiroyasu Sugiyama ,  Naoya Miwa

发明人： Hitoshi Morinaga ,  Hiroyasu Sugiyama ,  Naoya Miwa

IPC分类号： B01D37/00

CPC分类号： B01D37/00 ,  B01D2239/0428 ,  B01D2239/0618 ,  B24B57/02

摘要： Disclosed is a filtration method that extends filter life and achieves high filtration efficiency, and also abrasive slurry produced by the method. In this filtration method, deaired solvent is passed through a filter before a non-deaired liquid is filtered by the filter, after which the filter is used for filtering.

摘要翻译： 公开了一种延长过滤器寿命并实现高过滤效率的过滤方法，以及通过该方法生产的磨料浆料。 在这种过滤方法中，在使用过滤器过滤未经过干燥的液体之前，将经过过滤的溶剂通过过滤器，然后过滤。

公开(公告)号：US20120329284A1

公开(公告)日：2012-12-27

申请号：US13601157

申请日：2012-08-31

申请人： Tadahiro Ohmi ,  Hitoshi Morinaga

发明人： Tadahiro Ohmi ,  Hitoshi Morinaga

IPC分类号： H01L21/306

CPC分类号： H01L21/02052 ,  H01L21/02074

摘要： Surface treatment is performed with a liquid, while shielding a semiconductor surface from light. When the method is employed for surface treatment in wet processes such as cleaning, etching and development of the semiconductor surface, increase of surface microroughness can be reduced. Thus, electrical characteristics and yield of the semiconductor device are improved.

摘要翻译： 用液体进行表面处理，同时将半导体表面从光屏蔽。 当在诸如清洁，蚀刻和半导体表面的显影的湿法中使用该方法进行表面处理时，可以降低表面微粗糙度的增加。 因此，提高了半导体器件的电特性和产量。