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    Method for forming pattern
    4.
    发明授权
    Method for forming pattern 有权
    形成图案的方法

    公开(公告)号：US08808974B2

    公开(公告)日：2014-08-19

    申请号：US13769907

    申请日：2013-02-19

    申请人： JSR Corporation

    发明人： Yukio Nishimura ,  Kaori Sakai ,  Nobuji Matsumura ,  Makoto Sugiura ,  Atsushi Nakamura ,  Gouji Wakamatsu ,  Yuusuke Anno

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  G03F7/00 ,  G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/0035 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2024 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/40

    摘要： A method for forming a pattern includes providing a first positive-working radiation-sensitive resin composition on a substrate to form a first resist layer. The first positive-working radiation-sensitive resin composition includes a crosslinking agent, a polymer containing an acid-unstable group and not containing a crosslinking group, a radiation-sensitive acid generator, and a solvent. The first resist layer is exposed selectively to radiation, and developed to form a first resist pattern. The first resist pattern is made inactive to radiation, or insolubilized in an alkaline developer or in a second positive-working radiation-sensitive resin composition. The second positive-working radiation-sensitive resin composition is provided on the substrate to form a second resist layer. The second resist layer is exposed selectively to radiation, and developed to form a second resist pattern in the space area of the first resist pattern.

    摘要翻译： 形成图案的方法包括在基板上提供第一正性辐射敏感树脂组合物以形成第一抗蚀剂层。 第一正性辐射敏感性树脂组合物包含交联剂，含有酸不稳定基团并且不含交联基团的聚合物，辐射敏感性酸产生剂和溶剂。 第一抗蚀剂层选择性地暴露于辐射，并显影以形成第一抗蚀剂图案。 第一抗蚀剂图案对辐射无活性，或在碱性显影剂或第二正性辐射敏感树脂组合物中不溶化。 第二正性辐射敏感性树脂组合物设置在基板上以形成第二抗蚀剂层。 第二抗蚀剂层选择性地暴露于辐射，并显影以在第一抗蚀剂图案的空间区域中形成第二抗蚀剂图案。

    Composition for forming upper layer film for immersion exposure, upper layer film for immersion exposure, and method of forming photoresist pattern
    5.
    发明授权
    Composition for forming upper layer film for immersion exposure, upper layer film for immersion exposure, and method of forming photoresist pattern 有权
    用于形成用于浸渍曝光的上层膜的组合物，用于浸渍曝光的上层膜，以及形成光致抗蚀剂图案的方法

    公开(公告)号：US08697344B2

    公开(公告)日：2014-04-15

    申请号：US13854214

    申请日：2013-04-01

    申请人： JSR Corporation

    发明人： Daita Kouno ,  Norihiko Sugie ,  Gouji Wakamatsu ,  Norihiro Natsume ,  Yukio Nishimura ,  Makoto Sugiura

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/11

    CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/2041

    摘要： A composition for forming an upper layer film includes a solvent and a resin component including a first resin having a first repeating unit and a second repeating unit. The first repeating unit is a repeating unit represented by a formula (1-1), a repeating unit represented by a formula (1-2), a repeating unit represented by a formula (1-3), or a combination thereof. The second repeating unit is a repeating unit represented by a formula (2-1), a repeating unit represented by a formula (2-2), or both thereof. The composition is to be used for forming the upper layer film in liquid immersion lithography.

    摘要翻译： 用于形成上层膜的组合物包括溶剂和包含具有第一重复单元和第二重复单元的第一树脂的树脂组分。 第一重复单元是由式（1-1）表示的重复单元，由式（1-2）表示的重复单元，由式（1-3）表示的重复单元或其组合。 第二重复单元是由式（2-1）表示的重复单元，由式（2-2）表示的重复单元或它们两者。 该组合物用于在液浸光刻中形成上层膜。

    UPPER LAYER-FORMING COMPOSITION AND RESIST PATTERNING METHOD
    8.
    发明申请
    UPPER LAYER-FORMING COMPOSITION AND RESIST PATTERNING METHOD 审中-公开
    上层成型和电阻图案方法

    公开(公告)号：US20160109801A1

    公开(公告)日：2016-04-21

    申请号：US14978672

    申请日：2015-12-22

    申请人： JSR Corporation

    发明人： Takahiro Hayama ,  Kazunori Kusabiraki ,  Yukio Nishimura ,  Ken Maruyama ,  Kiyoshi Tanaka

    IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/30 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    摘要： A liquid immersion lithography upper-layer film-forming composition includes (A) a polymer that includes a structural unit (I) shown by the following formula (1), and (S) a solvent. R1 in the formula (1) represents a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group. The polymer (A) preferably further includes a structural unit (II) that includes a sulfo group. The polymer (A) preferably further includes a structural unit (III) shown by the following formula (3). R2 in the formula (3) represents a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group. R3 represents a linear or branched monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or a monovalent alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, provided that at least one hydrogen atom of the hydrocarbon group or the alicyclic group is substituted with a fluorine atom.

    摘要翻译： 液浸光刻上层成膜组合物包含（A）包含下式（1）所示的结构单元（I）的聚合物和（S）溶剂。 式（1）中的R 1表示氢原子，甲基或三氟甲基。 聚合物（A）优选还包括包含磺基的结构单元（II）。 聚合物（A）优选还包含由下式（3）表示的结构单元（III）。 式（3）中的R 2表示氢原子，甲基或三氟甲基。 R 3表示碳原子数1〜12的直链或支链一价烃基或碳原子数3〜20的一价脂环式基，其中烃基或脂环族基中的至少一个氢原子被氟原子取代。

    Fluorine-containing polymer, purification method, and radiation-sensitive resin composition
    10.
    发明授权
    Fluorine-containing polymer, purification method, and radiation-sensitive resin composition 有权
    含氟聚合物，净化方法和辐射敏感树脂组合物

    公开(公告)号：US09500950B2

    公开(公告)日：2016-11-22

    申请号：US14933641

    申请日：2015-11-05

    申请人： JSR CORPORATION

    发明人： Hiroki Nakagawa ,  Hiromitsu Nakashima ,  Gouji Wakamatsu ,  Kentarou Gotou ,  Yukio Nishimura ,  Takeo Shioya

    IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

    摘要： An object of the present invention is to provide a novel fluorine-containing polymer, a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion lithography which contains the fluorine-containing polymer, which leads to a pattern having an excellent shape and excellent depth of focus, wherein the amount of an eluted component in a liquid for liquid immersion lithography such as water that comes in contact with the resist during exposure in liquid immersion lithography is little, and which provides a larger receding contact angle between the resist film and the liquid for liquid immersion lithography such as water, and a method for purifying the fluorine-containing polymer. The present resin composition comprises a novel fluorine-containing polymer (A) containing repeating units represented by the general formulae (1) and (2) and having Mw of 1,000-50,000, a resin (B) having an acid-unstable group, a radiation-sensitive acid generator (C), a nitrogen-containing compound (D) and a solvent (E).

    摘要翻译： 本发明的目的是提供一种含氟聚合物，其含有含氟聚合物的液浸光刻用的辐射敏感性树脂组合物，其导致具有优异形状和优异的焦深的图案，其中 在液浸光刻中曝光期间与抗蚀剂接触的液体浸液式液晶等液体中的洗脱组分的量很少，并且在抗蚀剂膜和用于液浸的液体之间提供较大的后退接触角 光刻法如水，以及纯化含氟聚合物的方法。 本发明的树脂组合物包含含有由通式（1）和（2）表示的重复单元并具有1,000-50,000的Mw的新的含氟聚合物（A），具有酸不稳定基团的树脂（B）， 辐射敏感性酸产生剂（C），含氮化合物（D）和溶剂（E）。