公开(公告)号：US06958038B2

公开(公告)日：2005-10-25

申请号：US09969935

申请日：2001-10-02

申请人： David Feng ,  Joseph Hirt

发明人： David Feng ,  Joseph Hirt

IPC分类号： A61B17/00 ,  A61B17/02 ,  A61B19/00

CPC分类号： A61B17/0293 ,  A61B90/50 ,  A61B2017/00424

摘要： The invention disclosed herein relates to a multipositional ratchet device for use in conjunction with a surgical retractor assembly. The ratchet device of the invention permits both independent and simultaneous adjustment of the longitudinal axial positioning of a retractor blade stem relative to the device as well as the vertical tilt position of the retractor blade. Furthermore, the device is structured with the adjustment tabs positioned to permit the aforementioned adjustments using continuously maintained finger contact on the tabs using a single hand. The device affords the user improved ergonomics and accuracy of use by virtue of its structural and functional features.

摘要翻译： 本文公开的本发明涉及一种与外科牵开器组合结合使用的多位棘轮装置。 本发明的棘轮装置允许独立和同时地调节牵开器叶片杆相对于装置的纵向轴向定位以及牵开器叶片的垂直倾斜位置。 此外，该装置被构造成具有这样的调节片，其被设置成允许使用单手在连接片上使用连续保持的手指接触来进行上述调节。 该设备通过其结构和功能特性为用户提供了改进的人体工程学和使用准确性。

公开(公告)号：US08743926B2

公开(公告)日：2014-06-03

申请号：US12853615

申请日：2010-08-10

申请人： Joseph Hirt ,  John Eiler

发明人： Joseph Hirt ,  John Eiler

IPC分类号： C03B5/027 ,  H05B3/60 ,  H05B7/06 ,  H05B7/08

CPC分类号： H05B3/03 ,  C03B5/027

摘要： In various embodiments, an electrode has a shaft extending from an electrode head and a cooling passage extending from an open end disposed at an attachment end of the shaft to a closed end disposed within the electrode head.

摘要翻译： 在各种实施例中，电极具有从电极头延伸的轴和从设置在轴的附接端处的开放端延伸到设置在电极头内的封闭端的冷却通道。

公开(公告)号：US20150136584A1

公开(公告)日：2015-05-21

申请号：US14608995

申请日：2015-01-29

申请人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Rong-chein Richard Wu ,  David G. Schwartz

发明人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Rong-chein Richard Wu ,  David G. Schwartz

IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C14/46 ,  C23C14/35

CPC分类号： C23C14/3414 ,  B22F1/0003 ,  B22F3/16 ,  B22F3/162 ,  B22F3/24 ,  B22F5/006 ,  B22F2003/248 ,  B22F2301/20 ,  B22F2998/00 ,  B22F2998/10 ,  C21D8/0221 ,  C21D8/0247 ,  C22C1/045 ,  C22C27/04 ,  C22F1/18 ,  C23C14/14 ,  C23C14/3478 ,  C23C14/3485 ,  C23C14/35 ,  C23C14/46 ,  B22F3/172 ,  B22F3/20 ,  B22F3/04 ,  B22F3/10

摘要： In various embodiments, tubular sputtering targets comprising molybdenum are provided and sputtered to produce thin films comprising molybdenum. The sputtering targets may be formed by forming a tubular billet having an inner diameter IDI and an outer diameter ODI, the formation comprising pressing molybdenum powder in a mold and sintering the pressed molybdenum powder, working the tubular billet to form a worked billet having an outer diameter ODf smaller than ODI, and heat treating the worked billet. The sputtering targets may have a substantially uniform texture of (a) a 110 orientation parallel to a longitudinal direction and (b) a 111 orientation parallel to a radial direction.

摘要翻译： 在各种实施例中，提供包含钼的管状溅射靶并溅射以产生包含钼的薄膜。 溅射靶可以通过形成具有内径IDI和外径ODI的管状坯料形成，所述管状坯料包括在模具中挤压钼粉末并烧结压制的钼粉末，对管坯进行加工以形成具有外径 直径ODf小于ODI，并对加工的坯料进行热处理。 溅射靶可以具有基本上均匀的织构（a）平行于纵向方向的110取向，和（b）平行于径向的111取向。

公开(公告)号：US09017600B2

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：US13849918

申请日：2013-03-25

申请人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Rong-chein Richard Wu ,  David G. Schwartz

发明人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Rong-chein Richard Wu ,  David G. Schwartz

IPC分类号： B22F3/12 ,  B22F3/24 ,  B22F3/20 ,  C22C27/04 ,  C23C14/34 ,  B22F3/16 ,  C22C1/04

CPC分类号： C23C14/3414 ,  B22F1/0003 ,  B22F3/16 ,  B22F3/162 ,  B22F3/24 ,  B22F5/006 ,  B22F2003/248 ,  B22F2301/20 ,  B22F2998/00 ,  B22F2998/10 ,  C21D8/0221 ,  C21D8/0247 ,  C22C1/045 ,  C22C27/04 ,  C22F1/18 ,  C23C14/14 ,  C23C14/3478 ,  C23C14/3485 ,  C23C14/35 ,  C23C14/46 ,  B22F3/172 ,  B22F3/20 ,  B22F3/04 ,  B22F3/10

摘要： In various embodiments, planar sputtering targets are produced by forming a billet at least by pressing molybdenum powder in a mold and sintering the pressed powder, working the billet to form a worked billet, heat treating the worked billet, working the worked billet to form a final billet, and heat treating the final billet.

摘要翻译： 在各种实施例中，平面溅射靶通过至少通过在模具中压制钼粉末并烧结压粉，加工坯料以形成加工的坯料，热处理加工的坯料，加工加工的坯料以形成 最终坯料，并对最终坯料进行热处理。

公开(公告)号：US20120039352A1

公开(公告)日：2012-02-16

申请号：US12853615

申请日：2010-08-10

申请人： Joseph Hirt ,  John Eiler

发明人： Joseph Hirt ,  John Eiler

IPC分类号： H05B3/03 ,  C03B5/027

CPC分类号： H05B3/03 ,  C03B5/027

摘要： An electrode comprises a shaft extending from an electrode head. A cooling passage extends from an open end disposed at an attachment end of the shaft to a closed end, which is disposed within the electrode head. The electrode head is formed to have approximately a teardrop shape, which may be formed according to a radial profile rotated about a centerline of the shaft, where the radial profile has a center disposed within the electrode head and on the centerline. The radial profile may exhibit a single maximum within a middle portion of the radial profile. Alternatively, or in addition, the middle portion of the radial profile may be negatively curved.

摘要翻译： 电极包括从电极头延伸的轴。 冷却通道从设置在轴的附接端处的开口端延伸到设置在电极头内的封闭端。 电极头形成为具有大致泪滴形状，其可以根据围绕轴的中心线旋转的径向轮廓形成，其中径向轮廓具有设置在电极头内部和中心线处的中心。 径向轮廓可以在径向轮廓的中间部分内呈现单一的最大值。 或者或另外，径向轮廓的中间部分可以是负弯曲的。

公开(公告)号：US09926623B2

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：US15061566

申请日：2016-03-04

申请人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Rong-chein Richard Wu ,  David G. Schwartz

发明人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Rong-chein Richard Wu ,  David G. Schwartz

IPC分类号： C23C14/34 ,  B22F3/16 ,  C22C1/04 ,  C22C27/04 ,  C23C14/35 ,  C23C14/46 ,  B22F1/00 ,  B22F5/00 ,  C21D8/02 ,  C22F1/18 ,  C23C14/14 ,  B22F3/24

CPC分类号： C23C14/3414 ,  B22F1/0003 ,  B22F3/16 ,  B22F3/162 ,  B22F3/24 ,  B22F5/006 ,  B22F2003/248 ,  B22F2301/20 ,  B22F2998/00 ,  B22F2998/10 ,  C21D8/0221 ,  C21D8/0247 ,  C22C1/045 ,  C22C27/04 ,  C22F1/18 ,  C23C14/14 ,  C23C14/3478 ,  C23C14/3485 ,  C23C14/35 ,  C23C14/46 ,  B22F3/172 ,  B22F3/20 ,  B22F3/04 ,  B22F3/10

摘要： In various embodiments, sputtering targets are formed by introducing molybdenum powder into a sheet bar mold, pressing the powder to form a sheet bar, sintering the sheet bar to form an ingot having a density of at least 90% of a theoretical density, preheating the ingot, rolling the ingot to form a plate, and heat treating the plate.

公开(公告)号：US20140286371A1

公开(公告)日：2014-09-25

申请号：US14259800

申请日：2014-04-23

申请人： Joseph Hirt ,  John Eiler

发明人： Joseph Hirt ,  John Eiler

IPC分类号： H05B3/03 ,  C03B5/027

CPC分类号： H05B3/03 ,  C03B5/027

摘要： An electrode comprises a shaft extending from an electrode head. A cooling passage extends from an open end disposed at an attachment end of the shaft to a closed end, which is disposed within the electrode head. The electrode head is formed to have approximately a teardrop shape, which may be formed according to a radial profile rotated about a centerline of the shaft, where the radial profile has a center disposed within the electrode head and on the centerline. The radial profile may exhibit a single maximum within a middle portion of the radial profile. Alternatively, or in addition, the middle portion of the radial profile may be negatively curved.

摘要翻译： 电极包括从电极头延伸的轴。 冷却通道从设置在轴的附接端处的开口端延伸到设置在电极头内的封闭端。 电极头形成为具有大致泪滴形状，其可以根据围绕轴的中心线旋转的径向轮廓形成，其中径向轮廓具有设置在电极头内部和中心线处的中心。 径向轮廓可以在径向轮廓的中间部分内呈现单一的最大值。 或者或另外，径向轮廓的中间部分可以是负弯曲的。

公开(公告)号：US20130224059A1

公开(公告)日：2013-08-29

申请号：US13849918

申请日：2013-03-25

申请人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Peter R. Jepson ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Rong-chein Richard Wu ,  David G. Schwarz

发明人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Peter R. Jepson ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Rong-chein Richard Wu ,  David G. Schwarz

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/3414 ,  B22F1/0003 ,  B22F3/16 ,  B22F3/162 ,  B22F3/24 ,  B22F5/006 ,  B22F2003/248 ,  B22F2301/20 ,  B22F2998/00 ,  B22F2998/10 ,  C21D8/0221 ,  C21D8/0247 ,  C22C1/045 ,  C22C27/04 ,  C22F1/18 ,  C23C14/14 ,  C23C14/3478 ,  C23C14/3485 ,  C23C14/35 ,  C23C14/46 ,  B22F3/172 ,  B22F3/20 ,  B22F3/04 ,  B22F3/10

摘要： In various embodiments, planar sputtering targets are produced by forming a billet at least by pressing molybdenum powder in a mold and sintering the pressed powder, working the billet to form a worked billet, heat treating the worked billet, working the worked billet to form a final billet, and heat treating the final billet.

摘要翻译： 在各种实施例中，平面溅射靶通过至少通过在模具中压制钼粉末并烧结压粉，加工坯料以形成加工的坯料，热处理加工的坯料，加工加工的坯料以形成 最终坯料，并对最终坯料进行热处理。

公开(公告)号：US08088232B2

公开(公告)日：2012-01-03

申请号：US11574469

申请日：2005-08-29

申请人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Peter R. Jepson ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Richard Wu ,  Davd G. Schwarz

发明人： Brad Lemon ,  Joseph Hirt ,  Timothy Welling ,  James G. Daily, III ,  David Meendering ,  Gary Rozak ,  Jerome O'Grady ,  Peter R. Jepson ,  Prabhat Kumar ,  Steven A. Miller ,  Richard Wu ,  Davd G. Schwarz

IPC分类号： C22C27/04 ,  C25B9/00 ,  C23C14/00 ,  B22F3/24 ,  B32B9/00

CPC分类号： C22C1/045 ,  B22F3/162 ,  B22F2003/248 ,  B22F2998/00 ,  B22F2998/10 ,  C22C27/04 ,  C23C14/3414 ,  B22F3/172 ,  B22F3/20 ,  B22F3/04 ,  B22F3/10 ,  B22F3/16 ,  B22F3/24

摘要： Molybdenum, sputtering targets and sintering characterized as having no or minimal texture banding or through thickness gradient. The molybdenum sputtering targets having a fine, uniform grain size as well as uniform texture, are high purity and can be micro-alloyed to improved performance. The sputtering targets can be round discs, square, rectangular or tubular and can be sputtered to form thin films on substrates. By using a segment-forming method, the size of the sputtering target can be up to 6 m×5.5 m. The thin films can be used in electronic components such as Thin Film Transistor-Liquid Crystal Displays, Plasma Display Panels, Organic Light Emitting Diodes, Inorganic Light Emitting Diode Displays, Field Emitting Displays, solar cells, sensors, semiconductor devices, and gate device for CMOS (complementary metal oxide semiconductor) with tunable work functions.

摘要翻译： 钼，溅射靶和烧结表征为没有或最小纹理条纹或通过厚度梯度。 具有精细，均匀的晶粒尺寸以及均匀织构的钼溅射靶是高纯度的，并且可以微合金化以改善性能。 溅射靶可以是圆盘，正方形，矩形或管状，并且可以溅射以在基底上形成薄膜。 通过使用段形成方法，溅射靶的尺寸可以达到6m×5.5μm。 薄膜可以用于薄膜晶体管 - 液晶显示器，等离子体显示面板，有机发光二极管，无机发光二极管显示器，场发射显示器，太阳能电池，传感器，半导体器件和门装置等电子部件中 CMOS（互补金属氧化物半导体）具有可调功能。

公开(公告)号：US09521706B2

公开(公告)日：2016-12-13

申请号：US14259800

申请日：2014-04-23

申请人： Joseph Hirt ,  John Eiler

发明人： Joseph Hirt ,  John Eiler

IPC分类号： C03B5/027 ,  H05B3/60 ,  H05B7/06 ,  H05B7/08 ,  H05B3/03

CPC分类号： H05B3/03 ,  C03B5/027

摘要： In various embodiments, an electrode has a shaft extending from an electrode head and a cooling passage extending from an open end disposed at an attachment end of the shaft to a closed end disposed within the electrode head. The electrode head has an approximately teardrop shape with a smoothly rounded outer contour.

摘要翻译： 在各种实施例中，电极具有从电极头延伸的轴和从设置在轴的附接端处的开放端延伸到设置在电极头内的封闭端的冷却通道。 电极头具有大致泪珠形状，具有平滑的圆形外轮廓。