公开(公告)号：US09606438B2

公开(公告)日：2017-03-28

申请号：US14782539

申请日：2013-11-05

申请人： CHEIL INDUSTRIES INC.

发明人： Min-Gyum Kim ,  Hyo-Young Kwon ,  Jun-Ho Lee ,  Hwan-Sung Cheon

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/36 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  G03F7/20 ,  G03F7/09

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  G03F7/36 ,  G03F7/40

摘要： Disclosed is a resist underlayer composition including a compound including a moiety represented by the following Chemical Formula 1 and a solvent. In the above Chemical Formula 1, A1 to A3, X1, X2, L1, L2, Z, and m are the same as defined in the specification.

公开(公告)号：US20150274622A1

公开(公告)日：2015-10-01

申请号：US14441241

申请日：2013-06-04

申请人： CHEIL INDUSTRIES INC.

发明人： Yun-Jun Kim ,  Hyo-Young Kwon ,  Hea-Jung Kim ,  Chung-Heon Lee ,  Youn-Jin Cho ,  Yoo-Jeong Choi

IPC分类号： C07C39/14 ,  C07C33/26 ,  C07C39/12 ,  G03F7/40 ,  C09D173/00

CPC分类号： C07C39/14 ,  C07C33/26 ,  C07C39/12 ,  C07C43/23 ,  C07C2603/50 ,  C07C2603/52 ,  C07C2603/54 ,  C09D173/00 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/09 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/40 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/31144

摘要： Disclosed are a monomer represented by the following Chemical Formula 1 for a hardmask composition, a hardmask composition including the monomer, and a method of forming patterns using the hardmask composition. In the above Chemical Formula 1,A1 to A3, X1 to X3, L1, L2, n and m are the same as described in the detailed description.

摘要翻译： 公开了由以下化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体，包含单体的硬掩模组合物，以及使用硬掩模组合物形成图案的方法。 在上述化学式1中，A1至A3，X1至X3，L1，L2，n和m与详细描述中相同。

公开(公告)号：US08956790B2

公开(公告)日：2015-02-17

申请号：US13933721

申请日：2013-07-02

申请人： Cheil Industries Inc.

发明人： Jun-Ho Lee ,  Hyo-Young Kwon ,  Hwan-Sung Cheon

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0233

摘要： Disclosed is a positive photosensitive resin composition that includes (A) at least one dissolution controlling agent selected from a compound including a repeating unit represented by the following Chemical Formula 1, a compound including a repeating unit represented by the following Chemical Formula 2, or a combination thereof, (B) a polybenzoxazole precursor, (C) a photosensitive diazoquinone compound, and (D) a solvent. An organic insulator film for a display device manufactured using the same and a display device are also disclosed. In Chemical Formulae 1 and 2, each substituent is the same as defined in the detailed description.

摘要翻译： 公开了一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）至少一种溶解控制剂，其选自包含由以下化学式1表示的重复单元的化合物，包含由以下化学式2表示的重复单元的化合物或 （B）聚苯并恶唑前体，（C）感光性重氮醌化合物和（D）溶剂。 还公开了一种用于使用其制造的显示装置的有机绝缘膜和显示装置。 在化学式1和2中，每个取代基与详细说明中所定义的相同。

公开(公告)号：US20140342273A1

公开(公告)日：2014-11-20

申请号：US14364829

申请日：2012-11-29

申请人： CHEIL INDUSTRIES INC.

发明人： Yun-Jun Kim ,  Hwan-Sung Cheon ,  Youn-Jin Cho ,  Yong-Woon Yoon ,  Chung-Heon Lee ,  Hyo-Young Kwon ,  Yoo-Jeong Choi

IPC分类号： C07C39/21 ,  G03F7/20 ,  C07C39/225 ,  G03F1/00

CPC分类号： C07C39/21 ,  C07C39/225 ,  C08G65/38 ,  G03F1/00 ,  G03F7/094 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/31144

摘要： Disclosed are a monomer for a hardmask composition represented by the following Chemical Formula 1, a hardmask composition including the monomer, and a method of forming a pattern using the same. In Chemical Formula 1, A, A′, L and n are the same as in the detailed description.

摘要翻译： 公开了由以下化学式1表示的硬掩模组合物的单体，包含该单体的硬掩模组合物，以及使用其形成图案的方法。 在化学式1中，A，A'，L和n与详细说明中相同。

公开(公告)号：US09725389B2

公开(公告)日：2017-08-08

申请号：US14364829

申请日：2012-11-29

申请人： CHEIL INDUSTRIES INC.

发明人： Yun-Jun Kim ,  Hwan-Sung Cheon ,  Youn-Jin Cho ,  Yong-Woon Yoon ,  Chung-Heon Lee ,  Hyo-Young Kwon ,  Yoo-Jeong Choi

IPC分类号： C07C39/21 ,  C07C39/205 ,  C07C33/26 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027 ,  C07C39/225 ,  G03F1/00 ,  G03F7/09 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02 ,  H01L21/033 ,  H01L21/311

CPC分类号： C07C39/21 ,  C07C39/225 ,  C08G65/38 ,  G03F1/00 ,  G03F7/094 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/31144

摘要： Disclosed are a monomer for a hardmask composition represented by the following Chemical Formula 1, a hardmask composition including the monomer, and a method of forming a pattern using the same. In Chemical Formula 1, A, A′, L and n are the same as in the detailed description.

公开(公告)号：US09556094B2

公开(公告)日：2017-01-31

申请号：US14441241

申请日：2013-06-04

申请人： CHEIL INDUSTRIES INC.

发明人： Yun-Jun Kim ,  Hyo-Young Kwon ,  Hea-Jung Kim ,  Chung-Heon Lee ,  Youn-Jin Cho ,  Yoo-Jeong Choi

IPC分类号： G03F7/11 ,  C07C39/14 ,  G03F7/40 ,  C09D173/00 ,  C07C39/12 ,  C07C33/26 ,  C07C43/23 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027 ,  H01L21/311 ,  H01L21/02

CPC分类号： C07C39/14 ,  C07C33/26 ,  C07C39/12 ,  C07C43/23 ,  C07C2603/50 ,  C07C2603/52 ,  C07C2603/54 ,  C09D173/00 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/09 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/40 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/31144

摘要： Disclosed are a monomer represented by the following Chemical Formula 1 for a hardmask composition, a hardmask composition including the monomer, and a method of forming patterns using the hardmask composition. In the above Chemical Formula 1,A1 to A3, X1 to X3, L1, L2, n and m are the same as described in the detailed description.

摘要翻译： A1至A3，X1至X3，L1，L2，n和m与详细描述中描述的相同。

公开(公告)号：US09329475B2

公开(公告)日：2016-05-03

申请号：US14283274

申请日：2014-05-21

申请人： Cheil Industries Inc.

发明人： Ran Namgung ,  Hyo-Young Kwon ,  Hwan-Sung Cheon

IPC分类号： G03F7/023 ,  C08G69/26 ,  C08G73/22 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/023 ,  C08G69/26 ,  C08G73/22 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/039

摘要： Disclosed are a positive photosensitive resin composition including (A) a polybenzoxazole precursor including a functional group at a terminal end thereof, wherein the functional group is dissociated by light of about 400 nm to about 550 nm wavelength region and is acidified; (B) a photosensitive diazoquinone compound; and (C) a solvent, and a photosensitive resin film and a display device using the same.

摘要翻译： 公开了包含（A）在其末端包含官能团的聚苯并恶唑前体的正型感光性树脂组合物，其中所述官能团被约400nm至约550nm波长区域的光解离并酸化; （B）光敏重氮醌化合物; 和（C）溶剂，以及感光性树脂膜和使用其的显示装置。