公开(公告)号：US06803170B2

公开(公告)日：2004-10-12

申请号：US09925679

申请日：2001-08-10

申请人： Minoru Toriumi ,  Isao Satou ,  Hiroyuki Watanabe ,  Shunji Katai ,  Shintaro Suzuki

发明人： Minoru Toriumi ,  Isao Satou ,  Hiroyuki Watanabe ,  Shunji Katai ,  Shintaro Suzuki

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A resist composition comprises: at least one type of a first compound having two or more intramolecular adamantyl structures represented by the chemical formula 1 below; a base resin; and a second compound which generates an acid by active beam irradiation. wherein X is —(OCO)m—(CH2)n—(COO)m—, where m=0 or 1 and n=0, 1, 2 or 3 provided when n=0, m=0; and Y and Z are H, OH, F, Cl, Br, R or COOR, where Y may be Z, or Y and Z may be introduced in a single adamantyl structure and R represents a straight or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物包含：至少一种具有由下述化学式1表示的两个或更多个分子内金刚烷结构的第一化合物; 基础树脂; 和其中m是 - （OCO）m-（CH 2）n - （COO）m - ，其中m = 0或1，n = 0,1,2或3提供的第二化合物，其通过主动束照射产生酸。 当n = 0时，m = 0; 并且Y和Z是H，OH，F，Cl，Br，R或COOR，其中Y可以是Z，或者Y和Z可以被引入单金刚烷基结构中，R代表具有1-8个碳原子的直链或支链烷基 碳原子。

公开(公告)号：US5512328A

公开(公告)日：1996-04-30

申请号：US98046

申请日：1993-07-28

申请人： Toshiyuki Yoshimura ,  Naoko Miura ,  Shinji Okazaki ,  Minoru Toriumi ,  Hiroshi Shiraishi

发明人： Toshiyuki Yoshimura ,  Naoko Miura ,  Shinji Okazaki ,  Minoru Toriumi ,  Hiroshi Shiraishi

IPC分类号： B05D1/20 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  B05D3/06 ,  B05D1/18 ,  C08J7/04 ,  C08J7/18

CPC分类号： B82Y30/00 ,  B05D1/202 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/075 ,  G03F7/2059 ,  Y10S438/939

摘要： In forming a thin film pattern, first a seed material film is formed on a substrate and then exposed using electron beam lithography, for example, in the shape of the pattern. The latent image is then removed and an oriented material is deposited on one of the seed material and the substrtate, which have different hydrophilicity properties, to form the pattern. The oriented film is formed by an LB film forming method, in one example, and in another example the LB film material is a cresol novolak resin having a proportion of p-cresol novolak to m-cresol novolak of at least 20%.

摘要翻译： 在形成薄膜图案时，首先在基板上形成种子材料膜，然后使用例如图案形状的电子束光刻曝光。 然后去除潜像，并且将取向材料沉积在具有不同亲水性的种子材料和底物之一上以形成图案。 在一个实例中，通过LB成膜方法形成取向膜，在另一个实例中，LB膜材料是具有至少20％的对甲酚酚醛清漆与间甲酚酚醛清漆的比例的甲酚酚醛清漆树脂。

公开(公告)号：US08163462B2

公开(公告)日：2012-04-24

申请号：US12457650

申请日：2009-06-17

申请人： Minoru Toriumi ,  Toshiro Itani

发明人： Minoru Toriumi ,  Toshiro Itani

IPC分类号： G02F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0042 ,  G03F7/0044 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/127

摘要： The present invention relates to a photosensitive composition, which is capable of being irradiated with high energy beam having a wave length of 1 to 300 nm band. The photosensitive composition includes a binder resin; and a photoelectron absorbent, capable of being excited with photoelectron emitted from the binder resin that absorbs the high energy beam, when the binder resin is irradiated with the high energy beam.

摘要翻译： 本发明涉及能够用波长为1〜300nm带的高能束照射的感光性组合物。 感光性组合物包含粘合剂树脂; 以及当用高能量束照射粘合剂树脂时，能够从吸收高能量束的粘合剂树脂发射的光电子激发光电吸收剂。

公开(公告)号：US5621497A

公开(公告)日：1997-04-15

申请号：US415937

申请日：1995-04-03

申请人： Tsuneo Terasawa ,  Shinji Okazaki ,  Minoru Toriumi

发明人： Tsuneo Terasawa ,  Shinji Okazaki ,  Minoru Toriumi

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/30

CPC分类号： G03F7/70091 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/701 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70408 ,  G03F7/70458

摘要： Disclosed is a pattern forming method including the steps of preparing second grating stripes disposed near a reticle having a mask pattern to be projected, modulating the mask pattern by emission of a light, and demodulating the modulated mask pattern by first grating stripes formed within a photosensitive film made of a material capable of reversibly inducing photochemical reaction, thereby forming the modulated image of the mask pattern within a resist film disposed under the photosensitive film. With this method, various kinds of fine patterns each being smaller than the resolution limit of a projection exposure tool used are formed.

摘要翻译： 公开了一种图案形成方法，包括以下步骤：制备设置在具有要投射的掩模图案的掩模版附近的第二光栅条，通过发射光来调制掩模图案，以及通过在感光体内形成的第一格栅条来解调调制掩模图案 由能够可逆地诱导光化学反应的材料制成的膜，从而在设置在感光膜下方的抗蚀剂膜内形成掩模图案的调制图像。 利用这种方法，形成各种精细图案，每种精细图案都小于使用的投影曝光工具的分辨率极限。

公开(公告)号：US20050191578A1

公开(公告)日：2005-09-01

申请号：US11104554

申请日：2005-04-13

申请人： Takayuki Araki ,  Takuji Ishikawa ,  Meiten Koh ,  Minoru Toriumi

发明人： Takayuki Araki ,  Takuji Ishikawa ,  Meiten Koh ,  Minoru Toriumi

IPC分类号： C08F4/34 ,  C08F8/00 ,  C08F214/18 ,  G03C1/492 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： C08F214/18 ,  C08F8/00 ,  C08F2800/20 ,  G03C1/492 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  C08F214/26

摘要： There is provided a process for preparing a fluorine-containing polymer for resist which is excellent in transparency in a vacuum ultraviolet region, comprises a structural unit derived from a fluorine-containing ethylenic monomer and/or a structural unit derived from a monomer which can provide an aliphatic ring structure in the polymer trunk chain and may have a fluorine atom, and has an acid-reactive group Y1 reacting with an acid or a group Y2 which can be converted to the acid-reactive group Y1, in which the fluorine-containing ethylenic monomer and/or the monomer which can provide an aliphatic ring structure in the polymer trunk chain are subjected to radical polymerization by using an organic peroxide represented by the formula (1): wherein R50 and R51 are the same or different and each is a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have ether bond (an atom at an end of bond is not oxygen atom); p1 and p2 are the same or different and each is 0 or 1; p3 is 1 or 2, and also there is provided a photoresist composition comprising the obtained polymer. The fluorine-containing polymer is excellent in transparency in a vacuum ultraviolet region, and can form an ultra fine pattern as a polymer for a photoresist, particularly for a F2 resist.

摘要翻译： 提供了一种制备真空紫外线区域的透明度优异的抗蚀剂用含氟聚合物的方法，包括衍生自含氟乙烯性单体的结构单元和/或衍生自单体的结构单元，其可以提供 聚合物主链中的脂族环结构，并且可以具有氟原子，并且具有与酸或Y 2的基团反应的酸反应性基团Y 1，其可以是 转化为酸反应性基团Y 1，其中可以在聚合物主链中提供脂族环结构的含氟乙烯性单体和/或单体通过使用 由式（1）表示的有机过氧化物：其中R 50和R 51相同或不同，并且各自为具有1至30个碳原子的烃基，其可以 具有醚键（键的末端的原子不是氧原子）; p1和p2相同或不同，分别为0或1; p3为1或2，并且还提供包含所得聚合物的光致抗蚀剂组合物。 含氟聚合物在真空紫外区域的透明度优异，并且可以形成作为光致抗蚀剂的聚合物的超细图案，特别是用于F2抗蚀剂。

公开(公告)号：US20090317742A1

公开(公告)日：2009-12-24

申请号：US12457650

申请日：2009-06-17

申请人： Minoru Toriumi ,  Toshiro Itani

发明人： Minoru Toriumi ,  Toshiro Itani

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0042 ,  G03F7/0044 ,  G03F7/0382 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/127

摘要： The present invention relates to a photosensitive composition, which is capable of being irradiated with high energy beam having a wave length of 1 to 300 nm band. The photosensitive composition includes a binder resin; and a photoelectron absorbent, capable of being excited with photoelectron emitted from the binder resin that absorbs the high energy beam, when the binder resin is irradiated with the high energy beam.

摘要翻译： 本发明涉及能够用波长为1〜300nm带的高能束照射的感光性组合物。 感光性组合物包含粘合剂树脂; 以及当用高能量束照射粘合剂树脂时，能够从吸收高能量束的粘合剂树脂发射的光电子激发光电吸收剂。

公开(公告)号：US4792516A

公开(公告)日：1988-12-20

申请号：US373

申请日：1987-01-05

申请人： Minoru Toriumi ,  Hiroshi Shiraishi ,  Ryotaro Irie ,  Shigeru Koibuchi

发明人： Minoru Toriumi ,  Hiroshi Shiraishi ,  Ryotaro Irie ,  Shigeru Koibuchi

IPC分类号： G03C1/00 ,  G03F7/008 ,  G03F7/016 ,  G03F7/04 ,  G03C1/60 ,  G03C1/727

CPC分类号： G03F7/0166 ,  G03F7/0085

摘要： A photosensitive composition comprising (a) a photosensitive component such as an aromatic diazo compound or an aromatic azide, (b) a polymer and (c) a quaternary alkylammonium salt wherein each straight- or branched-chain alkyl group has 1 to 7 carbon atoms is suitable for producing a positive type or negative type photresist excellent in contrast and sensitivity in the microlithography of semiconductor elements.

摘要翻译： 一种光敏组合物，其包含（a）光敏组分如芳族重氮化合物或芳族叠氮化物，（b）聚合物和（c）季烷基铵盐，其中每个直链或支链烷基具有1至7个碳原子 适用于制造在半导体元件的微光刻中对比度和灵敏度优异的正型或负型光电阻。