知搜-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

10 条记录 (耗时 0.017 秒)

    NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
    4.
    发明申请
    NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 审中-公开
    使用它的负极性组合物和电阻图案形成方法

    公开(公告)号：US20100203445A1

    公开(公告)日：2010-08-12

    申请号：US12679974

    申请日：2008-09-22

    申请人： Wataru Hoshino ,  Masahiro Yoshidome

    发明人： Wataru Hoshino ,  Masahiro Yoshidome

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/038 ,  C08F220/24 ,  C08F230/08 ,  C08F2220/1833 ,  C08F2220/283 ,  G03F7/0045

    摘要： An object of the present invention is to solve the technical task of enhancing the performance in micro-photofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser at a wavelength of 193 nm, and more specifically, provide a negative resist composition hardly allowing occurrence of pattern collapse and exhibiting good resolution even in the formation of a fine pattern, and a resist pattern forming method using the composition, which are a negative resist composition comprising (A) an alkali-soluble resin, (B) a compound that contains a low molecular compound having a molecular weight of 2,000 or less and having an oxetane structure, and (C) a cationic photopolymerization initiator, and a resist pattern forming method using the composition.

    摘要翻译： 本发明的目的是解决使用远紫外光，特别是波长193nm的ArF准分子激光器来提高微光制造性能的技术任务，更具体地说，提供几乎不发生图案的负光刻胶组合物 崩溃并且即使形成精细图案也表现出良好的分辨率，以及使用该组合物的抗蚀剂图案形成方法，该抗蚀剂图案形成方法是含有（A）碱溶性树脂的负型抗蚀剂组合物，（B）含有低分子量的化合物 分子量为2,000以下且具有氧杂环丁烷结构的化合物，（C）阳离子光聚合引发剂，以及使用该组合物的抗蚀剂图案形成方法。

    ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
    7.
    发明申请
    ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 审中-公开
    丙烯酸类敏感性或辐射敏感性树脂组合物，耐蚀膜和使用其的图案形成方法

    公开(公告)号：US20110223536A1

    公开(公告)日：2011-09-15

    申请号：US13041694

    申请日：2011-03-07

    申请人： Akinori SHIBUYA ,  Masahiro YOSHIDOME

    发明人： Akinori SHIBUYA ,  Masahiro YOSHIDOME

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

    摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a resist film and a pattern forming method each using the composition are provided, the composition including: (A) a resin containing a repeating unit having a specific lactone structure and a repeating unit having a specific sulfonamide structure and being capable of increasing the solubility of the resin (A) in an alkali developer by the action of an acid; and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.

    摘要翻译： 提供了使用该组合物的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物以及抗蚀剂膜和图案形成方法，该组合物包括：（A）含有具有特定内酯结构的重复单元的树脂和重复单元 具有特定的磺酰胺结构并且能够通过酸的作用增加树脂（A）在碱性显影剂中的溶解度; 和（B）能够在用光化射线或辐射照射时能产生酸的化合物。

    SURFACE-TREATING AGENT FOR PATTERN FORMATION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE TREATING AGENT
    9.
    发明申请
    SURFACE-TREATING AGENT FOR PATTERN FORMATION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE TREATING AGENT 审中-公开
    使用处理剂的图案形成和图案形成方法的表面处理剂

    公开(公告)号：US20100183978A1

    公开(公告)日：2010-07-22

    申请号：US12664570

    申请日：2008-06-13

    申请人： Masahiro Yoshidome

    发明人： Masahiro Yoshidome

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/00

    CPC分类号： H01L21/0273 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/405

    摘要： There are provided a surface-treating agent containing a specific compound having an amino group and an aromatic ring as a surface-treating agent for a freezing process for chemically treating a first resist pattern used in a freezing process of chemically treating and thereby qualitatively changing the first resist pattern so as not to dissolve in a second resist solution in order to form a second resist film on the first resist pattern and form a second resist pattern after the first resist pattern is formed on a first resist film, wherein the surface-treating agent performs a chemical treatment on the first resist pattern to satisfy the requirements that the first resist pattern does not dissolve in the second resist solution, the dimension of the first resist pattern is not changed, and the first resist pattern and the second resist pattern have the same dry etching resistance; and a pattern forming method using the surface-treating agent.

    摘要翻译： 提供了含有具有氨基和芳香环的特定化合物的表面处理剂，作为用于化学处理在化学处理的冷冻过程中使用的第一抗蚀剂图案的冷冻方法的表面处理剂，从而定性地改变 第一抗蚀剂图案，以便不在第二抗蚀剂溶液中溶解，以便在第一抗蚀剂图案上形成第一抗蚀剂图案之后，在第一抗蚀剂图案上形成第二抗蚀剂图案，其中表面处理 试剂对第一抗蚀剂图案进行化学处理以满足第一抗蚀剂图案不溶于第二抗蚀剂溶液的要求，第一抗蚀剂图案的尺寸不改变，并且第一抗蚀剂图案和第二抗蚀剂图案具有 相同的耐蚀刻性; 以及使用表面处理剂的图案形成方法。