公开(公告)号：US08692204B2

公开(公告)日：2014-04-08

申请号：US13453902

申请日：2012-04-23

申请人： Shinichi Kojima ,  Christopher F. Bevis ,  Joseph Maurino ,  William M. Tong

发明人： Shinichi Kojima ,  Christopher F. Bevis ,  Joseph Maurino ,  William M. Tong

IPC分类号： G01T1/20

CPC分类号： H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/244 ,  H01J2237/24528 ,  H01J2237/30438 ,  H01J2237/31798

摘要： One embodiment disclosed relates a method of detecting a patterned electron beam. The patterned electron beam is focused onto a grating with a pattern that has a same pitch as the patterned electron beam. Electrons of the patterned electron beam that pass through the grating un-scattered are detected. Another embodiment relates to focusing the patterned electron beam onto a grating with a pattern that has a second pitch that is different than a first pitch of the patterned electron beam. Electrons of the patterned electron beam that pass through the grating form a Moiré pattern that is detected using a position-sensitive detector. Other embodiments, aspects and features are also disclosed.

摘要翻译： 公开的一个实施例涉及一种检测图案化电子束的方法。 图案化电子束被聚焦到具有与图案化电子束相同的间距的图案的光栅上。 检测通过光栅不分散的图案化电子束的电子。 另一个实施例涉及将图案化电子束聚焦到具有不同于图案化电子束的第一间距的第二间距的图案的光栅上。 通过光栅的图案化电子束的电子形成使用位置敏感检测器检测的莫尔图案。 还公开了其它实施例，方面和特征。

公开(公告)号：US20120273686A1

公开(公告)日：2012-11-01

申请号：US13453902

申请日：2012-04-23

申请人： Shinichi KOJIMA ,  Christopher F. BEVIS ,  Joseph MAURINO ,  William M. TONG

发明人： Shinichi KOJIMA ,  Christopher F. BEVIS ,  Joseph MAURINO ,  William M. TONG

IPC分类号： G01T1/20 ,  G01T1/16

CPC分类号： H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/244 ,  H01J2237/24528 ,  H01J2237/30438 ,  H01J2237/31798

摘要： One embodiment disclosed relates a method of detecting a patterned electron beam. The patterned electron beam is focused onto a grating with a pattern that has a same pitch as the patterned electron beam. Electrons of the patterned electron beam that pass through the grating un-scattered are detected. Another embodiment relates to focusing the patterned electron beam onto a grating with a pattern that has a second pitch that is different than a first pitch of the patterned electron beam. Electrons of the patterned electron beam that pass through the grating form a Moiré pattern that is detected using a position-sensitive detector. Other embodiments, aspects and features are also disclosed.

摘要翻译： 公开的一个实施例涉及一种检测图案化电子束的方法。 图案化电子束被聚焦到具有与图案化电子束相同的间距的图案的光栅上。 检测通过光栅不分散的图案化电子束的电子。 另一个实施例涉及将图案化电子束聚焦到具有不同于图案化电子束的第一间距的第二间距的图案的光栅上。 通过光栅的图案化电子束的电子形成使用位置敏感检测器检测的莫尔图案。 还公开了其它实施例，方面和特征。