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    Immersion Lithography Fluids
    1.
    发明申请
    Immersion Lithography Fluids 有权
    浸没光刻液

    公开(公告)号：US20070229795A1

    公开(公告)日：2007-10-04

    申请号：US11754725

    申请日：2007-05-29

    申请人： Peng Zhang ,  Bridgette Budhlall ,  Gene Parris ,  Leslie Barber

    发明人： Peng Zhang ,  Bridgette Budhlall ,  Gene Parris ,  Leslie Barber

    IPC分类号： G03B27/32 ,  G03B11/00

    CPC分类号： G03F7/2041

    摘要： Suitable additives that may be added into immersion fluids, immersion fluids comprising at least one carrier medium selected from an aqueous fluid, a non-aqueous fluid, and mixtures thereof, and immersions fluids comprising at least one carrier medium and at least one additive useful for performing immersion lithography at an operating wavelength ranging from 140 nm to 365 nm are disclosed herein.

    摘要翻译： 可以加入到浸渍流体中的合适的添加剂，包含至少一种选自水性流体，非水性流体及其混合物的载体介质的浸液，以及包含至少一种载体介质和至少一种可用于 本文公开了在140nm至365nm范围内的工作波长的浸没式光刻技术。

    Top coat for lithography processes
    2.
    发明申请
    Top coat for lithography processes 审中-公开
    平版印刷工艺的外套

    公开(公告)号：US20070196773A1

    公开(公告)日：2007-08-23

    申请号：US11706243

    申请日：2007-02-15

    申请人： Scott Weigel ,  Peng Zang ,  Thomas Braymer ,  Gene Parris

    发明人： Scott Weigel ,  Peng Zang ,  Thomas Braymer ,  Gene Parris

    IPC分类号： G03C1/00

    CPC分类号： G03F7/0752 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

    摘要： The present invention provides a top coat composition comprising a silicon-containing polymer prepared by hydrolysis and condensation of at least one silica source; a solvent; optionally a catalyst; and optionally water, wherein the silicon-containing polymer depolymerizes upon exposure to an aqueous base-containing solution.

    摘要翻译： 本发明提供一种面漆组合物，其包含通过至少一种二氧化硅源的水解和缩合制备的含硅聚合物; 溶剂; 任选的催化剂; 和任选的水，其中所述含硅聚合物在暴露于含水碱溶液时解聚。

    Immersion lithography fluids
    4.
    发明申请
    Immersion lithography fluids 有权
    浸没光刻液

    公开(公告)号：US20050173682A1

    公开(公告)日：2005-08-11

    申请号：US11030132

    申请日：2005-01-07

    申请人： Peng Zhang ,  Bridgette Budhlall ,  Gene Parris ,  Leslie Barber

    发明人： Peng Zhang ,  Bridgette Budhlall ,  Gene Parris ,  Leslie Barber

    IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03B11/00

    CPC分类号： G03F7/2041

    摘要： Suitable additives that may be added into immersion fluids, immersion fluids comprising at least one carrier medium selected from an aqueous fluid, a non-aqueous fluid, and mixtures thereof, and immersions fluids comprising at least one carrier medium and at least one additive useful for performing immersion lithography at an operating wavelength ranging from 140 nm to 365 nm are disclosed herein.

    摘要翻译： 可以加入到浸渍流体中的合适的添加剂，包含至少一种选自水性流体，非水性流体及其混合物的载体介质的浸液，以及包含至少一种载体介质和至少一种可用于 本文公开了在140nm至365nm范围内的工作波长的浸没式光刻技术。

    Method for removal of flux and other residue in dense fluid systems
    6.
    发明申请
    Method for removal of flux and other residue in dense fluid systems 失效
    在稠密流体系统中去除助焊剂和其他残留物的方法

    公开(公告)号：US20060011217A1

    公开(公告)日：2006-01-19

    申请号：US10890502

    申请日：2004-07-13

    申请人： Wayne McDermott ,  Gene Parris ,  Dean Roth ,  Hoshang Subawalla

    发明人： Wayne McDermott ,  Gene Parris ,  Dean Roth ,  Hoshang Subawalla

    IPC分类号： B08B3/12

    CPC分类号： B08B7/0021 ,  B08B1/00 ,  B08B3/02 ,  B08B3/12 ,  Y10S134/902

    摘要： Method for removing flux residue and defluxing residue from an article using a dense processing fluid and a dense rinse fluid is disclosed herein. In one embodiment, there is provided a method comprising: introducing the article comprising contaminants into a processing chamber; contacting the article with a dense processing fluid comprising a dense fluid, at least one processing agent, and optionally a cosolvent to provide a partially treated article; and contacting the partially treated article with a dense rinse fluid comprising the dense fluid and optionally the cosolvent to provide a treated article wherein an agitation source is introducing during at least a portion of the first and/or the second contacting step.

    摘要翻译： 本文公开了使用致密加工流体和致密冲洗流体从制品中除去助熔剂残余物和脱硫残渣的方法。 在一个实施方案中，提供了一种方法，包括：将包含污染物的制品引入处理室; 使所述制品与包含致密流体，至少一种加工剂和任选的共溶剂的致密加工流体接触以提供部分处理的制品; 以及使所述部分处理的制品与包含所述致密流体和任选的共溶剂的致密冲洗流体接触以提供经处理的制品，其中在所述第一和/或所述第二接触步骤的至少一部分期间引入搅拌源。

    Immersion lithography fluids
    7.
    发明申请
    Immersion lithography fluids 审中-公开
    浸没光刻液

    公开(公告)号：US20050161644A1

    公开(公告)日：2005-07-28

    申请号：US10764227

    申请日：2004-01-23

    申请人： Peng Zhang ,  Bridgette Budhlall ,  Gene Parris ,  Leslie Barber

    发明人： Peng Zhang ,  Bridgette Budhlall ,  Gene Parris ,  Leslie Barber

    IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03B11/00

    CPC分类号： G03F7/2041

    摘要： Suitable additives that may be added into immersion fluids, immersion fluids comprising at least one carrier medium selected from an aqueous fluid, a non-aqueous fluid, and mixtures thereof, and immersions fluids comprising at least one carrier medium and at least one additive useful for performing immersion lithography at an operating wavelength ranging from 140 nm to 248 nm are disclosed herein.

    摘要翻译： 可以加入到浸渍流体中的合适的添加剂，包含至少一种选自水性流体，非水性流体及其混合物的载体介质的浸液，以及包含至少一种载体介质和至少一种可用于 本文公开了在140nm至248nm范围内的工作波长的浸没式光刻技术。