公开(公告)号：US20050188923A1

公开(公告)日：2005-09-01

申请号：US10966245

申请日：2004-10-15

申请人： Robert Cook ,  Ronald Stevens ,  Peter Schwartz ,  Cesar Tejamo ,  Vebjorn Nilsen ,  Gabriel Ormonde ,  Ajit Paranjpe ,  Somnath Nag ,  Michael Patten

发明人： Robert Cook ,  Ronald Stevens ,  Peter Schwartz ,  Cesar Tejamo ,  Vebjorn Nilsen ,  Gabriel Ormonde ,  Ajit Paranjpe ,  Somnath Nag ,  Michael Patten

IPC分类号： C23C16/24 ,  C23C16/34 ,  C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/46 ,  C23C16/48 ,  C23C16/509 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32 ,  H01L21/00 ,  H01L21/205 ,  H01L21/318 ,  H01L21/673 ,  H01L21/677 ,  C23C16/00

CPC分类号： H01L21/67303 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32733 ,  H01J2237/2001 ,  H01L21/02529 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/02658 ,  H01L21/3185 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67309 ,  H01L21/67346 ,  H01L21/67383

摘要： A substrate carrier for a parallel wafer processing reactor supports a plurality of substrates. The substrate carrier includes a plurality of susceptors, which may be thermal plates or annular rings that are arranged horizontally in a vertical stack. The substrates are mounted between pairs of susceptors on two or more supports provided around the outer periphery of the susceptors. The number of substrates mounted between each pair of susceptors may the same or different but is two or more between at least one pair of susceptors.

摘要翻译： 用于平行晶片处理反应器的衬底载体支撑多个衬底。 衬底载体包括多个基座，其可以是在垂直堆叠中水平布置的热板或环形环。 衬底被安置在两个或更多个支撑体之间的基座对之间，所述支撑件设置在基座的外周周围。 安装在每对感受体之间的衬底的数量可以相同或不同，但是在至少一对感受器之间是两个或更多个。

公开(公告)号：US20120231182A1

公开(公告)日：2012-09-13

申请号：US13417226

申请日：2012-03-10

申请人： Ronald Stevens ,  Gabriel Ormonde ,  James Mitchener

发明人： Ronald Stevens ,  Gabriel Ormonde ,  James Mitchener

IPC分类号： C23C16/50 ,  C23C16/24 ,  A61L2/14 ,  C23C16/06

CPC分类号： C23C16/045 ,  A61L2/14 ,  A61L2202/23 ,  C23C16/308 ,  C23C16/401 ,  C23C16/403 ,  C23C16/5093 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32394 ,  H01J37/32403 ,  H01J37/32431 ,  H01J37/32522 ,  H01J37/32541 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32596

摘要： An apparatus for treating the interior of containers includes a chamber for holding a container and provides precursor materials via an annulus formed by coaxially arranged electrodes at which plasma is created upon application of voltage and the container is treated.

摘要翻译： 用于处理容器内部的装置包括用于容纳容器的室，并且经由由同轴布置的电极形成的环形空间提供前体材料，在施加电压时产生等离子体并且容器被处理。

公开(公告)号：US10081864B2

公开(公告)日：2018-09-25

申请号：US13417226

申请日：2012-03-10

申请人： Ronald Stevens ,  Gabriel Ormonde ,  James Mitchener

发明人： Ronald Stevens ,  Gabriel Ormonde ,  James Mitchener

IPC分类号： C23C16/50 ,  C23C16/04 ,  A61L2/14 ,  C23C16/30 ,  C23C16/40 ,  C23C16/509 ,  H01J37/32

CPC分类号： C23C16/045 ,  A61L2/14 ,  A61L2202/23 ,  C23C16/308 ,  C23C16/401 ,  C23C16/403 ,  C23C16/5093 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32394 ,  H01J37/32403 ,  H01J37/32431 ,  H01J37/32522 ,  H01J37/32541 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32596

摘要： An apparatus for treating the interior of containers includes a chamber for holding a container and provides precursor materials via an annulus formed by coaxially arranged electrodes at which plasma is created upon application of voltage and the container is treated.