公开(公告)号：US20050008968A1

公开(公告)日：2005-01-13

申请号：US10849197

申请日：2004-05-20

申请人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa

发明人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa

IPC分类号： C07D235/06 ,  C07D235/12 ,  C07D235/16 ,  C07D235/18 ,  C07D405/06 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07D235/06 ,  C07D235/18 ,  C07D405/06 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： Resist compositions comprising basic compounds having a benzimidazole skeleton and a polar functional group have an excellent resolution and an excellent focus margin and are useful in microfabrication using electron beams or deep-UV light.

摘要翻译： 包含具有苯并咪唑骨架和极性官能团的碱性化合物的抗蚀剂组合物具有优异的分辨率和优异的聚焦余量，并且可用于使用电子束或深紫外光的微细加工。

公开(公告)号：US06794111B2

公开(公告)日：2004-09-21

申请号：US10126877

申请日：2002-04-22

申请人： Tsunehiro Nishi ,  Takeshi Kinsho ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Tomohiro Kobayashi

发明人： Tsunehiro Nishi ,  Takeshi Kinsho ,  Seiichiro Tachibana ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Tomohiro Kobayashi

IPC分类号： G03C1492

CPC分类号： G03F7/0395 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A polymer comprising recurring units of formula (1-1) or (1-2) wherein R1, R2, R3 and R4 are H or alkyl, or R1 and R2, and R3 and R4 taken together may form a ring with each pair being alkylene, and k is 0 or 1 and having a Mw of 1,000-500,000 is novel. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, etching resistance, and minimized swell and lends itself to micropatterning with electron beams or deep-UV.

摘要翻译： 包含式（1-1）或（1-2）的重复单元的聚合物，其中R 1，R 2，R 3和R 4是H或烷基，或R 1和R 2 R 3和R 4一起可以形成一个环，每一对是亚烷基，并且k是0或1，并且具有1,000-500,000的Mw是新的。 包含作为基础树脂的聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有优异的灵敏度，分辨率，耐腐蚀性和最小化的溶胀，并且使其自身具有电子束或深UV的微图形化。

公开(公告)号：US06780563B2

公开(公告)日：2004-08-24

申请号：US09963465

申请日：2001-09-27

申请人： Koji Hasegawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Tsunehiro Nishi ,  Jun Hatakeyama

发明人： Koji Hasegawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Tsunehiro Nishi ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： G03F7039

CPC分类号： G03F7/0758 ,  G03F7/0045

摘要： A polymer bearing specific silicon-containing groups is novel. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation and has excellent sensitivity and resolution at a wavelength of less than 300 nm, and high resistance to oxygen plasma etching. The resist composition lends itself to micropatterning for the fabrication of VLSIs.

摘要翻译： 具有特定含硅基团的聚合物是新颖的。 包含作为基础树脂的聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，并且在小于300nm的波长下具有优异的灵敏度和分辨率，以及高耐氧等离子体蚀刻性。 抗蚀剂组合物本身可用于制造VLSI的微图案。

公开(公告)号：US06703183B2

公开(公告)日：2004-03-09

申请号：US10241530

申请日：2002-09-12

申请人： Tsunehiro Nishi ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Satoshi Watanabe ,  Shigehiro Nagura

发明人： Tsunehiro Nishi ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Satoshi Watanabe ,  Shigehiro Nagura

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： C08F220/18 ,  G03F7/0397

摘要： A polymer comprising recurring units of formulae (1) and (2) wherein R1 and R3 are H or methyl, R2 and R4 are C1-15 alkyl, R5 to R8 are H, or R5 and R7, and R6 and R8 form trimethylene or 1,3-cyclopentylene and having a Mw of 1,000-500,000 is novel. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution and etching resistance and lends itself to micropatterning with electron beams or deep-UV.

摘要翻译： 包含式（1）和（2）的重复单元的聚合物，其中R 1和R 3为H或甲基，R 2和R 4为C 1-15烷基，R 5为R 新颖的是H或R 5和R 7，并且R 6和R 8形成三亚甲基或1,3-亚环戊基并具有1,000-500,000的Mw。 包含作为基础树脂的聚合物的抗蚀剂组合物对高能量辐射敏感，具有优异的灵敏度，分辨率和耐蚀刻性，并且适用于电子束或深紫外线的微图案化。

公开(公告)号：US06670498B2

公开(公告)日：2003-12-30

申请号：US10288514

申请日：2002-11-06

申请人： Tsunehiro Nishi ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

发明人： Tsunehiro Nishi ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： C07C6974

CPC分类号： G03F7/039 ,  C07C69/716 ,  C08G61/08 ,  G03F7/0045

摘要： An ester compound of the following formula (1) is provided. R1 is H, methyl or CH2CO2R3, R2 is H, methyl or CO2R3, R3 is C1-C15 alkyl, R4 is branched or cyclic, tertiary C5-C20 alkyl group, Z is a divalent C1-C10 hydrocarbon group, and k is 0 or 1. A resist composition comprising as the base resin a polymer resulting from the ester compound is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, and etching resistance, and is suited for micropatterning using electron beams or deep-UV.

摘要翻译： 提供下式（1）的酯化合物：R 1是H，甲基或CH 2 CO 2 R 3，R 2是H，甲基或CO 2 R 3，R 3是C 1 -C 15烷基 R 4是支链或环状的，叔C5-C20烷基，Z是二价C1-C10烃基，k是0或1.含有由酯化合物得到的聚合物作为基础树脂的抗蚀剂组合物是 对高能辐射敏感，具有优异的灵敏度，分辨率和耐蚀刻性，适用于使用电子束或深UV的微图案。

公开(公告)号：US06660448B2

公开(公告)日：2003-12-09

申请号：US09986274

申请日：2001-11-08

申请人： Seiichiro Tachibana ,  Mutsuo Nakashima ,  Tsunehiro Nishi ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama

发明人： Seiichiro Tachibana ,  Mutsuo Nakashima ,  Tsunehiro Nishi ,  Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： C08F2400

CPC分类号： C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： The invention provides a polymer comprising recurring units containing bridged aliphatic rings in the backbone and having a hydroxyl, acyloxy or alkoxylcarbonyloxy group as well as a lactone structure bonded through a spacer, the polymer having a weight average molecular weight of 1,000-500,000. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity, resolution, and etching resistance, and lends itself to micropatterning with electron beams or deep-UV.

公开(公告)号：US06500961B2

公开(公告)日：2002-12-31

申请号：US09867656

申请日：2001-05-31

申请人： Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Tsunehiro Nishi ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

发明人： Takeshi Kinsho ,  Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Tsunehiro Nishi ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： C07D30720

CPC分类号： C07D307/33 ,  G03F7/0395

摘要： Lactone compounds of formula (1) are useful as monomers to form base resins for use in chemically amplified resist compositions adapted for micropatterning lithography. R1 is H or C1-6 alkyl, R2 is H or an acyl or alkoxycarbonyl group of 1-15 carbon atoms which may be substituted with halogen atoms, Z is a divalent C1-15 organic group which forms a lactone ring with the carbonyloxy group, k is 0 or 1, and m is an integer from 0 to 5.

摘要翻译： 式（1）的内酯化合物可用作单体以形成适用于微图案光刻的化学放大抗蚀剂组合物的基础树脂.R1为H或C1-6烷基，R2为H或1-15碳的酰基或烷氧基羰基 可以被卤素原子取代的原子，Z是与羰基氧基形成内酯环的二价C1-15有机基团，k为0​​或1，m为0-5的整数。

公开(公告)号：US06472543B2

公开(公告)日：2002-10-29

申请号：US09897985

申请日：2001-07-05

申请人： Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Tsunehiro Nishi ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

发明人： Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Tsunehiro Nishi ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： C07D40700

CPC分类号： C07D315/00 ,  G03F7/0395

摘要： Lactone compounds of formula (1) are novel and useful as monomers to form base resins for use in chemically amplified resist compositions adapted for micropatterning lithography. Letter k is 0 or 1 and m is an integer of 1-8.

摘要翻译： 式（1）的内酯化合物是新颖的并且可用作单体以形成适用于微图案光刻的化学放大抗蚀剂组合物的基础树脂。引发剂k为0或1，m为1-8的整数。

公开(公告)号：US06403823B2

公开(公告)日：2002-06-11

申请号：US09842006

申请日：2001-04-26

申请人： Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Tsunehiro Nishi ,  Jun Hatakeyama

发明人： Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Mutsuo Nakashima ,  Seiichiro Tachibana ,  Tsunehiro Nishi ,  Jun Hatakeyama

IPC分类号： C07C6974

CPC分类号： G03F7/039 ,  C07C67/343 ,  C07C69/732

摘要： Ester compounds of formula (1) are useful as monomers to form base resins for use in chemically amplified resist compositions adapted for micropatterning lithography. R1 is H or C1-6 alkyl, R2 is an unsubstituted or halo-substituted acyl or alkoxycarbonyl group of 1-15 carbon atoms, R3 is an acid labile group, k is 0 or 1, and m is an integer from 0 to 5.

摘要翻译： 式（1）的酯化合物可用作单体以形成适用于微图案光刻的化学放大抗蚀剂组合物的基础树脂.R1是H或C1-6烷基，R2是未取代的或卤素取代的酰基或烷氧基羰基， -15个碳原子，R3是酸不稳定基团，k是0或1，m是0-5的整数。

公开(公告)号：US5866037A

公开(公告)日：1999-02-02

申请号：US828707

申请日：1997-03-31

申请人： Takaaki Shimizu ,  Tsutomu Ogihara ,  Tatsushi Kaneko ,  Toshiaki Takahashi ,  Mutsuo Nakashima ,  Takeshi Kinsho ,  Ryuichi Saito ,  Hideshi Kurihara

发明人： Takaaki Shimizu ,  Tsutomu Ogihara ,  Tatsushi Kaneko ,  Toshiaki Takahashi ,  Mutsuo Nakashima ,  Takeshi Kinsho ,  Ryuichi Saito ,  Hideshi Kurihara

IPC分类号： G02F1/13 ,  C09K19/40 ,  C09K19/42 ,  C09K19/34 ,  C09K19/06 ,  C09K19/30

CPC分类号： C09K19/406

摘要： Liquid crystal compositions which can improve the low .DELTA.n (refractive index anisotropy) of conventional liquid crystal compositions containing a silacyclohexane compound and which retain a low viscosity and hence show no decrease in response speed. Liquid crystal compositions having a high .DELTA.n of 0.13 to 0.25, a low viscosity of 30 cp or less, a low threshold voltage and a high voltage holding ratio can be obtained by adding thereto, as a required component, a compound having both a silacyclohexane ring and a tolan structure, or a miture of a compound having a silacyclohexane ring and a compound having a tolan structure.

摘要翻译： 可以提高含有硅环己烷化合物的常规液晶组合物的低DELTA n（折射率各向异性）并保持低粘度并因此显示出不会降低响应速度的液晶组合物。 通过向其中加入作为所需成分的具有硅环己烷的化合物，可以获得具有0.13〜0.25的高DELTA n，30cp以下的低粘度，低阈值电压和高电压保持率的液晶组合物 环和托兰结构，或具有硅环己烷环的化合物和具有托兰结构的化合物。