一种硅漂移探测器及制备方法

    公开(公告)号:CN118983368A

    公开(公告)日:2024-11-19

    申请号:CN202411068336.1

    申请日:2024-08-06

    摘要: 本发明涉及探测器制造技术领域,公开一种硅漂移探测器,包括:N型硅片、P型光接收阴极、N型阳极、至少两个P型漂移电极环、环间分压电阻线、氧化层薄膜和金属电极;其中,P型光接收阴极设置在N型硅片的底端;N型阳极嵌套设置在N型硅片的顶端中心位置;至少两个P型漂移电极环以N型阳极为圆心,逐层围绕在N型阳极的外侧,离N型阳极最近的一层P型漂移电极环为封闭圆环,剩余的P型漂移电极环为带有开口的圆环,且各圆环的开口在同一条直线上;环间分压电阻线设置在各P型漂移电极环的开口处,与各层P型漂移电极环相连;各个相邻的P型漂移电极环之间的电阻线长度、宽度以及电阻值均相等,最大程度提升内部电势均匀性。

    图案化处理装置及相关方法

    公开(公告)号:CN118969899A

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202411010848.2

    申请日:2024-07-25

    摘要: 本申请实施例涉及光伏材料加工技术领域,并提供一种图案化处理装置及相关方法。该图案化处理装置包括接地电极、激励电极以及电源。接地电极用于接收样品。激励电极位于接地电极用于接收样品的一侧。激励电极包括用于接收气体的匀气腔体。匀气腔体包括多个开口。电源与激励电极电连接,以向激励电极施加电压来激发匀气腔体内的气体产生等离子体。激励电极被设置为与样品的待处理表面的距离小于等于1mm,使得等离子体在多个开口的位置处被选择性通过,进而在待处理表面上形成与多个开口的图案相对应的图案化等离子体,来实现对待处理表面的图案化处理。

    TOPCon太阳能电池及其制造方法

    公开(公告)号:CN118969891A

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202411433875.0

    申请日:2024-10-15

    摘要: 本申请涉及一种TOPCon太阳能电池制造方法,首先对原始基底进行清洗与制绒处理,随后进行背面抛光和扩散工艺,以优化基底的光吸收和电学性能。在多层薄膜沉积阶段,采用等离子体增强化学气相沉积技术,在同一设备及步骤中同步形成第一介质层、第二介质层、第一导电掺杂层和第二导电掺杂层,提高生产效率。此外,在沉积各层之前,于基底侧面先形成一层氧化物层,作为激光刻蚀的起点,确保正面钝化接触层的精确图案化。最后,在正面刻蚀完成后,沉积氧化铝钝化层,并在基底正反面同时沉积钝化减反层,以增强电池的光学性能、表面保护能力和长期稳定性。本申请的制造方法不仅简化工艺流程,还显著提升TOPCon太阳能电池的整体性能。

    一种具有自限制膜层结构的钝化接触电池及制备方法

    公开(公告)号:CN118943210A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202410979378.4

    申请日:2024-07-19

    摘要: 本发明涉及具有自限制膜层结构的钝化接触电池及制备方法,且包括步骤:选取单晶硅片进行表面预处理,使得正面和背面分别形成绒面;在硅片正面形成硼掺杂发射极,背面进行抛光处理以形成平面;在平面上覆盖形成隧穿氧化层及背面掺杂层;形成钝化减反射膜层;形成金属电极。本发明一方面碳掺杂得到均匀、致密、无空洞的背面金属电极,氢掺杂的多晶硅表面张力提高、水接触角增大,使得电镀液难以在氢/磷掺杂多晶硅层上附着,且多晶硅表面存在过量的氢泡滞留,降低了背面金属电极沉积地可能性;另一方面自限制膜层结构简化了电镀铜工艺,同时背面无需形成钝化减反射膜层,简化结构、节约成本。