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公开(公告)号：CN117693716A
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202280049630.0
申请日：2022-07-11
申请人： 富士胶片株式会社
摘要： 本发明提供一种能够形成分辨率优异、均匀性也优异的图案的图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的图案形成方法包括：抗蚀剂膜形成工序，使用相对于有机溶剂的溶解度通过曝光、酸、碱或加热的作用而增大的感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成抗蚀剂膜；曝光工序，对抗蚀剂膜进行曝光；以及显影工序，使用包含有机溶剂的显影液对曝光后的抗蚀剂膜进行显影，有机溶剂包含烃系溶剂和碳数6以下的酯系溶剂。
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公开(公告)号：CN1656132A
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：CN03811646.4
申请日：2003-05-13
申请人： 部鲁尔科学公司
IPC分类号： C08F12/02 , C08F16/36 , C08F20/10 , C08F212/00
CPC分类号： H01L21/76808 , G02B1/111 , G03F7/091 , Y10S430/136 , Y10S430/151
摘要： 提供了具有改进流动性的新颖抗反射组合物或填充组合物。所述组合物包含苯乙烯－烯丙醇聚合物以及至少一种除苯乙烯－烯丙醇聚合物之外的其它聚合物(如纤维素聚合物)。本发明组合物可用来保护接触孔或通孔，避免在双镶嵌工艺的蚀刻过程中的性能下降。本发明组合物也可以用来涂覆基片(如硅晶片)，形成具有高蚀刻速率的抗反射涂层，降低或防止随后的光致抗蚀剂曝光和显影期间的光反射。
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公开(公告)号：CN1175960A
公开(公告)日：1998-03-11
申请号：CN96192082.3
申请日：1996-02-13
申请人： 巴斯福股份公司
CPC分类号： C08F12/04 , C08F4/61908 , C08F4/61912 , C08F4/61916 , C08F4/6192 , C08F10/00 , Y10S526/943
摘要： 在0—150℃下、在含有以下组分作为活性组分的催化剂体系存在下,制备乙烯基芳族化合物的聚合物A)式Ⅰ的化合物,以及B)式Ⅲ或Ⅳ的直链的或环状的铝氧烷化合物,或者形成金属茂离子的化合物,选自无电荷的强路易斯酸、有路易斯酸阳离子的离子化合物和有布朗斯特酸作为阳离子的离子化合物。
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公开(公告)号：CN1160406A
公开(公告)日：1997-09-24
申请号：CN95195635.3
申请日：1995-10-11
申请人： 陶氏化学公司
IPC分类号： C08F12/02
摘要： 具有适合快速注塑、吹塑和热成型的高熔体强度、良好流动和良好热性能的单乙烯基芳族聚合物组合物，包括非线性单乙烯基芳族聚合物和具有带3个支链的梳型结构、带4至6个支链点的星型结构和/或支链本身具有支化单元的树枝型结构的共聚物。这些组合物具有固有熔体强度，可用比具有相同流动和热畸变温度的线性单乙烯基芳族聚合物和共聚物少的材料在较短的循环时间内吹塑或热成型(无熔垂)或模塑为制品。还公开了以高的速率制造高分子量(例如Mw为75,000至500,000)支化单乙烯基芳族聚合物的方法，包括使用选自含有可共聚双键和有机过氧化物部分的新型乙烯基过氧化物引发剂的过氧化物引发剂，如富马酸叔丁基过氧酯·正丁酯，通过连续游离基聚合法聚合纯苯乙烯单体或苯乙烯单体与可聚合的共聚单体。
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公开(公告)号：CN103112937B
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201310075673.9
申请日：2013-03-11
申请人： 湖南科技大学
IPC分类号： C08F12/02
摘要： 本发明公开了一种聚甲基丙烯酸多亚乙基多胺乙酯基重金属螯合絮凝剂及其制备方法。本发明采用先以多亚乙基多胺与环氧乙烷在碱性条件下加成制备N-乙基多亚乙基多胺，再与甲基丙烯酸甲酯在催化剂和阻聚剂存在下进行酯交换反应合成甲基丙烯酸多亚乙基多胺乙酯，然后通过自由基聚合合成聚甲基丙烯酸多亚乙基多胺乙酯，再与二硫化碳在碱性条件下反应生成聚甲基丙烯酸多亚乙基多胺乙酯基螯合絮凝剂的技术方案。本发明克服了现有高分子重金属螯合絮凝剂相对分子质量不高、部分链节上无功能基团的缺点，本发明产物不仅具有良好的螯合功能，也具有优良的絮凝性能，可适用于多种重金属废水的处理，具有广阔的推广应用价值。
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公开(公告)号：CN101463099B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200910067686.5
申请日：2009-01-14
申请人： 天津大学
IPC分类号： C08F2/52 , C08F2/44 , C08K9/00 , C08F10/00 , C08F20/00 , C08F36/02 , C08F32/06 , C08F12/02 , C08L23/02 , C08L33/00 , C08L47/00 , C08L45/00 , C08L25/00
摘要： 本发明涉及一种等离子表面引发烯系单体聚合制备复合材料的方法。将无机非金属颗粒、金属粉末，经过等离子体表面处理，物质表面生成活性基团，进而能引发烯系单体聚合。引发得到的聚合物分子量有明显提高，聚合速率也明显变大，并且物料能引发烯系单体的接枝聚合。然后在190-220℃的温度下共混密炼将整个体系混合均匀，制得复合材料。本发明简便可靠，所得产物结构、性质稳定，可以进行工业化生产。
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公开(公告)号：CN101463164B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200910067688.4
申请日：2009-01-14
申请人： 天津大学
IPC分类号： C08L23/12 , C08L23/06 , C08L25/06 , C08L67/04 , C08L9/00 , C08L77/00 , C08L23/02 , C08L33/00 , C08L47/00 , C08L45/00 , C08L25/00 , C08F2/52 , C08F10/00 , C08F20/00 , C08F36/02 , C08F32/06 , C08F12/02
摘要： 本发明涉及一种等离子表面引发烯系单体聚合制备聚合物原位合金的方法。将聚合物粒料进行等离子体表面处理，然后与烯系单体结合，在表面活性物质的引发下，烯系单体快速的聚合为分子量很高的聚合物，不需要加入引发剂，直接在两相界面引发聚合。并且在此过程中，聚合物粒料表面能接枝上烯系单体聚合物，得到预聚体系，然后在190-220℃的温度下共混密炼将整个体系混合均匀，实现了原位反应与加工过程的结合。本发明简便可靠，所得产物结构、性质稳定，可以进行工业化生产。
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公开(公告)号：CN1310971C
公开(公告)日：2007-04-18
申请号：CN03811646.4
申请日：2003-05-13
申请人： 布鲁尔科技公司
IPC分类号： C08F12/02 , C08F16/36 , C08F20/10 , C08F212/00
CPC分类号： H01L21/76808 , G02B1/111 , G03F7/091 , Y10S430/136 , Y10S430/151
摘要： 提供了具有改进流动性的新颖抗反射组合物或填充组合物。所述组合物包含苯乙烯-烯丙醇聚合物以及至少一种除苯乙烯-烯丙醇聚合物之外的其它聚合物(如纤维素聚合物)。本发明组合物可用来保护接触孔或通孔，避免在双镶嵌工艺的蚀刻过程中的性能下降。本发明组合物也可以用来涂覆基片(如硅晶片)，形成具有高蚀刻速率的抗反射涂层，降低或防止随后的光致抗蚀剂曝光和显影期间的光反射。
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公开(公告)号：CN108368198A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201680073643.6
申请日：2016-08-19
申请人： DIC株式会社
摘要： 本发明目的在于提供：通过添加至涂布成膜中所使用的电子材料组合物·墨，不会使电子元件的发光效率及驱动稳定性降低的新型含杂环的硅氧烷聚合物、含有该聚合物的组合物、电子材料组合物、以及电子元件。发现由新型含杂环的硅氧烷聚合物、含有该聚合物的组合物、电子材料组合物制作的电子元件的发光效率及驱动稳定性得以改善，并完成了本发明。
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公开(公告)号：CN101775088A
公开(公告)日：2010-07-14
申请号：CN200910076183.4
申请日：2009-01-13
申请人： 清华大学
IPC分类号： C08F12/02 , C08F8/00 , C08F8/30 , B01J20/285 , C07K1/22
摘要： 本发明公开了叠氮基或端炔基修饰的聚苯乙烯树脂及其制备方法。该叠氮基或端炔基修饰的聚苯乙烯树脂，其结构通式如式I所示。本发明提供的叠氮基或端炔基修饰的聚苯乙烯树脂，不仅能捕获体系中指定的分子，还能在温和的条件下将捕获的分子释放出来，在所捕获的分子末端加上一个分子片断，该分子片断具有质谱质量标签及质谱信号增益标签的作用。该树脂化合物在生命分析领域，尤其是蛋白质翻译后修饰位点测定领域内具有广阔的应用前景。
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