高速激光设备
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102820615B

    公开(公告)日:2017-03-01

    申请号:CN201210185650.9

    申请日:2012-06-06

    Inventor: N.P.奇蒂卡

    Abstract: 本发明涉及一种使用在光学模块中的激光设备。该激光设备包括:第一反射器和第二反射器;适用于将电流限制在电流限制孔内的限制层;和在第一和第二反射器之间的激活层。所述激活层包括:与所述电流限制孔对齐的主激活区域和围绕该主激活区域的辅助激活区域。所述第二反射器包括:配置在所述电流限制孔上的第一反射器区域和围绕所述第一反射器区域的第二反射器区域。所述第二反射器区域和第一反射器构造成引起所述辅助激活区域中的受激复合。

    垂直腔表面发射激光器
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1159808C

    公开(公告)日:2004-07-28

    申请号:CN96103174.3

    申请日:1996-03-22

    Inventor: 李用熙 申铉国

    Abstract: 提供了一种垂直腔表面发射激光器(VCSEL),它具有基片、由含杂质的半导体材料形成的第一反射层、第一反射层之上的活性层、活性层之上由含有与用于第一反射层的半导体材料所含杂质的类型相反的杂质的半导体材料所形成的第二反射层、以及第二反射层之上具有发射来自第二反射层的光的腔的电极层。电极层具有导电性高并与外部电源相连的金属层和金属层之下并具有低于两个反射层反射率的导电性辅助反射层。

    垂直腔表面发射激光器
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1137188A

    公开(公告)日:1996-12-04

    申请号:CN96103174.3

    申请日:1996-03-22

    Inventor: 李用熙 申铉国

    Abstract: 提供了一种垂直腔表面发射激光器(VCSEL),它具有基片、由含杂质的半导体材料形成的第一反射层、第一反射层之上的活性层、活性层之上由含有与用于第一反射层的半导体材料所含杂质的类型相反的杂质的半导体材料所形成的第二反射层、以及第二反射层之上具有发射来自第二反射层的光的腔的电极层。电极层具有导电性高并与外部电源相连的金属层和金属层之下并具有低于两个反射层反射率的导电性辅助反射层。

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