用基片导引的重建光束工业产生体积反射全息图的设备和方法

    公开(公告)号:CN108475037A

    公开(公告)日:2018-08-31

    申请号:CN201680075548.X

    申请日:2016-12-19

    IPC分类号: G03H1/20 G03H1/04 G02B1/111

    摘要: 本发明涉及用基片导引的重建光束产生体积反射全息图的设备(200,300,400,600),包括:至少一个透明的、平面的载体元件(210,310,410,610),其包括第一平坦侧(210.1)和另一平坦侧(210.2);至少一个主元件(206,306,406,606),其能够布置在所述载体元件(210,310,410,610)的所述第一平坦侧(210.1)处;以及至少一个光学输入耦合元件(102,202,302,402,602),其被配置为光学地耦合光束(214,216),其中设置至少一个耦合部分(104,204,304,404,604),其被配置为在所述输入耦合元件(102,202,302,402)和能够设置在所述载体元件(210,310,410)的所述另一平坦侧(210.2)上的至少一个全息记录介质(208,308,408)之间机械地建立光学接触,或被配置为在所述载体元件(610)的所述另一平坦侧和能够设置在所述光学输入耦合元件(602)的平坦侧(605)上的至少一个全息记录介质(608)之间机械地建立光学接触,其中至少所述耦合部分(104,204,304,404,604)由具有1000Pa和50MPa之间、优选地30,000Pa和30MPa之间的剪切模量的材料形成。