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公开(公告)号：CN106346945A
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：CN201610561687.5
申请日：2016-07-15
Applicant: 海德堡印刷机械股份公司
CPC classification number: G03H1/028 , B41C1/08 , B42D25/328 , B42D25/425 , B44B5/026 , G03H1/0236 , G03H2001/0296 , G03H2001/185 , G03H2001/187 , B41C1/00 , B41C3/00
Abstract: 一种印版(7)，用于在幅带或者页张形式的承印物上制造全息图或者其它衍射光的或者衍射的微结构，该印版包括一个凸版浮雕(12)，所述浮雕由一个或者多个凸起的阳模(13)和一个或者多个位于旁边的凹陷(14)组成，并且在凸版浮雕中只在阳模(13)上布置了用于印刷或者压印微结构的一个微浮雕(16)，其中微浮雕(16)是非金属的。这个印版可以采用一种制造方法制造，在所述的这种制造方法中，一个初级版具有微浮雕(16)的一个阴模和微浮雕(16)通过成型阴模(17)制造。
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公开(公告)号：CN103430108B
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201280012881.8
申请日：2012-03-29
Applicant: 沙特基础全球技术有限公司
Inventor： 迈克尔·T·塔克莫里 , 马克·A·谢弗顿 , 安德鲁·A·伯恩斯 , 苏密特·贾殷
CPC classification number: G03H1/0248 , G03H1/0011 , G03H1/0236 , G03H1/182 , G03H1/26 , G03H2001/0264 , G03H2001/184 , G03H2001/187 , G03H2001/2228 , G03H2210/54 , G03H2260/10 , G03H2260/52
Abstract: 本发明描述了记录体全息图像的方法，其中将包含光反应性染料的全息记录介质（14）暴露于具有所述染料对其敏感的波长的多个相干光束，由此在其中形成干涉条纹图案。发生在相长干涉区域中的光反应产生由染料的光反应区域和染料的未反应区域的周期排列形成的干涉条纹图案。这种产生的干涉条纹图案可以包括，但并非必须包括任何图像或其他的编码信息。随后将干涉条纹图案的选择区以这种方式暴露于光化辐射以部分地或完全漂白、除去、或去活化光反应性染料条纹图案，由此产生由没有被漂白、除去、或去活化的干涉条纹图案的区域形成的全息图案、形状、或图像。
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公开(公告)号：CN104936744A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201480005696.5
申请日：2014-01-22
Applicant: 联邦印刷有限公司
CPC classification number: B42D25/328 , B32B37/0015 , B32B37/003 , B32B37/0053 , B32B37/10 , B32B37/1207 , B32B38/1858 , B32B2038/0028 , B32B2305/347 , B32B2307/412 , B32B2307/418 , B32B2425/00 , B42D25/351 , G03H1/0011 , G03H1/0236 , G03H1/0248 , G03H1/0252 , G03H1/0404 , G03H1/202 , G03H2001/0413 , G03H2001/0415 , G03H2001/043 , G03H2001/205 , G03H2210/54 , G03H2225/31 , G03H2227/03 , G03H2227/04 , G06K19/16 , B25B11/00 , B65H5/222 , B65H29/241 , G03H1/02 , G03H1/0402 , G03H1/20
Abstract: 本发明涉及一种用于事后全息地标识复合体(1)的设备(100)以及一种相应的方法，所述方法包括以下步骤：提供或制造复合体(1)，所述复合体包括至少在一个区域(7)中感光的全息图层(3)；将复合体(1)布置在保持装置(101)上或保持装置中；以相干光(162)曝光复合体(1)，所述相干光在全息图层(3)的感光区域(7)中干涉，以便全息信息曝光到全息图层(3)的感光区域(7)中；在全息图层(6)中定影已曝光的全息图。为了能够实施高质量的接触拷贝，在此提出，使用构造为薄膜的母版(130)，所述母版施加到复合体(1)的前侧(12)上。
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公开(公告)号：CN103091772B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201310020705.5
申请日：2013-01-21
Applicant: 清华大学
IPC: G02B6/02
CPC classification number: G03H1/0248 , G02B6/02085 , G02B6/02133 , G03H1/0236 , G03H2001/0439 , G03H2001/0482 , G03H2222/15 , G03H2270/20
Abstract: 本发明公开了一种制作任意反射波长超长光纤光栅的方法和装置。该方法用两束全息干涉激光以一定的夹角从光纤的一侧入射到光纤内，产生全息干涉；同时，通过一个计算机控制的电控平移台使该两束全息干涉激光沿着光纤的长度方向平移，并通过计算机控制的电控旋转台或电控平面镜架调节两束全息干涉激光的夹角。可以实现任意反射波长超长光纤光栅的写入，包括窄反射带光栅、啁啾光栅和切趾光栅等。
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公开(公告)号：CN103620498A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201280032262.5
申请日：2012-06-29
Applicant: 沙特基础创新塑料IP私人有限责任公司
Inventor： 迈克尔·T·塔克莫里 , 马克·A·谢弗顿 , 安德鲁·A·伯恩斯 , 苏密特·贾殷
CPC classification number: G03H1/0236 , G02B5/1857 , G02B5/32 , G03F7/001 , G03H1/0011 , G03H1/0248 , G03H1/202 , G03H2001/0413 , G03H2001/0415 , G03H2001/0473 , G03H2223/12
Abstract: 描述了一种记录全息记录的方法。根据该方法，全息记录介质暴露于来自发射一种或多种波长光的相干光源的所期望的图案、形状、或图像，该全息记录介质对一种或多种波长的光敏感。在该方法中，通过空间均匀的光衍射元件衍射全息记录介质所曝露的具有期望图案、形状、或图像的光，使得全息记录介质曝露于多个干涉光束，从而在全息记录介质中形成全息记录。描述了包括全息记录介质和空间均匀的光衍射元件的全息记录物品。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101872152A
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN201010168629.9
申请日：2010-04-22
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G03H1/02
CPC classification number: G03H1/0236 , B42D25/29 , B42D25/328 , B42D25/47 , G03H1/0011 , G03H1/0248 , G03H1/0256 , G03H2001/2236 , G03H2250/10 , G03H2250/40
Abstract: 本发明提供一种防伪介质，具备：体积型全息图层，通过照射激光进行曝光，而记录有干涉条纹；电子水印信息层，通过照射规定波长的光能够判读；以及粘附体，具有上述电子水印信息层，被贴附于上述体积型全息图层，上述信息层包括与上述体积型全息图层不同的颜色。
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公开(公告)号：CN101512444A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200680055804.5
申请日：2006-09-11
Applicant: 大日本印刷株式会社
Inventor： 斋藤多惠
IPC: G03H1/02
CPC classification number: B42D25/364 , B42D25/324 , B42D25/328 , B42D25/373 , B42D2033/26 , G03H1/0011 , G03H1/0236 , G03H1/0244 , G03H1/0256 , G03H2001/187 , G03H2250/36 , G03H2250/38
Abstract: 本发明涉及用于真实性确认用途等的全息图中不需要更复杂的外观及真实性判定的容易度的新型真实性识别体，所述真实性识别体(1)由在透明基材(2)的上面或下面设置的胆甾醇型液晶层(3)、在其下面设置的全息图形成层(4)及沿全息图形成层(4)的微细凹凸设置的反射性金属层(5)构成，从上面观察构成图案地形成反射性金属层(5)，可以解决课题。胆甾醇型液晶层可以为二层，在下面可以进一步层压粘合剂层(7)。
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公开(公告)号：CN1849566A
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：CN200480025803.7
申请日：2004-09-16
Applicant: JDS尤尼弗思公司
Inventor： 罗杰·W.·菲利浦 , 弗拉基米尔·P.·洛夏
CPC classification number: B42D25/324 , B42D25/328 , B42D2035/24 , G03H1/0011 , G03H1/0236 , G03H1/0244 , G03H1/0256 , G03H2001/187 , G03H2210/52 , G03H2223/25 , G03H2250/10 , G03H2250/12 , G03H2250/34 , G03H2250/36 , G03H2270/52 , G07D7/0032 , Y10S428/916
Abstract: 一种包含光透射基片的光学结构，其中，将表面浮雕图案施加到所述光透射基片上，如全息图。反射材料图案层被应用在表面浮雕图案部分上，以形成文字数字符号、条形码或图解或绘画图案。为使表面浮雕图案的暴露部分产生期望的光学效果，在反射材料图案层和表面浮雕图案暴露部分上使用了光学活性涂层。在一些具体结构中，光学活性涂层为变色薄膜或包含变色片。任选地，光学活性涂层材料的折射率可与光透射基片的折射率显著匹配，以使未被反射材料覆盖的表面浮雕图案区部分不显示表面浮雕图案的光学效果。
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公开(公告)号：CN1151034C
公开(公告)日：2004-05-26
申请号：CN00805723.0
申请日：2000-04-04
Applicant: OVD基尼格拉姆股份公司
Inventor： 韦恩·罗伯特·汤姆金 , 雷内·斯托布
CPC classification number: G03H1/02 , B44F1/045 , B44F1/10 , G03H1/0011 , G03H1/0236 , G03H1/028 , G03H1/2249 , G03H2001/0016 , G03H2001/085 , G03H2001/306 , G03H2210/20 , G03H2210/55 , G03H2230/10 , G03H2240/55 , G03H2250/10 , G03H2250/40 , Y10T428/24479 , Y10T428/24612
Abstract: 装饰薄膜(1)具有由至少两层(2；3)组成的分层结构。层(2；3)包括一例如透明的基体薄膜(2)；其一侧涂覆反射层(3)，防护层(4)可以防止反射层(3)受外界影响，基体薄膜(2)朝向反射层(3)的压印表面(7)具有通过压印得到的几何形状组的结构。由组占有的表面具有30μm至300μm的宽度，组的压印在基体薄膜(2)上的元素(14)具有一基本上矩形的横截面，其中由组占有的表面由位于与压印表面(7)平行的平面(8)内的元素表面(9至11)和留在压印表面(7)的平面内的剩余表面(13)合并成，被组占有的表面通过在压印表面(7)的平面内的背景区的区域隔开。
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公开(公告)号：CN1345274A
公开(公告)日：2002-04-17
申请号：CN00805723.0
申请日：2000-04-04
Applicant: OVD基尼格拉姆股份公司
Inventor： 韦恩·罗伯特·汤姆金 , 雷内·斯托布
CPC classification number: G03H1/02 , B44F1/045 , B44F1/10 , G03H1/0011 , G03H1/0236 , G03H1/028 , G03H1/2249 , G03H2001/0016 , G03H2001/085 , G03H2001/306 , G03H2210/20 , G03H2210/55 , G03H2230/10 , G03H2240/55 , G03H2250/10 , G03H2250/40 , Y10T428/24479 , Y10T428/24612
Abstract: 装饰薄膜(1)具有由至少两层(2;3)组成的分层结构。层(2;3)包括一例如透明的基体薄膜(2);其一侧涂覆反射层(3)。防护层(4)可以防止反射层(3)受外界影响。基体薄膜(2)朝向反射层(3)的压印表面(7)具有通过压印得到的几何形状组的结构。由组占有的表面具有30μm至300μm的宽度。组的压印在基体薄膜(2)上的元素(14)具有一基本上矩形的横截面,其中由组占有的表面由位于与压印表面(7)平行的平面(8)内的元素表面(9至11)和留在压印表面(7)的平面内的剩余表面(13)合并成。被组占有的表面通过在压印表面(7)的平面内的背景区的区域隔开。
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