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    光期间获得最佳解析能力的照明光学单元。投射曝光设备的照明光学单元
    5.
    发明授权
    光期间获得最佳解析能力的照明光学单元。投射曝光设备的照明光学单元 有权

    公开(公告)号：CN104169800B

    公开(公告)日：2017-02-22

    申请号：CN201380013861.7

    申请日：2013-03-05

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    发明人： I.桑格

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B26/08

    CPC分类号： G02B26/0858 ,  G02B5/3066 ,  G02B19/0023 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70566

    摘要： 一种投射曝光设备的照明光学单元(25)，用于将照明光(16)引向照明场(5)，光刻掩模(7)可布置在照明场(5)中。第一分面反射镜(19)具有多个单独反射镜(26)，所述多个单独反射镜(26)提供将照明光部分束(16i)引向照明场(5)的照明通道。单独反射镜(26)各具有多层反射涂层。第二分面反射镜(20)在照明光(16)的光束路径中布置在第一分面反射镜(19)的下游。第二分面反射镜(20)的相应分面(35)连同第一分面反射镜(19)的单独反射镜(26)的至少一个一起使将照明光部分束(16i)引向照明场(5)的照明通道完整。单独反射镜(26)布置成使相应照明光部分束(16i)以入射角(I)入射于单独反射镜(26)上，由此限定入射平面。入射角(I)被预定成使入射平面中偏振的照明光(16)的反射率Rp与垂直于入射平面偏振的照明光(16)的反射率Rs之间的Rp/Rs比小于0.8。这导致照明可适用于在投射曝

    偏振系统
    6.
    发明公开
    偏振系统 有权

    公开(公告)号：CN105814464A

    公开(公告)日：2016-07-27

    申请号：CN201480066118.2

    申请日：2014-12-04

    申请人： 业纳光学系统有限公司

    发明人： 赫尔穆特·贝尼茨基 ,  米切尔·克劳斯 ,  斯文·劳克斯 ,  乌维·舒曼

    IPC分类号： G02B5/30

    CPC分类号： G02B5/3075 ,  G02B1/08 ,  G02B5/3041 ,  G02B5/3066 ,  G02B27/283

    摘要： 本发明涉及一种偏振系统(1)，包括以下特征：?由第一基板材料构成的第一基板(3)，该第一基板其上应用有第一层系统(3a)并被安置在由光束源形成的光束路径(2)的下游，由第二基板材料构成的至少一个第二基板(4)，该至少一个第二基板其上应用有第二层系统(4a)；?其中，该第一和第二层系统包括应用于该基板上的第一叠层(3b，4b)以及应用于该第一叠层上的第二叠层(3c，4c)；?其中，该第一叠层包括交替的高和低折射率氧化层序列；?其中，该第二叠层包括交替的高和低折射率氟化层序列；?其中，该第一层系统(3a)将未偏振光束(2a)分离成第一分量(2d)和至少一个第二分量(2e)，该未偏振光束形成该光束路径(2)并以大于所使用的该基板材料的布鲁斯特角的角度Φ撞击在该层系统(3a)上，该第一分量大部分被偏振并透射通过该基板，该至少一个第二分量大部分被偏振并在该层系统(3a)被反射；?其中，该第一层系统(3a)在其氧化层和氟化层的数量方面被设计的方式为使得被反射和被偏振的第二分量(2e)的比例至少为90％；?其中，该第二层系统(4a)将光束分离成第一分量(2d)和至少一个第二分量(2e)，该光束形成该光束路径、具有比例为至少90％的被偏振的大部分第二分量(2e)并撞击在该层系统上，该第一分量大部分被偏振并透射通过该基板，该至少一个第二分量大部分被偏振并在该层系统(4a)被反射，其中，在该第二层系统的下游被偏振的大部分第二分量的比例大于该第一层系统的下游。

    光学元件及其制造方法
    7.
    发明授权
    光学元件及其制造方法 有权 转让

    公开(公告)号：CN103308968B

    公开(公告)日：2016-07-06

    申请号：CN201310051641.5

    申请日：2013-02-04

    申请人： 日立麦克赛尔株式会社

    发明人： 峰邑浩行 ,  安斋由美子

    IPC分类号： G02B5/30 ,  G02B5/08

    CPC分类号： G02B5/3066 ,  G02B5/3058

    摘要： 本发明提供一种光学元件及其制造方法。所述光学元件是兼具有反射镜和偏振元件的功能的新型光学元件。在构成线栅构造WG的凹凸形状部的第一面和第二面中，使远离光(电磁波)的入射侧的第一面(表面SUR1)的表面粗糙度大于靠近光(电磁波)的入射侧的第二面(表面SUR2)的表面粗糙度。由此，根据本实施方式，能够实现反射型偏振元件，因此能够提供具有优异的耐光热性、并且也有助于削减成本的光学元件。

    微光刻投射曝光设备的光学系统
    9.
    发明公开
    微光刻投射曝光设备的光学系统 有权

    公开(公告)号：CN104246616A

    公开(公告)日：2014-12-24

    申请号：CN201380020363.5

    申请日：2013-03-26

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    发明人： I.萨恩杰 ,  F.施勒塞纳

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70191 ,  G02B5/3066 ,  G02B5/3075 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70566

    摘要： 本发明涉及一种尤其在EUV中运行的微光刻投射曝光设备的光学系统，包含：至少一个偏振影响布置(100,200,...)，其具有第一反射表面(110,210,...)和第二反射表面(120,220,...)，其中该第一反射表面(110,210,...)和该第二反射表面(120,220,...)相对于彼此以0°±10°的角度或90°±10°的角度布置；其中在该光学系统运行期间入射在该第一反射表面(110,210,...)上的光与该第一反射表面形成45°±5°的角度；及其中该偏振影响布置(100,200,...)可绕着旋转轴(A)旋转，该旋转轴平行于在该光学系统运行期间入射在该第一反射表面(110,210,...)上的光的光传播方向延伸。

    透射率更高的光控膜
    10.
    发明公开
    透射率更高的光控膜 无效 复审申请

    公开(公告)号：CN101821650A

    公开(公告)日：2010-09-01

    申请号：CN200880111371.X

    申请日：2008-10-13

    申请人： 3M创新有限公司

    发明人： 加里·E·盖德斯 ,  肯尼斯·A·爱泼斯坦

    IPC分类号： G02B5/02 ,  G02B5/30

    CPC分类号： G02B5/30 ,  G02B5/0263 ,  G02B5/3066 ,  G02B2207/123

    摘要： 本发明描述了光控膜，以及组装了所述光控膜的光校准组件和液晶显示器。所述光控膜包括交替的透射区域和吸收区域，其中各透射区域的折射率大于各吸收区域的折射率。所述吸收区域与垂直于所述光控膜的方向形成微小界面角。入射到所述吸收区域的入射光的一部分发生全内反射，并且透过所述光控膜。透过所述光控膜的光的轴向亮度增加，视角内的亮度更加均匀，并且截光角变得锐利。