公开(公告)号：CN104865694B

公开(公告)日：2018-04-27

申请号：CN201510087877.3

申请日：2015-02-25

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 松野靖史 ,  五味二夫

IPC: G02B26/00 ,  G01J3/02

CPC classification number: G02B26/001 ,  G01J1/0214 ,  G01J1/0271 ,  G01J1/0488 ,  G01J1/32 ,  G01J3/0291 ,  G01J3/26 ,  G01J3/506 ,  G02B5/284

Abstract: 本发明涉及光学模块以及电子设备。光学模块(3)具备：电路基板(33)，具有凹部(331)及平面部(332)；光传感器(34)，设置在空间(S)内；及光学滤波器装置(600)，在内部收纳有波长可变干涉滤波器(5)，并具有基座(620)及第一玻璃部件(627)，基座(620)具有来自波长可变干涉滤波器(5)的出射光所通过的光通过孔(623)并接合于平面部(332)，第一玻璃部件(627)设置于光通过孔(623)并位于空间(S)内，第一玻璃部件(627)与光传感器(34)的距离(L3)被设定为从波长可变干涉滤波器(5)射出的光在第一玻璃部件(627)与光传感器(34)之间不发生干涉的距离。

公开(公告)号：CN107924955A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201680034509.5

申请日：2016-04-13

Applicant: 福斯国际公司

Inventor： C.D.博伊德 ,  B.R.菲斯 ,  J.D.谢泼德

IPC: H01L31/0216 ,  B32B7/02 ,  G02B5/20

CPC classification number: G02B5/0242 ,  B32B7/02 ,  G01J1/0488 ,  G01J2003/1213 ,  G02B1/10 ,  G02B5/0263 ,  G02B5/0268 ,  G02B5/0284 ,  G02B5/0289 ,  G02B5/201 ,  G02B5/206 ,  G02B5/26 ,  G02B27/1006 ,  G02F1/0018 ,  G02F1/01 ,  G02F1/0102 ,  G02F1/0121 ,  G02F1/19 ,  G06F1/16 ,  H01L31/02161 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/02327 ,  H02S40/00

Abstract: 提供了系统和方法以用于形成电磁能量透射层，其特别地配置为选择性地散射特定且可选择波长的电磁能量，而同时允许其余波长穿过。提供了过程，通过该过程形成或者以其它方式并入一个或多个能量散射层，包括在这样的能量散射层中独特地实现光学光散射技术，以及由这样的投射能量散射层形成或者以其它方式并入这样的透射能量散射层的对象、对象部分、壁板、透镜、滤波器、屏幕等。固定在基质中的颗粒的折射率是可调谐的，以便使成品层在从由可见频谱中的光激活的能量入射观看时提供不透明外观。散射层的颜色、图案、纹理或图像可以根据单独用户的期望进行渲染，层对于穿过层的光基本上透明。

公开(公告)号：CN106456070A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580027058.8

申请日：2015-06-17

Applicant: 索尼公司

Inventor： 小泽谦

IPC: A61B5/1455 ,  G01J3/02 ,  G01J4/04 ,  G01J3/453 ,  G01J3/28

CPC classification number: G01J1/42 ,  A61B5/0075 ,  A61B5/14532 ,  A61B5/14546 ,  A61B5/14551 ,  A61B5/14552 ,  A61B5/14558 ,  A61B5/681 ,  G01J1/0411 ,  G01J1/0429 ,  G01J1/0488 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0224 ,  G01J3/027 ,  G01J3/2823 ,  G01J3/4531 ,  G01J4/04 ,  G01J2004/005 ,  G01N21/314 ,  G01N21/359 ,  G01N2021/3595 ,  A61B5/1455

Abstract: 本发明提供了一种成像装置和成像方法。将来自被摄体的光作为多个光束集提供至具有多个元件的相位差阵列。所述相位差阵列被配置成针对多个光束集中的至少一些光束集内所包括的光提供不同的光路。在成像元件阵列处接收来自所述相位差阵列的光。所述成像元件阵列包括多个成像元件。可以显示基于所述成像元件阵列的输出信号根据高光谱成像数据所获得的信息。

公开(公告)号：CN103314281B

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201180064710.5

申请日：2011-11-25

Applicant: 意法半导体(R&D)有限公司

Inventor： E·芬德雷

IPC: G01J1/16 ,  G01J1/32

CPC classification number: G01J1/32 ,  G01J1/0209 ,  G01J1/0266 ,  G01J1/0411 ,  G01J1/0488 ,  G01J1/1626 ,  G01J1/4204 ,  G01J1/4228 ,  G01J2001/4242

Abstract: 本发明提供一种辐射传感器，该辐射传感器包括第一像素和第二像素以及定位于第一像素之上的辐射吸收滤波器。吸收滤波器和第一像素的组合谱响应具有第一像素通带和第一像素阻带。辐射传感器还包括定位于第一像素和第二像素之上的干涉滤波器。干涉滤波器具有基本上在第一像素通带内的第一干涉滤波器通带和基本上在第一像素阻带内的第二干涉滤波器通带。

公开(公告)号：CN104884978A

公开(公告)日：2015-09-02

申请号：CN201380067332.5

申请日：2013-12-17

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 野村琢治

IPC: G02B5/00 ,  G02B13/00

CPC classification number: G02B5/003 ,  G01J1/0488 ,  G02B1/04 ,  G02B13/001 ,  C08L33/08

Abstract: 本发明通过提供一种光学元件的制造方法来解决上述问题，该光学元件的制造方法的特征在于，所述光学元件具有：由吸收一部分或全部光的材料形成的光吸收部、和在所述光吸收部上由透射光的材料形成的透光部，从中心向周边形成有中心区域、中间区域、周边区域，所述中心区域中几乎未形成所述光吸收部，所述中间区域中，从所述中心区域侧向周边区域侧，所述光吸收部的厚度逐渐变厚，该制造方法包括如下的工序：在透明基板上涂布用于形成光吸收部的光吸收性树脂材料的工序；将具有与所述光吸收部的形状的凹凸形状相对应的成型模具按压在所涂布的所述光吸收性树脂材料上的工序；在所述成型模具被按压在所述光吸收性树脂材料上的状态下照射紫外线，由此使所述光吸收性树脂材料固化而形成光吸收部的工序；和照射所述紫外线之后将所述成型模具剥离的工序，所述成型模具的与成为凸部的上表面的中心区域相对应的部分平坦地形成。

公开(公告)号：CN104488093A

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：CN201380039423.8

申请日：2013-07-09

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 井上高广 ,  木村直正

IPC: H01L31/10 ,  G01J1/42 ,  G01J3/46 ,  G02F1/13 ,  G02F1/133 ,  H01L31/12

CPC classification number: H01L31/101 ,  G01J1/0488 ,  G01J1/4204 ,  G01J1/4228 ,  G01J1/44 ,  G01J3/30 ,  G01J3/51 ,  G09G3/3406 ,  G09G3/36 ,  G09G2320/0626 ,  G09G2320/0633 ,  G09G2330/021 ,  G09G2360/144 ,  G09G2360/145 ,  H01L31/02162 ,  H01L31/02327 ,  H01L31/1013 ,  H01L31/167 ,  H01L31/02164 ,  H01L31/103

Abstract: 为了提供能够同时实现作为照度传感器和接近传感器的功能的一体型传感器，传感器(1)包括受光元件部(E1)、红外除去滤光片(IRcutF)和对受光元件部(E1)的光谱特性进行切换的切换部(SWS)，红外除去滤光片(IRcutF)形成有开口部，与可见光接收用PN(PDvis)相比，红外光接收用PN结(PDir)形成在衬底(SUB)的较深的位置。

公开(公告)号：CN102967364B

公开(公告)日：2014-11-05

申请号：CN201210253419.9

申请日：2012-07-20

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 井上高广 ,  木村直正

IPC: G01J1/44

CPC classification number: G01J1/4204 ,  G01J1/0488 ,  G01J1/4228 ,  G01J1/44 ,  G01J3/506

Abstract: 提供一种传感器电路以及电子设备。不论对各个光接收元件是否一样地照射光，传感器电路都会进行照度的测定而不会在各个分光特性的检测结果产生偏向或灵敏度的偏差，该传感器电路包括光接收元件（PD1、PD2），各个光接收元件（PD1、PD2）从互不相同的分光特性（A、B）中设定一个分光特性，各个光接收元件（PD1、PD2）在照度的测定时，依次切换设定分光特性（A、B），使得成为互不相同的分光特性。

公开(公告)号：CN101471352B

公开(公告)日：2013-05-22

申请号：CN200810190776.9

申请日：2008-12-24

Applicant: 精工电子有限公司

Inventor： 近江俊彦 ,  中田太郎

IPC: H01L27/144 ,  H01L23/552 ,  G01J1/42 ,  G09G5/10

CPC classification number: H01L31/101 ,  G01J1/02 ,  G01J1/0209 ,  G01J1/0214 ,  G01J1/04 ,  G01J1/0437 ,  G01J1/0488 ,  G01J1/18 ,  G01J1/4228 ,  G01J1/46 ,  H01L27/14645

Abstract: 透射待检测的光并且具有导电性的屏蔽设置在光电二极管(1和2)的光接收表面上，以防止光电二极管(1和2)由于从外部进入的电磁波而感生电荷。具有取决于光的波长的透光率的两种滤光件分别设置在光电二极管(1和2)的光接收表面上，从而取它们光谱特性之间的差。屏蔽和滤光件可由例如多晶硅或者给定导电类型的半导体薄膜来制成，并且可易于通过将那些制造工艺结合到半导体制造工艺中来制造。

公开(公告)号：CN101184139B

公开(公告)日：2013-02-20

申请号：CN200710129662.9

申请日：2007-08-01

Applicant: 富士施乐株式会社

Inventor： 酒井则和 ,  志水三男

IPC: H04N1/024 ,  H04N1/04 ,  H05B37/02

CPC classification number: G01J1/32 ,  G01J1/04 ,  G01J1/0411 ,  G01J1/0488 ,  G01J3/51 ,  G01J3/513 ,  G03G15/0435 ,  H04N1/484

Abstract: 本发明公开一种图像读取装置、图像形成装置以及光源控制装置，该光源控制装置包括：光量检测单元，其分别检测从光源部件发射的与色光三原色对应的三种色光的反射光的光量；光量比计算单元，其计算由所述光量检测单元检测的反射光的光量比；判断单元，当所述光量检测单元检测从所述光源部件发射的三种色光的各基准反射光的光量时，所述判断单元判断由所述光量比计算单元计算的光量比是否在预定范围之内；以及光量比调整单元，其根据所述判断单元的判断结果，基于与从所述光源部件发射的绿色光对应的光的基准反射光的光量，分别调整从所述光源部件发射的三种色光的光量比。

公开(公告)号：CN102789142A

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN201210134091.9

申请日：2012-04-28

Applicant: 英特赛尔美国股份有限公司

Inventor： I-S·孙 ,  R·C·杰罗姆 ,  F·希伯特

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/16 ,  G02B5/20 ,  G02B1/10 ,  H01L21/31

CPC classification number: G01J1/0488 ,  G01J1/42 ,  G01J1/4204 ,  G09G2360/144

Abstract: 本发明提供了用于促进剥离工艺的系统及方法。在一个实施方案中，一种用于在衬底上对薄膜进行图案布置的方法包括：将光致抗蚀剂材料的第一牺牲层沉积在衬底上，以使得所述衬底的一个或多个区域穿过所述第一牺牲层暴露；将保护层沉积在所述第一牺牲层上的至少部分之上；将所述第一牺牲层部分地除去以在所述保护层与所述衬底之间形成至少一个间隙；将光学镀膜沉积在所述保护层和穿过所述第一牺牲层暴露的所述衬底的所述一个或多个区域之上，其中沉积在所述保护层之上的所述光学镀膜由所述至少一个间隙与沉积在穿过所述第一牺牲层暴露的所述衬底的所述区域之上的所述光学镀膜分隔开；以及将所述第一牺牲层除去。