公开(公告)号：CN108028384A

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201680054719.0

申请日：2016-09-23

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 园部健矢 ,  足立祐辅

IPC: H01M4/62 ,  C08F20/58 ,  H01M4/13 ,  H01M4/139

CPC classification number: C08F20/58 ,  H01M4/13 ,  H01M4/139 ,  H01M4/62

Abstract: 本发明的非水系二次电池电极用粘结剂组合物包含水溶性聚合物，上述水溶性聚合物含有0.1质量％以上且20质量％以下的来自通式(1)：CH2＝C(R1)‑NH‑R2‑OH(其中，R1为氢或烷基，R2为(CHR3)n(O(CHR3)m)l[其中，n＝1～10，m＝1～4，及l＝0～3，进而，R3为氢或碳原子数为1～4的烷基])所表示的单体的单体单元。

公开(公告)号：CN104395358A

公开(公告)日：2015-03-04

申请号：CN201380031999.X

申请日：2013-06-04

Applicant: 比克化学股份有限公司

Inventor： 贝恩德·格贝莱特 ,  约尔根·奥梅斯 ,  R·纳吉尔斯迪克 ,  M·迈希斯纳

IPC: C08F8/14 ,  C08F8/32 ,  C08F8/44 ,  C08F267/04 ,  C08F283/06 ,  C08F293/00 ,  C08F210/14 ,  C08F212/08 ,  C08F220/06 ,  C08G81/02 ,  C09D187/00

CPC classification number: C08F267/04 ,  C08F8/14 ,  C08F8/44 ,  C08F18/14 ,  C08F18/16 ,  C08F20/26 ,  C08F20/34 ,  C08F20/36 ,  C08F20/58 ,  C08F20/60 ,  C08F212/08 ,  C08F218/14 ,  C08F218/16 ,  C08F220/06 ,  C08F220/34 ,  C08F220/58 ,  C08F220/60 ,  C08F222/06 ,  C08F222/08 ,  C08F222/20 ,  C08F222/22 ,  C08F267/02 ,  C08F283/06 ,  C08F293/00 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/285 ,  C08F2220/286 ,  C08F2220/287 ,  C08F2220/288 ,  C08F2220/305 ,  C08F2220/306 ,  C08F2220/307 ,  C08F2220/308 ,  C08F2220/346 ,  C08F2220/603 ,  C08F2220/606 ,  C08F2222/205 ,  C08F2222/225 ,  C08L51/003 ,  C08L87/005 ,  C09D151/003 ,  C08F8/32

Abstract: 本发明涉及可用作润湿剂和分散剂的共聚物，其含有i)40-73mol％的基础结构单元(A)以及ii)27-60mol％的取代的二羧酸衍生物结构单元(B)，其中所述结构单元(B)包含具有双酰胺结构的物质种类以及具有季铵化的氨基的物质种类。

公开(公告)号：CN107922323A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201680049827.9

申请日：2016-09-16

Applicant: S.P.C.M.股份公司

Inventor： 赛德瑞克·法弗罗 ,  约翰·基弗

IPC: C07C303/02 ,  C08F220/56 ,  C07C309/15

CPC classification number: C07C303/20 ,  C07C303/02 ,  C07C303/22 ,  C08F20/58 ,  C07C309/15 ,  C08F2220/585 ,  C08F220/44

Abstract: 本发明涉及生产2-丙烯酰氨基-2-甲基丙烷磺酸的方法。所述方法包括将丙烯腈、发烟硫酸和异丁烯在一起反应。其特征在于所述异丁烯包含小于1000ppm的丁二烯和小于1000ppm的丁烯。

公开(公告)号：CN107881150A

公开(公告)日：2018-04-06

申请号：CN201710826297.0

申请日：2017-09-14

Applicant: 住友橡胶工业株式会社 ,  国立大学法人山形大学

Inventor： 皆川康久 ,  田中贤 ,  干场隆志 ,  涉谷智和

IPC: C12N5/09

CPC classification number: G01N33/491 ,  C08F20/58 ,  C12N5/0693 ,  C12N2533/30 ,  G01N33/5005 ,  G01N2030/8822 ,  G01N2030/885 ,  C12N2509/00

Abstract: 本发明提供一种捕获癌细胞的方法，其可以捕获多种类型的癌细胞，所述癌细胞包括不表达EpCAM的癌细胞。本发明涉及用于捕获存在于生物流体中的癌细胞的方法，所述方法包括降低采样的生物流体的蛋白质水平，然后使用亲水性聚合物层捕获癌细胞。

公开(公告)号：CN103108845A

公开(公告)日：2013-05-15

申请号：CN201180043227.9

申请日：2011-09-06

Applicant: 东亚合成株式会社

Inventor： 后藤彰宏 ,  松崎英男

IPC: C04B35/632 ,  B28B3/20 ,  C08F20/06 ,  C08F20/58

CPC classification number: C04B35/632 ,  C04B24/12 ,  C04B24/124 ,  C04B35/195 ,  C04B35/634 ,  C04B2235/5427 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/5463 ,  C04B2235/6021 ,  C04B2235/606 ,  C04B2235/9638 ,  C08F4/40 ,  C08F20/06 ,  C08F20/58 ,  C08F220/06 ,  H01B1/12 ,  C08F220/56 ,  C08F2220/286 ,  C08F2222/108 ,  C08F2220/585

Abstract: 本发明涉及在陶瓷坯土中发挥充分的吸水力、能够高度地兼具挤出成型时的高流动性和低负荷性以及挤出后的高保形性、包含聚合物微粒的陶瓷成型用添加剂。本发明的陶瓷成型用添加剂含有聚合物微粒，该聚合物微粒的特征在于，用离子交换水饱和溶胀了的状态下的平均粒径为10～150μm，常压下的离子交换水的吸水量为10～60mL/g，使1质量份该聚合物微粒分散于110质量份离子交换水中而得的水分散液在25℃下的电导率为1500μS/cm以下。

公开(公告)号：CN102471405A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080032144.5

申请日：2010-08-17

Applicant: AGC清美化学股份有限公司

Inventor： 石渡房惠 ,  平林涼 ,  清水裕贵

IPC: C08F20/58 ,  C07C233/49 ,  C09K3/00 ,  C09K3/18

CPC classification number: C07C233/49 ,  C08F20/58 ,  C08F220/22

Abstract: 本发明提供不局限于聚氟烷基的碳数为6以下、且可形成与以往的含有碳数8以上的聚氟烷基的聚合物具有相同拒油性的聚合物的由式(a)表示的化合物及其用途。CH2＝CR1-CONJ-CKR2-(CH2)n-COO-Q1-Rf1 (a)，R1：氢原子或甲基，R2：氢原子或由-(CH2)m-COO-Q2-Rf2 (r)表示的基团，n及m：相互独立地为0～4的整数，Rf1及Rf2：相互独立地为碳数1～6的聚氟烷基或聚氟醚基，Q1及Q2：相互独立地为单键或2价的连结基团，J：氢原子或碳数1～3的烷基，K：氢原子、碳数1～3的烷基。j及k：相互独立地为单键或碳数1～3的亚烷基。其中，j及k不可同时为单键。

公开(公告)号：CN1699436A

公开(公告)日：2005-11-23

申请号：CN200410092956.5

申请日：2000-06-26

Applicant: 现代电子产业株式会社

Inventor： 洪圣恩 ,  郑旼镐 ,  白基镐

IPC: C08F220/10 ,  C09D133/08 ,  H01L31/036

CPC classification number: C08F20/58 ,  C07C303/28 ,  C07C309/73

Abstract: 本发明涉及适用于采用193nm ArF辐射线的亚微平版印刷方法中的半导体器件的抗反射涂料用聚合物，抗反射涂料组合物，及其制备方法。所述聚合物含有在193nm波长处具有高吸收的苯基侧基。当本发明的抗反射涂料用于形成超细图案时，消除了在晶片下层的光学性质及其上的光敏薄膜厚度的改变而引起的驻波，也可防止光从下层衍射及反射而引起临界尺寸变化。本发明的抗反射涂料可稳定地生成适用于半导体器件的超细图案，且产率大大提高。

公开(公告)号：CN1290712A

公开(公告)日：2001-04-11

申请号：CN00107857.7

申请日：2000-06-26

Applicant: 现代电子产业株式会社

Inventor： 洪圣恩 ,  郑旼镐 ,  白基镐

IPC: C08F220/10 ,  C09D133/08 ,  H01L31/036

CPC classification number: C08F20/58 ,  C07C303/28 ,  C07C309/73

Abstract: 本发明涉及适用于采用193nm ArF辐射线的亚微平版印刷方法中的半导体器件的抗反射涂料用聚合物,抗反射涂料组合物,及其制备方法。所述聚合物含有在193nm波长处具有高吸收的苯基侧基。当本发明的抗反射涂料用于形成超细图案时,消除了在晶片下层的光学性质及其上的光敏薄膜厚度的改变而引起的驻波,也可防止光从下层衍射及反射而引起临界尺寸变化。本发明的抗反射涂料可稳定地生成适用于半导体器件的超细图案,且产率大大提高。

公开(公告)号：CN1010684B

公开(公告)日：1990-12-05

申请号：CN88102991

申请日：1988-05-24

Applicant: 中国科学院长春应用化学研究所

Inventor： 陈天禄 ,  袁雅桂 ,  徐纪平

IPC: C08G65/40

CPC classification number: C08F20/58 ,  C08F120/58 ,  C09K8/035 ,  C09K8/5083

Abstract: 含酞侧基的聚醚醚酮的合成新方法，本发明是对CN85108751方法的改进。采用活性二硝基二苯酮替代二氯二苯酮作为单体之一，可降低反应温度，缩短反应时间，提高反应产物的比浓粘度，从而使PEK-N的物性及加工性能更好，可用于进行流延或压制成比PEK-WC强度好的电气绝缘薄膜；更好机械性能的微滤和超滤功能膜；更适于化学改性以制得高性能荷电膜等。

公开(公告)号：CN108164477A

公开(公告)日：2018-06-15

申请号：CN201611112550.8

申请日：2016-12-07

Applicant: 深圳市有为化学技术有限公司

Inventor： 王智刚 ,  丁浩宇 ,  胡朗希 ,  郑成

IPC: C07D295/185 ,  C07C231/02 ,  C07C233/09 ,  C07C231/14 ,  C07C233/38 ,  C07C233/20 ,  C07C233/31 ,  C08F20/58 ,  C08F2/48 ,  C09D163/10

CPC classification number: Y02P20/544 ,  C07D295/185 ,  C07C231/02 ,  C07C231/14 ,  C08F2/48 ,  C08F20/58 ,  C09D163/10 ,  C07C233/09 ,  C07C233/38

Abstract: 本发明涉及新材料精细化学品领域，特别涉及一类单或多官能度丙烯酰胺型化合物的温和高效且经济性制备新工艺技术，该类物质是重要的含烯不饱和型化合物，在辐射聚合固化材料或医疗应用材料等领域有日益广泛的用途。